JPS63102848A - 真空吸着台 - Google Patents

真空吸着台

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Publication number
JPS63102848A
JPS63102848A JP61247687A JP24768786A JPS63102848A JP S63102848 A JPS63102848 A JP S63102848A JP 61247687 A JP61247687 A JP 61247687A JP 24768786 A JP24768786 A JP 24768786A JP S63102848 A JPS63102848 A JP S63102848A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
plate
valve
vacuum
suction hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61247687A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Sumiyoshi
住吉 政夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP61247687A priority Critical patent/JPS63102848A/ja
Publication of JPS63102848A publication Critical patent/JPS63102848A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウニ八−やガラスマスクなどの薄板
体を真空吸着して保持する真空吸着台に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
半導体を製造する際に用いられるレジスト塗布装置、ス
ピンドライヤー、マスクアライナ−、パターン検査装置
などには、半導体ウニ八−やガラスマスク等の薄板体を
真空吸着して保持する真空吸着台が使用されている。
第2図は従来の真空吸着台の一例を示すもので、Aは平
面図、BはAのB−Blの断面図である。
図において、1は台板、IILはその凹部で、円形状の
横断面形状を有する。2ば円形状の板状体からなり、上
記凹部1aの開口端部側を覆うように台板1に固着され
る吸着板で、その上に真空吸着する薄板体(図示せず)
が載置される。3は1m程度の直径を有し吸着板2を貫
通するように複数個形成された吸着孔で、吸着板2の上
面に載置された薄板体(図示せず)を真空吸着する。4
は一端が台板1の側壁を貫通して固着され、他端が真空
装置(図示せず)に接続されるニップルである。
次に、この従来の真空吸着台の動作を第3図Aで説明す
る。図に示すように、吸着板2の上面に全部の吸着孔3
を閉鎖することができる横断面形状を有する薄板体5a
をMfe!した場合は、凹部1a内をニップル4を通じ
て真空にすることができるので、吸着板2の上面に薄板
体5aを真空吸着して保持することができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが以上に示した従来の真空吸着台では、第3図A
の様に吸着板2の吸着孔3の全てを塞ぐ様な薄板体5a
であれば、上記の様に吸着板2の上面に完全に真空吸着
でき保持することができるが、第3図Bに示すような吸
着板2の上面の全部の吸着孔3を塞ぐことができない横
1tlr面形状を有する薄板体5bが載置された場合に
は、薄板体5bによって塞がれていない吸着孔3を通じ
て外気が凹部1a内に流入し、凹部1a内を真空状態に
保つことができなくなるため、吸着板2の上面に載置さ
れた薄板体5bを真空吸着して保持することが不可能で
あるという問題があった。
そこでこの問題点を解決する方法として、第4図に示す
真空吸着台が提案されている。即ち、吸着孔3の直下に
弁室2aを設けるとともに、成る角度θで曲げられた板
状弁6が弁受け7に第2の吸着孔8を塞ぐように設けら
れている。
この様に形成した真空吸着台を用いて薄板体5bを真空
吸着すると、吸着板2上に載置された薄板体5bによっ
て吸着孔3が塞がれている場合には、板状弁6を押し下
げる力が作用しないので、弁室2aと第2の吸着孔8は
通じており、薄板体5bを真空吸着できる。一方、第4
図Aの左半分に示す様に、吸着板2の吸着孔3が閉鎖さ
れていない場合には、吸着孔3を通して弁室2a内へ流
入する外気の圧力によって、板状弁6aが弁受け7へ押
し付けられて外気の流路を閉鎖するので、第3図Aに示
した真空吸着台の様に台板1の凹部1a内の真空状態を
保つことができるというものである。
ここで、板状弁6の材質としては、to、05〜0.1
臘程度のシリコンゴム板等が用いられており、これらシ
リコンゴム等の薄板を一定の角度θで曲げ加工するのは
非常に困難で、角度θが大きくなると板状弁6が第2の
吸着孔8を塞ぐことができなくなるため、薄板体5bを
真空吸着することができない。又、角度θが小さ過ぎる
と、第2の吸着孔8が常に塞がった状態となるため、同
様に薄板体5bを真空吸着することができない等板状弁
6の曲げ角度θをきびしくコント党−ルする必要があり
、量産性の低いものであった。
この発明は、上記従来の問題点を解決するためのもので
、吸着板の吸着孔を全て塞ぐことのできない横断面形状
を有する薄板体でも真空吸着して、確実に保持できるよ
うにした真空吸着台を提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明による真空吸着台は、吸着孔の全てに、吸着孔
が開放状態になった時流入する外気によって閉鎖状態に
なる板状弁を設けるとともに、この板状弁の弁受は部分
に板状弁の角度を一定に保つための突起を設けたもので
ある。
〔作用〕
この発明における突起により、板状弁の角度を一定にで
きるため、薄板体の大小にかかわらず確実に真空吸着す
ることができるようになる。
〔実施例〕
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図であり、図に
おいて、1〜8は第4図に示したものと同様のものであ
り、9は弁受け7上の第2の吸着孔8の周りに設けられ
た突起である。
この様に形成した真空吸着台を用いて薄板体5bを真空
吸着すると、吸着板2上に載置された薄板体5bによっ
て吸着孔3が塞がれている場合には、板状弁6を押し下
げる力が作用しないので、弁室2aと第2の吸着孔8は
通じており、薄板体5bを真空吸着できる。一方、第1
図Aの左半分に示す様に、吸着板2の吸着孔3が閉鎖さ
れていない場合には、吸着孔3を通して弁室2a内へ流
入する外気の圧力によって、板状弁6aのように弁受け
7へ押し付けられて外気の流路を閉鎖するので、台板1
の凹部1a内の真空状態を保つことができる。
ここで従来の真空吸着台では、板状弁6の角度θが一定
でないため薄板体5bを真空吸着できない場合が生じた
カ一本発明の真空吸着台では、板状弁6の角度θが、全
て一定になるため、薄板体5bを確実に吸着することが
できる。
なお突起9の高さ、幅等は、板状弁6の材質、厚さ又は
希望する角度θにより決めれば良い。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明の真空吸着台では、薄板
体を真空吸着する吸着板の吸着孔が薄板体によって塞が
れているとき、板状弁は開放状態になり、塞がれていな
いときには吸着孔を通して流入する外気の圧力によって
閉鎖状態になる板状弁を設け、かつ弁受は部に板状弁の
角度を一定に保つ突起を設けたもので、吸着板の吸着孔
の全部を塞ぐことができない横断面形状を有する薄板体
や、そり又はうね鴫のある薄板体でも一部が吸着口を閉
鎖すれば、真空吸着することができるとともに、板状弁
の角度を全く無調整で、単に組立てるだけで常に一定に
なるtこめ、非常に量産性の高い真空吸着台が得られる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図Aはこの発明の一実施例を示す断面図、第1図、
BはA図の一部の拡大図、第2図は従来の真空吸着台を
示すもので、Aは平面図、BはAのB−BI3断面図、
第3図A、Bはその作用説明図、第4図は他の従来例を
示すもので、Aは断面図、Bは一部の拡大図である。 図中、1は白板、2は吸着板、2aは弁室、3は吸着孔
、5bは薄板体、6,6aは板状弁、7は弁受け、8は
第2の吸着孔、9は突起である。 尚、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  薄板体を真空吸着する複数個の吸着孔が形成された吸
    着板を有する真空吸着台であって、上記吸着孔の全てに
    、それぞれ該吸着孔に連通し該吸着孔が上記薄板体によ
    って塞がれている時には開放状態となり、塞がれていな
    い時には上記吸着孔を通して流入する外気によって閉鎖
    状態になる板状弁を有する真空吸着台において、上記板
    状弁の弁受け部分に上記板状弁の角度を一定に保つため
    の突起を設けたことを特徴とする真空吸着台。
JP61247687A 1986-10-17 1986-10-17 真空吸着台 Pending JPS63102848A (ja)

Priority Applications (1)

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JP61247687A JPS63102848A (ja) 1986-10-17 1986-10-17 真空吸着台

Applications Claiming Priority (1)

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JP61247687A JPS63102848A (ja) 1986-10-17 1986-10-17 真空吸着台

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JPS63102848A true JPS63102848A (ja) 1988-05-07

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JP61247687A Pending JPS63102848A (ja) 1986-10-17 1986-10-17 真空吸着台

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