JPS6310343A - 情報記録デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、情報信号を光学的手段により基材上の光記録
媒体に記録し、その記録した信号を再び光学的手段によ
り再生する情報記録ディスクに関する。

〔従来の技術〕

従来の情報記録ディスク（以下、光ディスクと記す）で
は、割れ防止の化学処理を施したガラス板または熱可塑
性樹脂、例えばポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂の
射出成形板などの面上に所定の加工を施したものが、基
板として用いられている。このうちガラス板は、トラッ
クサーボ系の案内溝加工が煩雑であるため複製板の大量
生産に適さない不利な点があり、また材質がガラスであ
ることから割れやすく、取扱性に問題が残り、そのため
その用途は汎用性を欠き、現状では業務用に限られてい
る。また、熱可塑性樹脂板のうち、ポリカーボネート樹
脂板は、その材質、分子構造に由来して光弾性率が大で
あり、かつ成形時の熱履歴の時間遅れが板面上の各部位
で相違することなどにより、複屈折度が大、各部位にお
ける複屈折度の変動範囲が大と、ディスク基板としては
致命的な欠陥をもっている。また、アクリル樹脂板は、
高吸湿性で、その平衡吸湿率は３％に及び、かつ耐熱温
度が低く（熱変形温度８０℃）、吸・脱湿および温度変
化による変形、寸法変化も大であって、改善を要する課
題を内在している。また、ポリカーボネート、アクリル
、それらの変性樹脂の射出成形板では、円板中心部から
溶融樹脂を成形型内に流し込み、冷却・同化をまって成
形体を得るので、成形体にには外周から中心部に向けて
残留応力が残り、かつ中心部では成形体表面の配向ひず
みも大きくなり、小径品は成形特応力の変動によって光
学的特性が低下し、かつ変動幅が広がるので、ディスク
基板として適さない。

上記した一般的状況に対して、本発明に近い公知例とし
て、特開昭５７−１５２３５号公報に記載の基板・その
製造法がある。この製造法では、所定形状の溝・ビット
などを面上にあらかじめ設けてなる原盤と、光学的に透
明な厚さ１ｎｗ＋の注形法でつくられたアクリル樹脂板
を裏打ち基材として、両者の中間にスペーサを介し、そ
の隙間に紫外線照射により重合・硬化する樹脂を流し込
み、これに紫外線を当てて樹脂の重合・硬化を促し、硬
化後原盤を加熱して、原盤と、裏打ち基材と一体となり
、原盤面上の形状を転写した紫外線硬化樹脂硬化物とを
引き離して、目的とする基板を得ている。

この方法で得た基板は、原盤面上の凹凸形状を精度良く
写しとり、かつ裏打ち基材、紫外線硬化樹脂層が共に注
形法でつくられていることから、前記した射出杉板に見
られる溶融樹脂の流動挙動に起因する板肉部位による特
性変動はない。しかし、裏打ち基板を用いることにより
製作工程が煩雑となり、また光記録媒体の成膜面が紫外
線硬化樹脂であって耐熱温度が低いので、光記録媒体の
成膜を樹脂の耐用温度以下ですることが必要である場合
など、−例をあげれば、高融点でスパッタ率の低い光磁
性材料（Ｔｂ　、　Ｆｅ　、　Ｓｓ　、Ｃｏ　、Ｇｄな
ど）の成膜時の熱変形を促すなどの点で、不利である。

さらに、裏打ち基板を用いる理由は不詳であり、これを
用−４＝ いなくて済めば、その経済的効果は必然的に増大する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術は、光記録媒体に用いる材料の性質につい
て配慮がされておらず、基板の耐熱性および耐湿性の点
で問題があった。すなわち、光記録媒体の記録・再生性
を良くし、ディスク板面内特性変動やロット間の品質変
動を少なくするには、好適な記録媒体材質の選定に加え
て、該媒体膜と基板との付着力を増すこと、および媒体
膜を形成する基板が高耐熱性、高耐湿性を備えているこ
とが必要である。特に、記録媒体のうち光磁気記録媒体
を構成する材料は、高融点、低スパツタ率で吸湿による
変質の大きい材料であって、基板面上への成膜速度を上
げること、形成された膜の耐久性向上などから、基板に
対する耐熱性や耐湿性の要求は厳しい。

本発明の目的は、基板が高耐熱性、高耐湿性を備え、該
基板と記録媒体膜との付着性に優りた情報記録ディスク
を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

一ヒ記目的は、記録媒体膜の成膜基板として高耐湿・高
耐熱性でかつ光記録媒体膜との付着性の良い硬質材料板
を用い、さらに、光記録媒体膜面上にその耐用性を上げ
るための保護材層を設けることなしに、直に紫外線照射
または紫外線照射と加熱併用重合・硬化樹脂板を配置す
ることによって、達成される。

本発明は、上記手段に対応するものとして、基板には、
トラックサーボ用案内溝、ピット列を簡易な抑圧加工で
表面に設けたアルミニウム、その合金、またはそれらに
表面処理を施した材料による基板を用いているので、耐
熱性、耐湿性に関する問題は解消される。

また、−上記基板面上には、公知技術である真空蒸着、
イオンブレーティング、スパッタリングなどにより記録
媒体膜を形成し、この面上に保護膜なしで直に所定厚さ
、すなわち現流の光ディスクに則して示せばＩＩＩＩＩ
Ｉないし１．２１１Ｉ１１の樹脂層を単一体で形成し、
構成、工法の簡易化を実現している。

上記樹脂層に用いる樹脂材料は、ビスフェノール形エポ
キシ樹脂または脂環式エポキシ樹脂にアクリル酸を付加
してなるエポキシアクリレートを主成分として、これに
紫外線硬化剤を加え、必要に応じて、過酸化物からなる
加熱硬化剤１反応性希釈剤、架橋性オリゴマ、その他の
添加剤、例えば硬化促進剤、フッ素系界面活性剤、重合
禁止剤、熱可塑性樹脂などを添加してなる樹脂組成物、
または紫外線照射によりカチオンを発生する硬化剤、例
えばオニウム塩を含むビスフェノール形エポキシ樹脂ま
たは脂環式エポキシ樹脂を主成分とし、これに必要に応
じて酸無水分例えば無水へキサヒドロフタル酸、第三級
アミン、高級脂肪酸もしくはその金属塩、消泡剤などの
添加剤を含んだ組成物であり、紫外線照射または紫外線
照射と加熱との併用によって重合・硬化して、樹脂層を
形成する。

〔作用〕

上記構成により、まず基板の耐熱性、耐湿性の問題につ
いては、前記したように、アルミニウム、その合金、ま
たはこれらに表面処理を施した金属材料を用いることに
より解消され、また、その面上に、真空蒸着、イオンブ
レーティング、スパッタリングなどにより記録媒体を形
成するので、基板と記録媒体膜との付着性は優れており
、さらに、その面上に、前記した樹脂組成物を用い、紫
外線照射または紫外線照射と加熱との併用により重合・
硬化して樹脂層を形成するので、従来のポリカーボネー
ト樹脂、アクリル樹脂などの熱可塑性樹脂に比べて、よ
り優れた高耐熱性、高耐湿性のある樹脂硬化物とするこ
とができる。

また、本発明によれば、従来技術の公知例に見られるよ
うな抑型面と樹脂との接触はないので、離型に関する障
害の発生要因はなく、所定厚さの樹脂層を裏打ち基材な
しの昨一体で容易に得ることができる。

〔実施例〕

最初に本発明の詳細な説明し、次いで具体的条件を示し
た実施例について述べる。

アルミニウム、その合金類からなる成膜基板へのトラッ
クサーボ用の案内溝、ビット列は、第２図に示すように
、表面に所定の溝、ピットなどの凹凸形状を設けてなる
ニッケルめっきをした押型１−１をつくり、これを窒素
ガス、窒素と水素との混合ガス（いわゆるフォミングガ
ス）またはアンモニアガスのプラズマ２の下に凹凸形状
面をばく露して、押型１−１の凹凸形状面からその反対
面に向けて窒化する。得られた押型面の硬化度は、第３
図に見るように、表面から内側に向けて浸透窒素が漸減
し、これによって、押型表面のかたさが高、内部のかた
さが低であり、強靭性を備えた押型１−２を得た。−例
をあげると、アンモニアガス分圧Ｉ　Ｘ　１０−’　〜
７　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ、高周波人力５００Ｗで励起
したプラズマの下で、ばく置時間が２００分の例では、
押型表面１−２′のかたさは微小かたさで５００ないし
５５０ｋｇ／ｌｌ１２であった。この値はプラズマ処理
前の１−１′部相当の値の２．５倍で、アルミニウム合
金のかたさの５ないし６倍に当たり、この後の抑圧手順
の中で押型１−２として十分に使えるかたさを保ってい
る。

上記のようにして得た表面硬化がなされた押型１−２を
用いて被成形板３−１を押圧して、押型１−２面上に設
けられである凹凸形状を負転写（凹を凸に、凸を凹に転
写）する。その状況を第４図ないし第７図に示す。第４
図に示すように、表面に硬化処理を施した押型１−２と
被成形板３−１、例えば厚さ０．１ｍｍの耐食アルミニ
ウム板とを所定の平行度を保って対向させ、第５図のよ
うに、押型１−２を駆動して被成形板３−１を１５０ｋ
ｇ／ｄの押圧力４で押圧し、負荷状態で１０秒間保ち、
しがるのち第６図のように除荷して、押型１−２と、押
型面の凹凸形状を押圧側面上に負転写してなる成形板３
−２とを引き離して、抑圧面上に案内溝またはピット列
を設けてなる成形板３−２を得る。

その後の手順では、成形板３−２を成膜基板として用い
、その面上に、第７図に示すように、熱吸収性、光記録
性などの機能を備えた光記録媒体膜５−１を真空蒸着、
イオンブレーティング、スパッタリンクなどにより形成
する。すなわち、従来技術における光ディスクは、透明
基板の片面に光記録媒体膜を形成するか、または信号痕
を印して、その反対面からレーザ光を照射する構成のも
のであったが、本発明においては、アルミニウム、その
合金類などの不透明板を成膜基板として用いることによ
り、従来技術による光ディスクの構成を−変し、成膜の
簡易化、ディスク特性の向−ヒを図るとともに、使用す
る材料、製法の多様化を促している。

次に、第７図に示した光記録媒体膜５−１を面上に設け
てなる成膜基板３−２と、紫外線を透過する石英ガラス
円板６とを、所定寸法の高さにしであるリング状のスペ
ーサ７を介して、第８図に示すように対向させ、次いで
第８図に示すようにスペーサ７によって隔てられてなる
隙間に、単一樹脂板を構成するように、紫外線照射また
は紫外線照射と加熱との併用によって硬化する液状樹脂
を所定量、すなわち重合・硬化による厚さ方向の収縮を
見込んで収縮後の厚さが所定寸法になる量を注入して紫
外線９を照射し、十分に硬化するが、または石英ガラス
円板６およびスペーサ７と樹脂１１一 部とを引き離しても樹脂部が変形しない程度、すなわち
硬化度が４０ないし６０％、すなわちモノマ残存率では
１ないし６％程度にまで硬化させる。ここで、第１図の
ように、石英ガラス円板６、スペーサ７を引き離す。紫
外線重合・硬化樹脂部８は、光記録媒体膜５−１を設け
た耐食アルミニウムの成膜基板３−２と十分接着し、一
体化して離れる。

紫外線照射と加熱を併用するものは、引き続いて十分に
硬化するまで加熱する。硬化条件は、温度８０ないし１
３０℃、加熱時間は３０ないし１８０分である。

このようにして、トラックサーボ用案内溝を押型による
抑圧で板面上に設けてなる耐食アルミニウム板に、さら
に光記録媒体膜を形成し、ここで、光記録媒体膜を保護
層なしで直に紫外線重合・硬化樹脂単一層で覆った光デ
ィスク１０を得る。

また、上記とは別手順による場合は、前に第４図から第
７図に示した製作順序を第１０図から第１３図に示す手
順に置き換える。すなわち、第１Ｏ図に示すように、所
定の厚さをもつアルミニウム合金板からなる被成形体３
−１の面上に光記録媒体膜５−２を形成して、これを被
成形基板１１とし、次いで。

表面硬化した押型１−２によって、光記録媒体膜５−２
を表面に設けてなるアルミニウム合金板の被成形体３−
１を、第１１図、第１２図に示す手順で加圧力４により
光記録媒体膜面側から押圧して、押型面の凹凸型状を転
写してなる基板１２を得た。

このとき、抑圧変形で生じる光記録媒体膜５−２の変形
のび量は１ないし１．５％であり、光記録媒体５−２の
材料、例えば内外によく知られている低酸化テルル（Ｔ
ｅｎ１．。）、ビスマス（Ｂｉ）三セレン化アンチモン
（Ｓｂｚ　Ｓｅ、）、光磁性体（Ｔｂ−Ｆｅ−ｃｏ）な
どの引張りのび率は３ないし５％であるので、押型１−
２による押型変形範囲内では光記録媒体膜５−２の破れ
は全く発生せず、変形部と未変形部との反射率比は凹凸
面上に成膜したものと変らない値を得ている。その後、
第１３図に示すように、押型１−２と基板１２とを引き
離し、これから後の扱いは前に第７図、第８図および第
１図に示した同じ手順を順次経て、第１図に示したと同
様な紫外線硬化樹脂単一層を設けてなる光ディスクを得
る。

以下、具体的条件を示した実施例について説明する。

犬施例」−１ 表面を研摩（中心線平均あらさＲａ：ｏ、ｏｏ８／／ｆ
ｌ＋）した厚さ０．２＋ｎｍ、直径２００ｍの耐食アル
ミニウム板を被成形板３−１とし、これを、あらかじめ
用意した表面硬化処理を施し、表面かたさＨＭＶ：５２
０ｋｇ　／　ｎｕｎ　２に保った押型１−２で押圧プ月
６０ｋｇ／ａｌｌで押圧し、抑圧状態を１０秒間保って
、表面に押型１−２面上の凹を凸に、凸を門にそれぞれ
負転写した耐食アルミニウム板を得た。上記のようにし
て押型１−２の表面形状を写しとった耐食アルミニウム
板を成膜基板３−２として、この板面に反応性高周波イ
オンブレーティング法により、酸素プラズマ下でテルル
（Ｔｅ）を電子ビーム溶解・蒸発させ、酸化を促して生
成した低酸化テルル（Ｔｅｎ。、ｇ）膜を形成する。こ
こで、成膜法としては反応性高周波イオンブレーティン
グ法を採っているが、これは−例であり、本発明はこれ
に限定されるものではなく、スパッタリング法、あるい
は真空蒸着法でもよい。また、成膜材料には、合目的的
に相変態材料、すなわち三セレン化アンチモン、ビスマ
ス、または光磁性材料（Ｔｂ−Ｆｅ−ｃｏ）などが選ば
れる。

続いて、前に第８図に示した構成により、光記録媒体膜
５−１を表面に設けた耐食アルミニウム板による成膜基
板３−２と石英ガラス円板６とをスペーサ７を介して所
定の距離、ここでは１．１ｍを隔てて対向させ、それか
ら、石英ガラス円板６と成膜基板３−２とによって形成
された隙間に紫外線硬化型樹脂を注入する。紫外線硬化
型樹脂は、ここでは、エポキシ当量４７０のビスフェノ
ールＡ形エポキシ樹脂のエポキシ基１当量にアクリル酸
１当量を付加反応させてなるエポキシアクリレート６０
重量部、１，６ヘキサンジオ一ルジアクリレート１０重
量部、トリメチロールプロパントリアクリレート１０重
量部、フェノキシエチルアクリレート２０重量部、１−
ヒドロキシシクロへキシルフェニールケトン２重量部、
ペンジルジメチルケター−１５＝ ル１重量部、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーロキシ）３
．３．５トリメチルシクロヘキサン３重量部からなる紫
外線硬化樹脂を用い、減圧槽内で脱気し、これを第８図
に示す隙間内に注入し、それから、樹脂層面から１０■
離れた位置に設けである出力２にυ（８０１ｉ１／■）
の高圧水銀灯２本ないし５本から紫外線９を照射し、６
０秒間保って注入樹脂を硬化する。このようにして得た
紫外線重合・硬化樹脂部８の鉛筆芯換算のかたさはＨな
いし２Ｈであり、十分に硬化した樹脂のかたさ３Ｈ〜４
Ｈに達していないが、石英ガラス円板６、スペーサ７と
引き離すには適当なかたさであり、引き離しに当たって
の変形の発生は認められず、また、光記録媒体膜５−１
を介しての耐食アルミニウム板の成膜基板３−２との接
着強さは樹脂硬化物内の凝集破壊をひき起こす程度の十
分な接着力を保ち、紫外線重合・硬化樹脂部８と成膜基
板３−２とのはく離は生じなかった。上記のようにして
得た樹脂・基板一体化品を窒素雰囲気下において１１０
℃、９０分間加熱して樹脂の硬化を促し、鉛筆芯かたさ
４Ｈとした。また、樹脂部の厚さは各部一様であり、定
格値に対して±０．０３ＩＩＩ１１であった。さらに、
窒素ガス下での加熱により、成膜基板３−２の耐食アル
ミニウムの露出面のかたさが、微小かたさＨＭＶで当初
値よりも５％高くなった。これは、耐久性向上を示唆す
るものである。

上記のようにして得られた紫外線重合・硬化樹脂の単一
体で覆われた光ディスク１０は、樹脂硬化物の光透過率
が９０〜９１％、屈折率は１．４９５で、汎用されてい
るアクリル樹脂と同等であり、また、樹脂板面内各部位
における複屈折率は約１３度、その変動幅は約２度であ
り、配向ひずみの少ない光学的に均質で板厚むらの小さ
い基板をつくることができた。

失流涜１しＬ 厚さ０．３ｍｗｎ、直径１３ｃｍ、表面あらさＲａ　：
　０．００８岬の耐食アルミニウム板の両面に、片面ご
とに実施例１と同じ方法で押型１−２を押圧して、押型
１−２面上の凹凸形状を負転写した耐食アルミニウム板
を得た。耐食アルミニウム表面の形状は、片面ごと繰り
返し二度押しの影響は凹凸形状に現われていなかった。

ここで得た板を成膜基板として、実施例１と同条件によ
る反応性高周波イオンブレーティングの繰り返しにより
、両面に低酸化テルル（ＴｅＯｏ、９）膜を形成した。

続いて、第８図に示した構成を膜付けされた上記基板の
両面に設け、実施例１−で用いたものと同じ樹脂を同じ
条件下で基板両面側の隙間に注入し、これを硬化し、石
英ガラス円板６、スペーサ７を引き離し、次いで加熱し
て、紫外線硬化樹脂単一層で覆われてなる両面形光ディ
スクを得た。

上記光ディスクでは、光記録媒体膜を介しての耐食アル
ミニウム板と樹脂硬化物との接着強さは実施例１による
ものと同等であった。また、樹脂部の光学的特性、厚さ
およびその変動範囲、かたさなどの特性も実施例１によ
るものと同等であり、両面使い光ディスクを簡易に得ら
れる構成、製法を提供することができた。

男一部員ｌ土 実施例１で用いた耐食アルミニウム板に代えて、アルミ
ニウム表面片面に陽極酸化層を約１０７ｍ設け、その面
上を研摩して表面あらさＲａ　７０．００５−に仕上げ
た板を被成形板３−１として、陽極酸化層形成面側を、
実施例１と同様に押型１−２で押圧して、陽極酸化層上
に押型１−２面上の凹凸形状を負転写した。

陽極酸化層上に写しとられた凹凸形状は、転写精度は良
好であった。そして、これから後の扱いを実施例１と同
様にすれば、品質の良い紫外線樹脂単一層で覆われた光
ディスクを得ることができる。

また、アルミニウム板の表面に燐９％含有のニッケル・
燐めっきを厚さ約５−施し、これを研摩してなる板を被
成形板３−１とし、その面を押型１−２で押圧してなる
板の表面には、押型１−２の表面の凹凸形状が忠実に負
転写できる。

ただし、アルミニウム、耐食アルミニウム、陽極酸化層
形成品、ニッケル・燐めっき形成品は、表面の微小かた
さＨ間Ｖが、それぞれ８０ｋｇ／ｎｎ＋２゜１１０　ｋ
ｇ　／　ｗｎ　”、２００ｋｇ／ｍ＋”、３００ｋｇｌ
Ｉ１ｗ１１２であるので、これらを押圧したときの抑圧
表面の摩耗量は自ら異なり、その耐用寿命が相違する。

被成形板の材質は、光ディスクの用途、製造数量に合わ
せて選ぶことができる。

実施−舛↓土 片面を研摩した表面あらさＲａ　：　０．００８４、か
たさＨＭＶ　：　８５ｋｇ／＋ｍ＋”、厚さ０．１５ｍ
ｍの純度９９．０％のアルミニウム板を被成形板３−１
として用い、第１０図に示すようにして、この研摩面に
真空蒸着法によって三セレン化アンチモンＳｂ２・Ｓｅ
３膜を厚さ０．１岬形成して光記録媒体膜５−２とした
被成形基板１１を得た。該基板を、第１１図のように、
成膜面側と押型１−２とを対向させて、第１２図に示す
ように、押圧力４、ここでは１６０ｋｇ／ａ＃で抑圧し
て、抑圧状態を５秒間保ち、その後、第１３図に示すよ
うに、押型１−２と基板１２とを引き離した。

上記のようにして得た基板１２上には、押型１−２の面
上の形状を負転写してなる凹凸形状が精度良く刻みこま
れていた。また、三セレン化アンチモン膜の破断は、走
査形電子顕微鏡による５０００倍＝２０− 拡大像１００視野の中では見いだしていない。なお、こ
こで、王セレン化アンチモンに代えて光磁性膜（Ｔｂ−
Ｆｅ−ｃｏ）を厚さｏ、ｏｏａ−形成したものについて
も同様の押圧をしているが、この場合にも膜の破断は見
いだせなかった。

上記のようにして得た基板１２は、以下第７図から第９
図に示す手順を実施例１と同条件で実施して、光ディス
クを得ることができる。

〔発明の効果〕

本発明は、重化・硬化が迅速で硬化収縮後の高寸法精度
が保ちやすく、かつ硬化物の光学的特性が光デイスク特
性に適合する紫外線重合・硬化樹脂の導入と、押型の抑
圧によるトラックサーボ用案内溝の刻印法とを併合して
、光線透過率が高く、複屈折率が小さく、かつ板面各部
位におけるそれらの値の変動幅の小さい樹脂の単一層で
直に光記録媒体膜を覆った金属基板によって、耐久性の
高い光ディスクを簡易で量産性の高い経済的工法で実現
するものである。

従って、本発明によれば、上記金属成膜基板の導入によ
り、光記録媒体の成膜条件保持が従来のプラスチック基
板に比べて容易になり、量産向きである。また、成膜に
よる荒板、膜と基板との付着がかかわる特性変化は、無
視できるものである。

また、光記録媒体膜を覆う樹脂部は紫外線重合・硬化形
であり、従来の射出成形品のような溶融樹脂の流動、冷
却の時間遅れによる配向ひすみはないので、光学的特性
が高く、さらに、前掲の公知側にあるような裏打ち基板
の使用がない単一層である点や、樹脂基板に光記録媒体
膜を成膜する要はないので、成膜による特性変化を誘発
しない点など、優れた点を備えている。

【図面の簡単な説明】

第１図は樹脂基板一体品と注型・硬化用の治具とを引き
離して本発明による情報記録ディスクを得る状況を示す
模式的縦断面図、第２図および第３図は押型のプラズマ
窒化と、該押型の表面からの強化状況を示す模式的縦断
面図、第４図ないし第７図は成膜基板面に光記録媒体膜
が成膜されかつ面上に凹凸形状が設けられた基板を作成
する一方法の手順を示す模式的縦断面図、第８図および
第９図は該基板に対し注型・硬化を行う手順とその治具
を示す模式的縦断面図、第１０図ないし第１３図は一上
記基板を作成する他の方法の手順を示す模式的縦断面図
である。 符号の説明 １−１．１−２・・・押型 ２・・・プラズマ ３−１・・・被成形板 ３−２・・・成形板（成膜基板） ４・・・押圧力 ５−１．５−２・・・光記録媒体膜 ６・・・石英ガラス円板 ７・・・スペーサ ８・・・紫外線重合・硬化樹脂部 ９・・・紫外線 １０・・・光ディスク １１・・・被成形基板 １２・・・基板 代理人弁理士　　中　村　純之助 オ　１　ｒ ２２図 口互巧；双仄：■−１−１ ？ｌｉ口」金目に２ 矛３ｒ 微小τ′にざ・Ｈｓｖ １−１、１−２１甲ヤ ２１゛ラス゛マ 才４図 １’５図 ２６　図 ３−２　　べ形括（へ咥基すｐ） ４　１甲斥力 矛７図 ？８閏 才９翻 才１０図 才１１図 ｔ１２図 才１３図 ４　押斥力 手続補正書（自船 昭和６１年　９月　５日 特許庁長官　黒　１）明　雄　殿 １、事件の表示　　　昭和６１年特許願第１５２６７６
号２、発明の名称　　　情報記録ディスク３、補正をす
る者 事件との関係　　　　　特許出願人 名　称　　　（５１０）株式会社　日立製作所名　称　
　　　　　　日東電気工業　株式会社４、代理人 住　所　　（〒１００）東京都千代田区丸の内−丁目５
番１号、４ 補正の内容 （１）特許請求の範囲を添付別紙のとおり訂正する。 （２）明細書第５頁第１１行の「射出杉板」を「射出成
形板」に訂正する。 （３）同　第８頁第１２行の「酸無水分」を「酸無水物
」に訂正する。 （４）同　第１７頁第１９行の「１１０℃」をｒｌｏｏ
℃」に訂正する。 （５）同　第２２頁第３行のｒＯ，００８μｍ」をｒｏ
、０８μｍＪに訂正する。 別　　　紙 特許請求の範囲 １、アルミニウムまたはその合金板、もしくはそれらの
表面に耐食または硬化処理を施した板からなる金属基板
と、該金属基板の片面または両面上に形成した光反射・
熱吸収・光記録機能性膜とからなり、かつ該膜面上に、
所定の凹凸形状を備える押板を用いた押圧手段により凹
凸形状を負転写し、該基板の前記光反射・熱吸収・光記
録機能性膜の面上に、紫外線重合・硬化または紫外線照
射と加熱とを併用して重合・硬化する樹脂層を設け、こ
れを硬化させてなる構成を有することを特徴とする情報
記録ディスク。 ２、特許請求の範囲第１項に記載の情報記録ディスクに
おいて、前記基板が、金属基板のそれぞれの片面または
両面を、所定の凹凸形状を備えた押板で押圧して、該押
板面上の凹凸形状を負転写してなる板を成膜用基板とし
、該成膜用基板面上に光反射・熱吸収・光記録機能性膜
を形成したものであることを特徴とする情報記録デイス
ク。 主２特許請求の範囲第１項−末１＝　１１第ｍ工記載の
情報記録ディスクにおいて、紫外線重合・硬化または紫
外線照射と加熱とを併用して重合・硬化する樹脂層が、
厚さ０．１ｎｗｎないし１．５ｎａの範囲のアクリレー
ト系組成物またはエポキシ系組成物の硬化樹脂の単一体
からなることを特徴とする情報記録ディスク。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、アルミニウムまたはその合金板、もしくはそれらの
   表面に耐食または硬化処理を施した板からなる金属基板
   と、該金属基板の片面または両面上に形成した光反射・
   熱吸収・光記録機能性膜とからなり、かつ該膜面上に、
   所定の凹凸形状を備える押板を用いた押圧手段により凹
   凸形状が設けられた基板を有し、該基板の前記光反射・
   熱吸収・光記録機能性膜の面上に、紫外線重合・硬化ま
   たは紫外線照射と加熱とを併用して重合・硬化する樹脂
   層を設け、これを硬化させてなる構成を有することを特
   徴とする情報記録ディスク。 ２、特許請求の範囲第１項に記載の情報記録ディスクに
   おいて、前記基板が、金属基板のそれぞれの片面または
   両面を、所定の凹凸形状を備えた押板で押圧して、該押
   板面上の凹凸形状を負転写してなる板を成膜用基板とし
   、該成膜用基板面上に光反射・熱吸収・光記録機能性膜
   を形成したものであることを特徴とする情報記録ディス
   ク。 ３、特許請求の範囲第１項に記載の情報記録ディスクに
   おいて、前記基板が、金属基板の面上に光反射・熱吸収
   ・光記録機能性膜を形成し、該膜の面上を所定の凹凸形
   状を備えた押板で押圧して、該膜面上に該押板面上の凹
   凸形状を負転写したものであることを特徴とする情報記
   録ディスク。 ４、特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか１項
   に記載の情報記録ディスクにおいて、紫外線重合・硬化
   または紫外線照射と加熱とを併用して重合・硬化する樹
   脂層が、厚さ０．１ｍｍないし０．１５ｍｍの範囲のア
   クリレート系組成物またはエポキシ系組成物の硬化樹脂
   の単一体からなることを特徴とする情報記録ディスク。