JPS63104301A - 感温抵抗器の製造方法 - Google Patents
感温抵抗器の製造方法Info
- Publication number
- JPS63104301A JPS63104301A JP61249946A JP24994686A JPS63104301A JP S63104301 A JPS63104301 A JP S63104301A JP 61249946 A JP61249946 A JP 61249946A JP 24994686 A JP24994686 A JP 24994686A JP S63104301 A JPS63104301 A JP S63104301A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature coefficient
- temperature
- resistance
- manufacture
- sensitive resistor
- Prior art date
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- Pending
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- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、一般の民生、産業機器に利用される感温抵抗
器の製造方法に関するものである。
器の製造方法に関するものである。
従来の技術
従来、感温抵抗器用薄膜を製作する際、所定の抵抗温度
係数を得るためには、蒸着材料の組成調整や膜厚調整、
その他蒸着条件の調整で行なっていた。
係数を得るためには、蒸着材料の組成調整や膜厚調整、
その他蒸着条件の調整で行なっていた。
発明が解決しようとする問題点
このような従来の方法では、同一材料で任意の抵抗温度
係数をもつ薄膜を生成したり、逆に合金材料を使用した
場合、複数ロットの同一温度係数をもつ薄膜を生成する
ことが困難であるという問題がある。
係数をもつ薄膜を生成したり、逆に合金材料を使用した
場合、複数ロットの同一温度係数をもつ薄膜を生成する
ことが困難であるという問題がある。
本発明はこのような問題点を解決するもので、種々の温
度係数を有する薄膜を効率的に生成することを目的とし
たものである。
度係数を有する薄膜を効率的に生成することを目的とし
たものである。
問題点を解決するだめの手段
本発明は上記問題点を解決するため、真空蒸着。
スパンタリング法を用いて薄膜を生成する際、二層構造
とし、下層側に低温度係数の薄膜を生成し、上層側に高
温度係数の薄膜を生成させるようにしたものである。
とし、下層側に低温度係数の薄膜を生成し、上層側に高
温度係数の薄膜を生成させるようにしたものである。
作用
この方法により、下層側の低温度係数薄膜の膜厚を変え
て広範囲の抵抗温度係数をもつ薄膜を生成することがで
きる。また、上層側に蒸気圧差の大きい材料組成の合金
材料を用いた場合でも同様にして抵抗温度係数の違う薄
膜や同一の薄膜を複数ロット生成することができる。
て広範囲の抵抗温度係数をもつ薄膜を生成することがで
きる。また、上層側に蒸気圧差の大きい材料組成の合金
材料を用いた場合でも同様にして抵抗温度係数の違う薄
膜や同一の薄膜を複数ロット生成することができる。
実施例
下層側の材料としてNiCr (Ni ; soωt
%・Cr:20ωtつ)を使用し、上層側の材料として
Ni (純度99−99 ’?i )を使用して、Ni
Crの膜厚を変えて試料を製作した。
%・Cr:20ωtつ)を使用し、上層側の材料として
Ni (純度99−99 ’?i )を使用して、Ni
Crの膜厚を変えて試料を製作した。
第1図は膜厚モニターによりNiCrの膜厚を50人、
100人、150人にした場合の抵抗温度係数を30ツ
トづつ示したものである。第1図よりわかるように、下
層側の低温度係数膜を操作することにより全体の抵抗温
度係数を制御することができる。
100人、150人にした場合の抵抗温度係数を30ツ
トづつ示したものである。第1図よりわかるように、下
層側の低温度係数膜を操作することにより全体の抵抗温
度係数を制御することができる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、低抵抗温度係数の膜(下
層側)と高抵抗温度係数の膜(上層側)の二層構造によ
り、種々の抵抗温度係数を有する薄膜を効率的に生成す
ることができるっ
層側)と高抵抗温度係数の膜(上層側)の二層構造によ
り、種々の抵抗温度係数を有する薄膜を効率的に生成す
ることができるっ
図は本発明の一実施例におけるNiCr (Ni;80
ωt%、Cr:2oωt%)と純Ni(純度99.99
%)の二層構造にした場合のNiCr膜厚に対する抵抗
温度係数を示す特性図である。
ωt%、Cr:2oωt%)と純Ni(純度99.99
%)の二層構造にした場合のNiCr膜厚に対する抵抗
温度係数を示す特性図である。
Claims (1)
- 感温抵抗器用薄膜を蒸着法、スパッタ法等で形成する
際、下層側に低温度係数をもつ薄膜を形成し、上層に高
温度係数の薄膜を重ねて形成して温度係数を調整するこ
とを特徴とする感温抵抗器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61249946A JPS63104301A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 感温抵抗器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61249946A JPS63104301A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 感温抵抗器の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63104301A true JPS63104301A (ja) | 1988-05-09 |
Family
ID=17200530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61249946A Pending JPS63104301A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 感温抵抗器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63104301A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991002365A1 (en) * | 1989-08-07 | 1991-02-21 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Thin-film thermistor having positive characteristics |
| JPH03212903A (ja) * | 1990-01-18 | 1991-09-18 | Onoda Cement Co Ltd | 薄膜測温抵抗体の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5712505A (en) * | 1980-06-25 | 1982-01-22 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Thin film thermistor |
-
1986
- 1986-10-21 JP JP61249946A patent/JPS63104301A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5712505A (en) * | 1980-06-25 | 1982-01-22 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Thin film thermistor |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991002365A1 (en) * | 1989-08-07 | 1991-02-21 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Thin-film thermistor having positive characteristics |
| JPH03212903A (ja) * | 1990-01-18 | 1991-09-18 | Onoda Cement Co Ltd | 薄膜測温抵抗体の製造方法 |
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