JPS63106768U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63106768U JPS63106768U JP19936386U JP19936386U JPS63106768U JP S63106768 U JPS63106768 U JP S63106768U JP 19936386 U JP19936386 U JP 19936386U JP 19936386 U JP19936386 U JP 19936386U JP S63106768 U JPS63106768 U JP S63106768U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion extraction
- extraction electrode
- plasma
- plasma device
- sample
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案に係るイオン引出電極を適用し
たエツチング装置の模式的断面図、第２図はイオ
ン引出電極の部分拡大平面図、第３図は従来装置
の模式的断面図、第４図は従来装置におけるイオ
ン引出電極の模式的拡大平面図である。 １……プラズマ生成室、２……導波管、３……
試料室、４……励磁コイル、５……イオン引出電
極、５ａ……孔、６……真空ポンプ、７……載置
台。
たエツチング装置の模式的断面図、第２図はイオ
ン引出電極の部分拡大平面図、第３図は従来装置
の模式的断面図、第４図は従来装置におけるイオ
ン引出電極の模式的拡大平面図である。 １……プラズマ生成室、２……導波管、３……
試料室、４……励磁コイル、５……イオン引出電
極、５ａ……孔、６……真空ポンプ、７……載置
台。
Claims (1)
- 電子サイクロトロン共鳴を利用してプラズマを
発生させるプラズマ生成室と、試料の載置台を備
えた試料室との間に開口させたイオン引出窓に設
けるプラズマ装置におけるイオン引出電極におい
て、前記イオン引出電極は亀甲模様をなすよう配
列した六角形の開口部多数を具備することを特徴
とするプラズマ装置におけるイオン引出電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19936386U JPS63106768U (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19936386U JPS63106768U (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63106768U true JPS63106768U (ja) | 1988-07-09 |
Family
ID=31160914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19936386U Pending JPS63106768U (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63106768U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07161490A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-06-23 | Nec Corp | プラズマ処理装置 |
-
1986
- 1986-12-29 JP JP19936386U patent/JPS63106768U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07161490A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-06-23 | Nec Corp | プラズマ処理装置 |