JPS63106923A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS63106923A JPS63106923A JP25181886A JP25181886A JPS63106923A JP S63106923 A JPS63106923 A JP S63106923A JP 25181886 A JP25181886 A JP 25181886A JP 25181886 A JP25181886 A JP 25181886A JP S63106923 A JPS63106923 A JP S63106923A
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は金属薄膜からなる記録磁性層を有する磁気記録
媒体の製造方法に関する。
媒体の製造方法に関する。
(従来の技術)
垂直磁気記録方式は高密度記録技術として多くの優れた
特徴を持ち、その実用化に向けて各所で精力的に研究が
なされている。垂直磁気記録に用いる記録媒体(以下、
垂直磁気記録媒体という)としてはBa−フェライトの
ようなマグネトプラムバイト型結晶構造を有する酸化物
薄膜を記録磁性層とするものと、Co−Cr、Co−V
、C。
特徴を持ち、その実用化に向けて各所で精力的に研究が
なされている。垂直磁気記録に用いる記録媒体(以下、
垂直磁気記録媒体という)としてはBa−フェライトの
ようなマグネトプラムバイト型結晶構造を有する酸化物
薄膜を記録磁性層とするものと、Co−Cr、Co−V
、C。
−Cr−Rh等の金属薄膜を記録磁性層とするものが最
近では主に研究されている。特に、フロッピーディスク
等で使用される可撓性樹脂フィルム基体を使える温度下
での成膜が可能という点から、Ba−フェライト薄膜に
比べ低温での成膜が可能な後者の金属薄膜型媒体が垂直
磁気記録媒体として有望視されている。
近では主に研究されている。特に、フロッピーディスク
等で使用される可撓性樹脂フィルム基体を使える温度下
での成膜が可能という点から、Ba−フェライト薄膜に
比べ低温での成膜が可能な後者の金属薄膜型媒体が垂直
磁気記録媒体として有望視されている。
金属薄膜型垂直磁気記録媒体は、従来から用いられてい
る塗布型媒体、すなわちγ−Fe2O3゜Co−γ−F
e2us等の強磁性体微粒子をバインダ中に分散して基
体上に塗布した磁気記録媒体とは全く異質の構成のため
、実用化に当たっては塗布型媒体で問題とならなかった
新たな課題が生じる。その代表的なものが、媒体が高温
高湿等の環境に耐える性質、すなわち耐食性の維持と、
磁気ヘッドの接触走行に耐え得る性質、すなわち耐久性
の確保である。
る塗布型媒体、すなわちγ−Fe2O3゜Co−γ−F
e2us等の強磁性体微粒子をバインダ中に分散して基
体上に塗布した磁気記録媒体とは全く異質の構成のため
、実用化に当たっては塗布型媒体で問題とならなかった
新たな課題が生じる。その代表的なものが、媒体が高温
高湿等の環境に耐える性質、すなわち耐食性の維持と、
磁気ヘッドの接触走行に耐え得る性質、すなわち耐久性
の確保である。
金属薄膜型媒体の耐久性を向上させるために、記録磁性
層の上に非磁性確保層を形成したり、さらに液体または
固体潤滑剤による潤滑層をその上に設ける等の方法が従
来考えられているが、これらの方法による耐久性の向上
は、実用的見地からは未だ不十分であり、耐久性評価の
結果にばらつきがみられた。つまり耐久性の高い媒体も
あるが、耐久性の低い媒体も存在する結果となった。こ
のため、耐久性を向上させる目的で、耐久性を損わせる
一つの原因となる金属薄膜媒体の表面に存在する突起を
除去すべく、金属薄膜媒体の表面を研磨テープ等により
研磨することにより、耐久性のばらつきをなくシ、全体
の耐久性のレベルの向上が可能となった。しかし、研磨
により突起部分の保護層が剥離し、磁性層が露出するこ
とによるため、耐食性が悪化する場合もみられた。従っ
て、媒体の信頼性を向上させるには耐食性を維持しなが
ら媒体の耐久性を向上させることが必要である。
層の上に非磁性確保層を形成したり、さらに液体または
固体潤滑剤による潤滑層をその上に設ける等の方法が従
来考えられているが、これらの方法による耐久性の向上
は、実用的見地からは未だ不十分であり、耐久性評価の
結果にばらつきがみられた。つまり耐久性の高い媒体も
あるが、耐久性の低い媒体も存在する結果となった。こ
のため、耐久性を向上させる目的で、耐久性を損わせる
一つの原因となる金属薄膜媒体の表面に存在する突起を
除去すべく、金属薄膜媒体の表面を研磨テープ等により
研磨することにより、耐久性のばらつきをなくシ、全体
の耐久性のレベルの向上が可能となった。しかし、研磨
により突起部分の保護層が剥離し、磁性層が露出するこ
とによるため、耐食性が悪化する場合もみられた。従っ
て、媒体の信頼性を向上させるには耐食性を維持しなが
ら媒体の耐久性を向上させることが必要である。
(発明が解決しようとする問題点)
このように従来の技術では、金属薄膜型磁気記録媒体の
製造に当たり、保護層の形成や潤滑層を設ける等の手法
を用いても耐久性のばらつきが大きいために、実用に供
し得る磁気記録媒体を得ることは困難であった。また耐
久性のばらつきを抑制するために媒体の表面を研磨する
手法は、耐食性を悪化させる場合もあるため信頼性向上
という面では未だ不十分であった。
製造に当たり、保護層の形成や潤滑層を設ける等の手法
を用いても耐久性のばらつきが大きいために、実用に供
し得る磁気記録媒体を得ることは困難であった。また耐
久性のばらつきを抑制するために媒体の表面を研磨する
手法は、耐食性を悪化させる場合もあるため信頼性向上
という面では未だ不十分であった。
従って、本発明は耐久性が高く、耐久性のばらつきが小
さく、しかも耐食性の高い、金属薄膜からなる記録磁性
層を有する磁気記録媒体の製造方法を提供することを目
的とする。
さく、しかも耐食性の高い、金属薄膜からなる記録磁性
層を有する磁気記録媒体の製造方法を提供することを目
的とする。
[発明の構成]
(問題点を解決する為の手段)
本発明は基体上に形成された金属薄膜からなる記録磁性
層の表面または該記録磁性層上に形成される非磁性保護
層の表面を、該表面上の突起を除去すべく研磨したのち
、研磨された該記録磁性層上もしくは該記録磁性層上に
形成される非磁性保護層上に非磁性保護層を形成するこ
とによって、上記目的を達成するものである。
層の表面または該記録磁性層上に形成される非磁性保護
層の表面を、該表面上の突起を除去すべく研磨したのち
、研磨された該記録磁性層上もしくは該記録磁性層上に
形成される非磁性保護層上に非磁性保護層を形成するこ
とによって、上記目的を達成するものである。
(作用)
記録磁性層の表面または非磁性保護層の表面上に突起が
あると、磁気ヘッドが媒体に接触して走行する際に突起
部分の記録磁性層や非磁性保護層が削れることによって
ダストが発生する。このダストが媒体・ヘッド間に巻込
まれると、それが媒体の破壊をもたらし、耐久性を損な
う要因となる。
あると、磁気ヘッドが媒体に接触して走行する際に突起
部分の記録磁性層や非磁性保護層が削れることによって
ダストが発生する。このダストが媒体・ヘッド間に巻込
まれると、それが媒体の破壊をもたらし、耐久性を損な
う要因となる。
本発明に基づいて記録磁性層の表面または非磁性保護層
の表面上の突起を研磨により除去すると、媒体自身から
のダスト供給がなくなるため、媒体・ヘッド間へのダス
トの巻込みに起因する媒体の損傷が抑制され、耐久性の
向上が図られる。
の表面上の突起を研磨により除去すると、媒体自身から
のダスト供給がなくなるため、媒体・ヘッド間へのダス
トの巻込みに起因する媒体の損傷が抑制され、耐久性の
向上が図られる。
また、研磨を行なったのちに非磁性保護層を形成するこ
とにより、研磨によって非磁性保護層の剥離した部分の
記録磁性層の変質を抑制し、耐食性の劣化を防止するこ
とができる。
とにより、研磨によって非磁性保護層の剥離した部分の
記録磁性層の変質を抑制し、耐食性の劣化を防止するこ
とができる。
(実施例)
第1図は本発明をフロッピーディスクを例として説明し
た図である。ディスクは基板10の上に記録磁性層11
ならびに非磁性保護層12aが形成されてなる。(a)
ディスク表面に存在する突起21は研磨によって除去さ
れる。(b)これによりヘッドによる突起の破壊が防止
され、ダストの発生がなくなり、媒体・ヘッド間へのダ
ストの巻き込みに起因する媒体の損傷が抑制され、耐久
性が向上するが、非磁性保護層の剥離した部分からの腐
食が起きる場合がある。このため、研磨を行なった後、
非磁性保[1512bを形成した。
た図である。ディスクは基板10の上に記録磁性層11
ならびに非磁性保護層12aが形成されてなる。(a)
ディスク表面に存在する突起21は研磨によって除去さ
れる。(b)これによりヘッドによる突起の破壊が防止
され、ダストの発生がなくなり、媒体・ヘッド間へのダ
ストの巻き込みに起因する媒体の損傷が抑制され、耐久
性が向上するが、非磁性保護層の剥離した部分からの腐
食が起きる場合がある。このため、研磨を行なった後、
非磁性保[1512bを形成した。
(c)これにより高温高温環境での腐食が抑制される等
、耐食性の劣化を防止することができた。
、耐食性の劣化を防止することができた。
したがって、本発明のように研磨を行ない、なおかつ非
磁性保護層を形成することにより、耐食性を維持しつつ
耐久性を大きく改善することができる。
磁性保護層を形成することにより、耐食性を維持しつつ
耐久性を大きく改善することができる。
′!J2図は本発明の一実施例における研磨工程を説明
するための図である。フロッピーディ土りの形態に作製
された磁気記録媒体1の中央部にセンターハブ2が取付
けられ、このセンターハブ2がモータ3に連結されてい
る。モータ3により磁気記録媒体1が回転走行させられ
るとき、研磨テープ4の表面に媒体1がfなる力で押付
けられる。
するための図である。フロッピーディ土りの形態に作製
された磁気記録媒体1の中央部にセンターハブ2が取付
けられ、このセンターハブ2がモータ3に連結されてい
る。モータ3により磁気記録媒体1が回転走行させられ
るとき、研磨テープ4の表面に媒体1がfなる力で押付
けられる。
また該研磨テープ4は矢印5で示すように定速で送られ
る。これにより磁気記録媒体重の表面が研磨され、表面
上の突起が除去される。研磨テープ4としては例えばテ
ープ状基体の上に、研磨材としてAl10361000
0粒子を塗布したものが使用される。
る。これにより磁気記録媒体重の表面が研磨され、表面
上の突起が除去される。研磨テープ4としては例えばテ
ープ状基体の上に、研磨材としてAl10361000
0粒子を塗布したものが使用される。
一方、この研磨により除去された破片を取去るべく、ク
リーニングテープ6が研磨テープ4と同様に磁気記録媒
体1の表面に接触しつつ、矢印7で示すように送られる
。なお、これら研磨テープ4およびクリーニングテープ
6は、磁気記録媒体1の少なくとも記録面全域を研磨お
よびクリーニングできるように、矢印8.9で示すよう
に磁気記録媒体1の半径方向にも移動可能となっている
。
リーニングテープ6が研磨テープ4と同様に磁気記録媒
体1の表面に接触しつつ、矢印7で示すように送られる
。なお、これら研磨テープ4およびクリーニングテープ
6は、磁気記録媒体1の少なくとも記録面全域を研磨お
よびクリーニングできるように、矢印8.9で示すよう
に磁気記録媒体1の半径方向にも移動可能となっている
。
第3および第4図は研磨テープ4により磁気記録媒体l
の表面を研磨する様子を拡大して示したものであり、第
3図は可撓性樹脂フィルム基体l。
の表面を研磨する様子を拡大して示したものであり、第
3図は可撓性樹脂フィルム基体l。
上に金属薄膜からなる記録磁性層11のみが形成されて
いる媒体の表面を研磨する場合、第4図は基体10上に
記録磁性層11および非磁性保護層1層12が積層して
形成されている媒体の表面を研磨する場合である。
いる媒体の表面を研磨する場合、第4図は基体10上に
記録磁性層11および非磁性保護層1層12が積層して
形成されている媒体の表面を研磨する場合である。
記録磁性1i!illおよび非磁性体tI層12は、例
えば図5に示すような連続薄膜形成装置によって形成す
ることが可能である。真空槽4oの内部に可撓性樹脂フ
ィルム基体42を供給する供給ロール41、加熱ローラ
43a、43b、および基体42を巻取る巻取りロール
44が設けられている。
えば図5に示すような連続薄膜形成装置によって形成す
ることが可能である。真空槽4oの内部に可撓性樹脂フ
ィルム基体42を供給する供給ロール41、加熱ローラ
43a、43b、および基体42を巻取る巻取りロール
44が設けられている。
なお、ガイドローラ等は図では省略している。また、加
熱ローラ43a、43bの周面に対向して、例えばCo
−Cr合金ターゲット45a、45bが設けられており
、これらのターゲット45a。
熱ローラ43a、43bの周面に対向して、例えばCo
−Cr合金ターゲット45a、45bが設けられており
、これらのターゲット45a。
45bは外部の電源46a、46bから電力が供給され
る。
る。
上記のような装置を用い、供給ロール41から送り出さ
れた可撓性樹脂フィルム基体42が第1の加熱ローラ4
3aの周面を通過する際に、まず基体42の一方の面上
にCo−Cr合金薄膜からなる記録磁性層をスパッタリ
ングにより形成し、次いで基体42が第2の加熱ローラ
43bの周面を通過する際に、基体42の他方の面上に
同様にしてCo−Cr合金薄膜からなる記録磁性層を形
成した。こうして両面に記録磁性層が形成された後、基
体42は巻取りロール44に巻取られる。
れた可撓性樹脂フィルム基体42が第1の加熱ローラ4
3aの周面を通過する際に、まず基体42の一方の面上
にCo−Cr合金薄膜からなる記録磁性層をスパッタリ
ングにより形成し、次いで基体42が第2の加熱ローラ
43bの周面を通過する際に、基体42の他方の面上に
同様にしてCo−Cr合金薄膜からなる記録磁性層を形
成した。こうして両面に記録磁性層が形成された後、基
体42は巻取りロール44に巻取られる。
次にターゲットを例えばSiO2のような酸化物のター
ゲットに交換して、スパッタリングにより記録磁性層の
上に酸化物からなる非磁性体U!!層を0602μ麿の
膜厚に形成した。そして、記録磁性層および非磁性保1
1層が形成された基体を3.5インチ径のディスク形状
に打抜いた。
ゲットに交換して、スパッタリングにより記録磁性層の
上に酸化物からなる非磁性体U!!層を0602μ麿の
膜厚に形成した。そして、記録磁性層および非磁性保1
1層が形成された基体を3.5インチ径のディスク形状
に打抜いた。
こうして作製した3、5インチフロッピーディスクの主
要諸元を第1表に示す。
要諸元を第1表に示す。
このようにして形成したフロッピーディスクを40枚用
意し、そのうち20枚については、そのまま第6図に示
した装置を用いて表面に非磁性保護層を約0.O1μ−
厚さに形成した。第6図に示す薄膜形成装置は真空槽5
1の内部に基板ホルダ52およびそれに対向するターゲ
ット(例えば5i02)53が設けられ、電源54より
供給されるRF出力により基板ホルダー52に保持され
たフロッピーディスク55の表面にスパッタリングを行
なうものである。しかる後、第2図に示した装置により
媒体の表面を研磨し、突起を除去する処理を行なった。
意し、そのうち20枚については、そのまま第6図に示
した装置を用いて表面に非磁性保護層を約0.O1μ−
厚さに形成した。第6図に示す薄膜形成装置は真空槽5
1の内部に基板ホルダ52およびそれに対向するターゲ
ット(例えば5i02)53が設けられ、電源54より
供給されるRF出力により基板ホルダー52に保持され
たフロッピーディスク55の表面にスパッタリングを行
なうものである。しかる後、第2図に示した装置により
媒体の表面を研磨し、突起を除去する処理を行なった。
残り20枚のフロッピーディスクについてはまず第2図
に示した装置により媒体の表面を研磨し、突起を除去す
る処理を行ない、つぎに第6図に示した装置により表面
に0.01μm厚さの非磁性保護層を形成した。こうし
て異なった2つのグループより成る計40枚のフロッピ
ーディスクについて、そののち同一の洗浄処理と潤滑処
理を施した。
に示した装置により媒体の表面を研磨し、突起を除去す
る処理を行ない、つぎに第6図に示した装置により表面
に0.01μm厚さの非磁性保護層を形成した。こうし
て異なった2つのグループより成る計40枚のフロッピ
ーディスクについて、そののち同一の洗浄処理と潤滑処
理を施した。
これら異なった2つのグルー1620枚のフロッピーデ
ィスクについて同じ磁気ヘッド(M n −Znフェラ
イトヘッド、曲率半径50R)を用い、同一条件のもと
て耐久試験を行った。再生出力が初期出力の70%にま
で低下した時点をもってディスク寿命とし、その状態に
至るまでのディスクの走行回数(バス)を耐久性とした
。その耐久試験の結果を第7図に示す。第7図の横軸は
耐久性、縦軸はそれぞれの耐久性を示す媒体の割合であ
り、(a)は非磁性保護層形成後研磨を施したディスク
、(b)は研磨後非磁性保護層を形成したディスクにつ
いての結果である。
ィスクについて同じ磁気ヘッド(M n −Znフェラ
イトヘッド、曲率半径50R)を用い、同一条件のもと
て耐久試験を行った。再生出力が初期出力の70%にま
で低下した時点をもってディスク寿命とし、その状態に
至るまでのディスクの走行回数(バス)を耐久性とした
。その耐久試験の結果を第7図に示す。第7図の横軸は
耐久性、縦軸はそれぞれの耐久性を示す媒体の割合であ
り、(a)は非磁性保護層形成後研磨を施したディスク
、(b)は研磨後非磁性保護層を形成したディスクにつ
いての結果である。
第7図から明らかなように非磁性保護層形成後研磨処理
を施したディスクも、研磨処理を施した後、非磁性保護
層を形成したディスクも耐久性のばらつきは小さくなっ
ている。すなわち、いずれも400万パス以下の耐久性
のものは全くなく、1000万パス以上の高い耐久性を
示すものの割合が高い。
を施したディスクも、研磨処理を施した後、非磁性保護
層を形成したディスクも耐久性のばらつきは小さくなっ
ている。すなわち、いずれも400万パス以下の耐久性
のものは全くなく、1000万パス以上の高い耐久性を
示すものの割合が高い。
次に、前記と同様の工程により第2表に示す諸元を持つ
3.5インチフロッピーディスクを作成し以下、前記と
同様に同じフロッピーディスクを20枚用意し、そのう
ち10枚は前記と同様の研磨処理を施した後、非磁性保
護層を形成し、残り10枚については非磁性保護層を形
成した後研磨処理を施した。この20枚のフロッピーデ
ィスクについて、まずミッシングパルスを測定した。結
果を第8図に示す。(a)は保護層形成後研磨したディ
スク、(b)は研磨後、保wIIm形成したディスクで
ある。
3.5インチフロッピーディスクを作成し以下、前記と
同様に同じフロッピーディスクを20枚用意し、そのう
ち10枚は前記と同様の研磨処理を施した後、非磁性保
護層を形成し、残り10枚については非磁性保護層を形
成した後研磨処理を施した。この20枚のフロッピーデ
ィスクについて、まずミッシングパルスを測定した。結
果を第8図に示す。(a)は保護層形成後研磨したディ
スク、(b)は研磨後、保wIIm形成したディスクで
ある。
次に各10枚のディスクを温度80℃、温度90%Rh
の条件下に168時間放置した。そののち、各10枚の
ディスクについてミッシングパルスを測定した。結果は
第9図に示す。(a)は保護層形成後研磨したディスク
、(b)は研磨後、保護層形成したディスクである。
の条件下に168時間放置した。そののち、各10枚の
ディスクについてミッシングパルスを測定した。結果は
第9図に示す。(a)は保護層形成後研磨したディスク
、(b)は研磨後、保護層形成したディスクである。
′W58図、第9図から明らかなように本発明に基づき
、研磨後に非磁性保護層を形成したディスクは、高温高
湿環境下に放置した場合にもミッシングパルスの増加は
ほとんどみられず、すなわち耐食性は良好である。これ
に対し研磨したままのディスクは、ミッシングパルスが
増加し、記録磁性層が劣化していることを示している。
、研磨後に非磁性保護層を形成したディスクは、高温高
湿環境下に放置した場合にもミッシングパルスの増加は
ほとんどみられず、すなわち耐食性は良好である。これ
に対し研磨したままのディスクは、ミッシングパルスが
増加し、記録磁性層が劣化していることを示している。
すなわち耐食性は不十分である。
このように本発明に基づき研磨処理および非磁性保護層
の形成を行なうことにより十分な耐食性を維持しながら
耐久性が向上する理由は、研磨によってディスク表面上
の突起が除去され、かつ保護層の形成により磁性層が外
気にさらされることが抑制できるからに他ならない。
の形成を行なうことにより十分な耐食性を維持しながら
耐久性が向上する理由は、研磨によってディスク表面上
の突起が除去され、かつ保護層の形成により磁性層が外
気にさらされることが抑制できるからに他ならない。
第10図(a)に示すようにディスク表面上に突起21
があると、同図(b)に示すように磁気ヘッド23が接
触して走行する間に突起21が壊れ、ダスト22となる
。このようにして生じたダストは、ヘッドが安定に走行
している状態においてはディスク・ヘッド間に巻込まれ
ることはないが、ヘッドをディスク半径方向に移動させ
るときや、ディスクの熱膨張、装置の振動といった非平
衡の状態においてディスク・ヘッド間に巻込まれ易い。
があると、同図(b)に示すように磁気ヘッド23が接
触して走行する間に突起21が壊れ、ダスト22となる
。このようにして生じたダストは、ヘッドが安定に走行
している状態においてはディスク・ヘッド間に巻込まれ
ることはないが、ヘッドをディスク半径方向に移動させ
るときや、ディスクの熱膨張、装置の振動といった非平
衡の状態においてディスク・ヘッド間に巻込まれ易い。
ディスク・ヘッド間に巻込まれたダストは、無視できな
い確率でディスクの破壊をもたらす。
い確率でディスクの破壊をもたらす。
これに対し本発明のように研磨を行ない、なおかつ非磁
性保護層を形成することにより、第11図に示すように
ディスク表面の突起が除去され、ダストの発生がなくな
り、耐食性を維持しつつ耐久性を大きく改善することが
できる。図で10は基体、11は記録磁性層、12aは
非磁性保護層、12bは研磨後形成された非磁性保護層
である。
性保護層を形成することにより、第11図に示すように
ディスク表面の突起が除去され、ダストの発生がなくな
り、耐食性を維持しつつ耐久性を大きく改善することが
できる。図で10は基体、11は記録磁性層、12aは
非磁性保護層、12bは研磨後形成された非磁性保護層
である。
本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、要
旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施が可能である。
旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施が可能である。
例えば実施例では打ち抜いた後に研磨および非磁性保護
層の形成を行なったが、研磨および非磁性保護層の形成
をそれぞれ連続的に行なうこともできる。媒体を連続的
に研磨する装置としては、第12図に示すように巻取り
ロール111、送出しロール112および研磨テープ1
13、クリーニングテープ114を設けたものを用いれ
ばよい。また研磨後の非磁性保護層の形成は、第5図に
示す薄膜形成装置を用いればよい。
層の形成を行なったが、研磨および非磁性保護層の形成
をそれぞれ連続的に行なうこともできる。媒体を連続的
に研磨する装置としては、第12図に示すように巻取り
ロール111、送出しロール112および研磨テープ1
13、クリーニングテープ114を設けたものを用いれ
ばよい。また研磨後の非磁性保護層の形成は、第5図に
示す薄膜形成装置を用いればよい。
もちろん、スパッタ法以外の、例えば真空蒸着法やイオ
ンブレーティング法、CVD法のような方法を用いるこ
とも適当な装置を容易できれば可能である。
ンブレーティング法、CVD法のような方法を用いるこ
とも適当な装置を容易できれば可能である。
また、実施例では研磨処理の後、洗浄を行なったが、第
2図で説明したクリーニングテープ6による効果が十分
であれば、洗浄処理を省略しても構わない。
2図で説明したクリーニングテープ6による効果が十分
であれば、洗浄処理を省略しても構わない。
さらに、前述した耐久試験は記録磁性層がC。
−Cr合金薄膜の場合であり、また記録磁性層の上に非
磁性保護層が形成されている媒体の場合の例であるが、
本発明に基づく表面突起除去のための研磨処理は、記録
磁性層が他の金属薄膜の場合や、非磁性保護層がない媒
体の場合、さらには非磁性保護層が5to2以外の例え
ばAj2203、ZrO2等の酸化物薄膜、5i−0−
N等の酸化・窒化物薄膜、窒化物薄膜、炭化物薄膜、炭
素膜である媒体の場合にも有効である。
磁性保護層が形成されている媒体の場合の例であるが、
本発明に基づく表面突起除去のための研磨処理は、記録
磁性層が他の金属薄膜の場合や、非磁性保護層がない媒
体の場合、さらには非磁性保護層が5to2以外の例え
ばAj2203、ZrO2等の酸化物薄膜、5i−0−
N等の酸化・窒化物薄膜、窒化物薄膜、炭化物薄膜、炭
素膜である媒体の場合にも有効である。
[発明の効果]
本発明によれば、金属薄膜からなる記録磁性層の表面ま
たは非磁性保護層の表面を研磨により除去し、そののち
非磁性保護層を形成することによっで、耐食性を低下さ
せることなく媒体自身からのダスト供給をなくシ、媒体
・ヘッド間のダストの巻込みに起因する媒体の損傷を防
止し、耐久性の向上特に耐久性のばらつきを抑えること
ができる。
たは非磁性保護層の表面を研磨により除去し、そののち
非磁性保護層を形成することによっで、耐食性を低下さ
せることなく媒体自身からのダスト供給をなくシ、媒体
・ヘッド間のダストの巻込みに起因する媒体の損傷を防
止し、耐久性の向上特に耐久性のばらつきを抑えること
ができる。
第1図は本発明における研磨処理および非磁性保護層形
成を説明する為の図、第2図は本発明の一実施例におけ
る研磨工程を説明するための研磨装置の構成を示す正面
図および側面図、第3図および第4図は研磨の様子を示
す拡大図、第5図は記録磁性層および非磁性保護層の成
膜に使用する連続薄膜形成装置の例を示す図、第6図は
フロッピーディスク状に打抜いた媒体の非磁性保護層の
成膜に使用する薄膜形成装置の例を示す図、第7図は本
発明に基づく研磨済媒体の耐久試験結果の一例を示す図
、第8図は研磨済媒体のミッシングパルス測定の結果の
一例を示す図、第9図は研磨処理後、高温高湿環境下に
放置した媒体のミッシングパルス測定の結果の一例を示
す図、第10図は金属薄′膜からなる記録磁性層を有す
る磁気記録媒体の表面突起に起因する耐久性劣化のメカ
ニズムを説明するための図、第11図は本発明における
研磨処理および非磁性保護層形成を説明するための図、
第12図は本発明における研磨処理を連続的に行なう研
磨装置の構成の一例を示すための図である。 1 ・・・・・・・・磁気記録媒体(フロッピーディス
ク)4 ・・・・・・・研磨テープ 5 ・−・・・・・・クリーニングテープ10 ・・・
・・・・可撓性樹脂フィルム基体11 ・・・・・ 記
録磁性層 12 ・・・・・・・非磁性保護層 21 ・・突起 22 ・・・・・ダスト 23・・・・・・・・・・・磁気ヘッド代理人弁理士
則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久雄 (b) 第1図 第3図 第4図 第5図 第6図 (a) (b) 第7図 (a) (b)第8図 ミー/”/−77”\°ルス(s/5ide )
ミツシン1ペルス(イ”/5ide )(a)
(b) 第9図 (a) (b)第10図 第11図 02 第12図
成を説明する為の図、第2図は本発明の一実施例におけ
る研磨工程を説明するための研磨装置の構成を示す正面
図および側面図、第3図および第4図は研磨の様子を示
す拡大図、第5図は記録磁性層および非磁性保護層の成
膜に使用する連続薄膜形成装置の例を示す図、第6図は
フロッピーディスク状に打抜いた媒体の非磁性保護層の
成膜に使用する薄膜形成装置の例を示す図、第7図は本
発明に基づく研磨済媒体の耐久試験結果の一例を示す図
、第8図は研磨済媒体のミッシングパルス測定の結果の
一例を示す図、第9図は研磨処理後、高温高湿環境下に
放置した媒体のミッシングパルス測定の結果の一例を示
す図、第10図は金属薄′膜からなる記録磁性層を有す
る磁気記録媒体の表面突起に起因する耐久性劣化のメカ
ニズムを説明するための図、第11図は本発明における
研磨処理および非磁性保護層形成を説明するための図、
第12図は本発明における研磨処理を連続的に行なう研
磨装置の構成の一例を示すための図である。 1 ・・・・・・・・磁気記録媒体(フロッピーディス
ク)4 ・・・・・・・研磨テープ 5 ・−・・・・・・クリーニングテープ10 ・・・
・・・・可撓性樹脂フィルム基体11 ・・・・・ 記
録磁性層 12 ・・・・・・・非磁性保護層 21 ・・突起 22 ・・・・・ダスト 23・・・・・・・・・・・磁気ヘッド代理人弁理士
則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久雄 (b) 第1図 第3図 第4図 第5図 第6図 (a) (b) 第7図 (a) (b)第8図 ミー/”/−77”\°ルス(s/5ide )
ミツシン1ペルス(イ”/5ide )(a)
(b) 第9図 (a) (b)第10図 第11図 02 第12図
Claims (4)
- (1)非磁性基体上に金属薄膜から成る記録磁性層を形
成してなる磁気記録媒体の製造方法において、前記記録
磁性層の表面または該記録磁性層上に形成される非磁性
保護層の表面を、該表面上の突起を除去すべく研磨した
のち、該記録磁性層または非磁性保護層上に非磁性保護
層を形成する工程を有することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - (2)前記記録磁性層の表面または前記記録磁性層上に
形成される非磁性保護層の表面を研磨したのち、洗浄す
る工程と、該記録磁性層上または非磁性保護上に非磁性
保護層を形成する工程をあわせ有することを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - (3)前記記録磁性層の表面または該記録磁性層上に形
成される非磁性保護層の表面を研磨したのち、該記録磁
性層または非磁性保護層上に非磁性保護層を形成する工
程と、潤滑する工程をあわせ有することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - (4)前記記録磁性層が、Coを主成分とする合金から
成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25181886A JPS63106923A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25181886A JPS63106923A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63106923A true JPS63106923A (ja) | 1988-05-12 |
Family
ID=17228373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25181886A Pending JPS63106923A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63106923A (ja) |
-
1986
- 1986-10-24 JP JP25181886A patent/JPS63106923A/ja active Pending
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