JPS6311941B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜形成技術に係り、特に基板上に均
一で塗布むらのない磁性薄膜を形成する方法に関
するものである。

従来の磁性薄膜形成方法を第１図を参照して説
明する。チヤンバー５内にスピンドル４が設けら
れ、このスピンドル４に基板３が装着される。チ
ヤンバー５は透明なプラスチツク等で出来た蓋１
で密閉されている。スピンドル４により基板３は
低速回転（50〜250rpm）され、基板上に磁性塗
料が塗布される。磁性塗料が塗布された後、基板
３は高速回転（1000rpm）され、磁性塗料を振り
切り磁性薄膜が形成される。この方法によると、
基板の内周側で磁性膜が薄く、外周側で厚く形成
されてしまい、このような磁性膜は電気特性上不
利である。

この不都合を防ぐために、第１図に示される如
くオーバプレート２を蓋１に固定金具６を介して
設ける方法が知られているが、オーバプレート２
を用いても基板３の内外周での磁性膜の膜厚の差
は完全には防止できない。また、オーバプレート
２の内側の境で空気の流れに乱れを生じて塗膜に
むらが生じてしまう欠点を有する。

本発明の目的は、形成される磁性膜の膜厚が、
基板上の内外周で均一でかつ塗布むらのない磁性
薄膜を形成する方法を提供することである。

本発明の特徴とするところは、基板上の薄膜の
形成が、磁性塗料中の有機溶剤の蒸発速度に関係
し、蒸発速度の速い外周側で厚く、蒸発速度の遅
い内周側で薄くなることに着目し、基板の外周側
から内周側にかけて、基板からの距離が大きくな
るようなオーバプレートを設けるところにあり、
このようなオーバプレートを用いることにより基
板の外周側では磁性塗料中の有機溶剤の蒸発速度
が遅く、内周側では有機溶剤の蒸発速度が速くな
るように制御できるものである。

以下第２図を参照して本発明の一実施例を詳細
に説明する。

第２図において第１図との違いは、オーバプレ
ート２′の形状である。オーバプレート２′は基板
３の表面に対して、基板３の外周部では近接し、
内周部に進むにつれて基板表面からの距離が大き
くなるような形状を有している。

スピンドル４に基板３を装着し、基板３を低速
回転（50〜250rpm）させながら磁性塗料を塗布
し、この後高速回転（1000rpm程度）させるので
あるが、このとき、基板３の外周部の空間はオー
バプレート２′が接近しているため、オーバプレ
ートがないときに比べて磁性塗料中の有機溶剤の
蒸発による蒸気圧の飽和を生じ易く、有機溶剤の
蒸発が抑えられ、塗料粘度の増大が緩慢になる。
その結果、磁性塗料が遠心力によつて振り切られ
る量が増大し、膜厚は薄くなる傾向を示す。

これに対して基板３の内周部は、オーバプレー
ト２′が離れているため、空間の飽和に時間を要
し、有機溶剤の蒸発が促進され、塗料粘度の増大
をもたらす。そのため振り切りの遠心力に勝つて
膜厚は厚くなる傾向を示す。

このように本発明によれば、基板の内周側と外
周側で形成される薄膜の膜厚差を縮小できる。さ
らに本発明のオーバプレートを用いることにより
空気の流れが滑らかとなり、塗膜むらのない均一
な薄膜が形成できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の薄膜形成装置を示す図で平面図
と縦断面図を示す。第２図は本発明の一実施例に
よる薄膜形成装置の平面図と縦断面図である。 １……蓋、２′……オーバプレート、３……基
板、４……スピンドル、５……チヤンバー、６…
…固定金具。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基板を低速回転させながら磁性塗料を塗布
   し、次に基板を高速回転させて磁性塗料を振り切
   り基板上に磁性薄膜を形成する方法において、基
   板の表面に対向して設けられ、基板の外周部にお
   いて近接し、内周部に進むにつれて基板表面から
   の距離が大きくなるオーバプレートを設けること
   により磁性薄膜の膜厚を均一に制御することを特
   徴とする磁性薄膜形成方法。