JPS614573A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は溶剤を被塗布物に滴下し、被塗布物を回転させ
て溶剤を回転塗布する塗布装置に関する。

〔発明の背景〕

従来、半導体基板などの被塗布物に滴下された感光性樹
脂などの溶剤の膜厚分布を均−船こする塗布装置として
、例えば特開昭５６−８７４７１号公報に示すように、
被塗布物上に閉空間領域を形成するように閉空間形成板
を配設し、溶剤の蒸発速度を制御している。

しかしながら、この装置は閉空間形成板と被塗布物との
間に被塗布物の回転によって起る風流や１１ｉ１＋王の
変化によって溶剤の膜厚及び塗布むらが生じる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、回転塗布時における被塗布物上での風
のまき起りを防止し、被塗布物上に塗布された溶剤の乾
燥状態を均一にすることにより、溶剤の膜厚の均−化及
びストライエーションの低減を図ることができる塗布装
置を提供することにあるλ 〔発明の概要〕 本発明は上記目的を達成するために、溶剤を被塗布物に
滴下し、被塗布物を回転させて溶剤を回転塗布する塗布
装置において、前記被塗布物の上方に設けられた回転円
板と、この回転円板を前記被塗布物と同期回転させる回
転円板制御系と、前記回転円板を被塗布物の上方及び退
避位置に移動させる回転円板移動制御系とを備えたこと
を特徴きする。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を図により説明する。

半導体基板などの被塗布物１を保持する吸着ヘッド２は
、吸着−＼ツド回転制御系３により回転させられる。吸
着ヘッド２の上方には感光性樹脂などの溶剤４の滴下を
制御する溶剤制御系５を備えたノズル６が配設されてお
り、ノズル６はノズル移動制御系７によりガイド８に沿
・つて水平移動させられる。また吸着ヘッド２の上方に
は被塗布物１とギャップ９を保゛つて回転円板ＩＯが配
設されており、回転円板１０は回転円板移動制御系１１
により水平移動させられると共に、前記吸着ヘッド回転
制御系３、と同期回転する回転円板回転制御系１２によ
り回転させられる。

次に作用について説明する。始動前は、回転円板１０は
吸着−＼ノド２から離れた位置にあり、ノズル６は吸着
−＼ラド２の上方に位置している。この状態で吸着ヘッ
ド２に被塗布物１を保持させ、被塗布物１上に溶剤制御
系５１こより溶剤４をノズル６を通して滴下する。その
後、ノズル６はノズル移動制御系７により被塗布物１の
最外周外まで移動する。このノズル６の移動は、次に回
転円板１０が被塗布物１の上方に配設させられるので、
被塗布物１上に余裕の空間を作るためである。

次に回転円板移動制御系１１により回転円板１０を被塗
布物１の上方にギャップ９を保って配置する。その後、
吸着ヘッド回転制御系３により被塗布物１の回転を開始
すると同時に、回転円板回転制御系１２により回転円板
１０を被塗布物１の回転と同期回転させる。これにより
、被塗布物１上に浴剤４の薄膜を形成する。

このように、被塗布物１の回転に同期して回転する回転
円板１０を被塗布物１の上方に配置してなるので、回転
塗布時における被塗布物ｌ上での風のまき起りが防止さ
れ、・溶剤４の乾燥状態を均一にすることができる。こ
れにより、溶剤４の膜厚が均一になり、またストライエ
ーションの発生　　　　　　茅などがなくなることによ
り、歩留りが同上する。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明によれば、被塗
布物の回転に同期して回転する回転円板を被塗布物の上
方に配置してなるので、回転塗布、時における風のまき
起りが防止され、溶剤の乾燥状態が均一化し、これによ
って溶剤の膜厚が均一（こなり、またストライエーショ
ンの発生がなくなり、歩留りが向上する。

【図面の簡単な説明】

図は本発明になる塗布装置の一実施例を示す構成図であ
る。 １・・・被塗布物、　　　　２・・・吸着ヘッド、３・
・・吸着ヘッド回転制御系、　　　４・・・溶剤、６・
・・ノズル、　　　　　９・・・ギャップ、１０・・・
回転円板、　　　１１・・・回転円板移動制御系、１２
・・・回転円板回転制御系。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　溶剤を被塗布物に滴下し、被塗布物を回転させて溶剤
   を回転塗布する塗布装置において、前記被塗布物の上方
   に設けられた回転円板と、この回転円板を前記被塗布物
   と同期回転させる回転円板回転制御系と、前記回転円板
   を被塗布物の上方及び退避位置に移動させる回転円板移
   動制御系とを備えた塗布装置。