JPS63132143A - 異物検査装置 - Google Patents
異物検査装置Info
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- JPS63132143A JPS63132143A JP27660886A JP27660886A JPS63132143A JP S63132143 A JPS63132143 A JP S63132143A JP 27660886 A JP27660886 A JP 27660886A JP 27660886 A JP27660886 A JP 27660886A JP S63132143 A JPS63132143 A JP S63132143A
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
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- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、微小なゴミなどの異物を検出する装置に係り
、特に微細パターンを形成したレティクルなどに付着し
た異物検出に好適な異物検査装置に関する。
、特に微細パターンを形成したレティクルなどに付着し
た異物検出に好適な異物検査装置に関する。
従来の装置は、特開昭５９−８２７２７号公報に記載の
ようにパターン付基板上の異物を検出する方法が知られ
ている。しかし、この方式においてパターンが微細化す
るに従い検出異物も微小化することから異物とパターン
の弁別能力が低下し、パターンを誤検出する点について
は配慮されていなかった。
ようにパターン付基板上の異物を検出する方法が知られ
ている。しかし、この方式においてパターンが微細化す
るに従い検出異物も微小化することから異物とパターン
の弁別能力が低下し、パターンを誤検出する点について
は配慮されていなかった。
上記従来技術は異物とパターンを弁別し異物のみの信号
を得るため被検体に偏光レーザを照射し、被検体から散
乱した散乱光を偏光フィルターを通し異物から垂直偏光
（以降Ｓ偏光と略称する）成分のみを検出するようにし
ているが、パターンの微細化に伴い、検出異物も微小化
し、ノイズ成分であるパターンの信号台が増え、逆に異
物は微小化と共に信号レベルが低下するため、Ｓ／Ｎ比
が益々低下する問題が発生する。
を得るため被検体に偏光レーザを照射し、被検体から散
乱した散乱光を偏光フィルターを通し異物から垂直偏光
（以降Ｓ偏光と略称する）成分のみを検出するようにし
ているが、パターンの微細化に伴い、検出異物も微小化
し、ノイズ成分であるパターンの信号台が増え、逆に異
物は微小化と共に信号レベルが低下するため、Ｓ／Ｎ比
が益々低下する問題が発生する。
本発明の目的は、パターンが微細化してもパターンの影
響を受けずに異物を確実に検出する異物検査装置を提供
することにある。
響を受けずに異物を確実に検出する異物検査装置を提供
することにある。
上記目的は、異物及びパターンから散乱される偏光レー
ザの偏光特性を多面的に活用することにより解決できる
。
ザの偏光特性を多面的に活用することにより解決できる
。
すなわち、Ｓ偏光レーザを被検体に照射し、偏光フィル
ターの偏光角度を０°、９０°に変えパターンと異物の
信号レベルを比較すると、Ｏｏでは異物〉パターン、９
０°では異物くパターンと変化するため、この２つの角
度の信号を比較することにより、異物とパターンの弁別
能力を飛躍的に向上することができる。
ターの偏光角度を０°、９０°に変えパターンと異物の
信号レベルを比較すると、Ｏｏでは異物〉パターン、９
０°では異物くパターンと変化するため、この２つの角
度の信号を比較することにより、異物とパターンの弁別
能力を飛躍的に向上することができる。
散乱光を検出する検出系に角度の異なるＯｏと９０’の
偏光フィルターと、それと対となる検出素子を配置した
散乱光をそれぞれ検出するか、あるいは、一つの偏光フ
ィルターで同一の散乱光を偏光角度０°と９０°で検出
するようにする。
偏光フィルターと、それと対となる検出素子を配置した
散乱光をそれぞれ検出するか、あるいは、一つの偏光フ
ィルターで同一の散乱光を偏光角度０°と９０°で検出
するようにする。
このようにしておくと前述した如く、０″と９０”で異
物とパターンの信号レベルが極端に異なるため、両者の
信号強度を比較することによりパターンを弁別できる。
物とパターンの信号レベルが極端に異なるため、両者の
信号強度を比較することによりパターンを弁別できる。
すなわち、異物はｏｌく９０°となりパターンは０″〈
９０°となるため、後者をパターンと認識することがで
き弁別可能となる。
９０°となるため、後者をパターンと認識することがで
き弁別可能となる。
以下本発明の一実施例を図により説明する。
第１図は、検出系のポイントを示す図で、被検体、例え
ばレティクル１にはパターン形成上に異物付着を防止す
る為、０．８ μｍ厚などのプラスチックフィルムと金
属枠で構成したペリクル２が貼り付けられている。この
レティクル１の異物を検査するため、先づＡの如く偏光
レーザを照射し、レティクル１の上にＹで示す方向にス
キャンし、Ｙ線上で発生する散乱光をペリクル２の枠に
影響されずに検出する為、Ｙ線上左右を２分割し、それ
ぞれ散乱光１ａを検出器３で散乱光２ａを検出器４で検
出する。
ばレティクル１にはパターン形成上に異物付着を防止す
る為、０．８ μｍ厚などのプラスチックフィルムと金
属枠で構成したペリクル２が貼り付けられている。この
レティクル１の異物を検査するため、先づＡの如く偏光
レーザを照射し、レティクル１の上にＹで示す方向にス
キャンし、Ｙ線上で発生する散乱光をペリクル２の枠に
影響されずに検出する為、Ｙ線上左右を２分割し、それ
ぞれ散乱光１ａを検出器３で散乱光２ａを検出器４で検
出する。
一方、レティクル１はステージ（図示せず）の移動でＸ
方向手前側に移動しレティクル１上の半面の検査を終る
０次にレーザをＢの如く反対方向から照射し、手前側半
面の検査をする。
方向手前側に移動しレティクル１上の半面の検査を終る
０次にレーザをＢの如く反対方向から照射し、手前側半
面の検査をする。
第２図は検出系の原理を示す図で、Ｓ偏光レーザＬｏを
矢印の方向から照射すると異物７からはＳ偏光と垂直偏
光（以降Ｐ偏光と略称する）が混在した散乱光ＬＬが発
生し、パターン８からは主にＰ偏光の散乱光Ｌｚが発生
する。両者の散乱光を検出するため、偏光フィルター９
を通して検出器４で受光する。この時の偏光特性を第３
図により説明する。
矢印の方向から照射すると異物７からはＳ偏光と垂直偏
光（以降Ｐ偏光と略称する）が混在した散乱光ＬＬが発
生し、パターン８からは主にＰ偏光の散乱光Ｌｚが発生
する。両者の散乱光を検出するため、偏光フィルター９
を通して検出器４で受光する。この時の偏光特性を第３
図により説明する。
偏光フィルター９の偏光角度を変化させると図に示す如
く、異物７とパターン８から発する散乱光強度が出きく
変化する。そこで、第４図の一実施例に示す如く、検出
系を構成する。
く、異物７とパターン８から発する散乱光強度が出きく
変化する。そこで、第４図の一実施例に示す如く、検出
系を構成する。
異物７とパターン８から発する１′！１乱光Ｉ、１．
ｒ、ａを２つの偏光フィルター９ａ、９ｂに導き、それ
ぞれ検出器４ａ、４ｂで受光する。ここで、偏光フィル
ター９ａは偏光角が例えばＯｏに、偏光フィルター９ｂ
は、例えば９０″に設定しておく。
ｒ、ａを２つの偏光フィルター９ａ、９ｂに導き、それ
ぞれ検出器４ａ、４ｂで受光する。ここで、偏光フィル
ター９ａは偏光角が例えばＯｏに、偏光フィルター９ｂ
は、例えば９０″に設定しておく。
この様にしておくと、偏光フィルタ９ａ、９ｂを透過し
た光は、第３図に示す、偏光角度０′″と９０＠の散乱
光特性に基づくものとなる。したがって、コンパレータ
１０、で検出器４ａ、４ｂの信号を比較し、その強度が
、４ａ＞４ｂの管台は異物７、からの散乱光Ｌ１であり
、４ａ（４ｂの場合はパターン８からの散乱光Ｌ２と認
識することができるので、４ａ）４ｂの時のみ、演算処
理部１１．に４ａからの信号のみを送信し、異物サイズ
の演算をする。この様に演算処理部１１、にはパターン
８、からの信号は送信されないため、演算結果は、異物
７、からの情報のみが出力されパターン８からの演報は
なくなる。
た光は、第３図に示す、偏光角度０′″と９０＠の散乱
光特性に基づくものとなる。したがって、コンパレータ
１０、で検出器４ａ、４ｂの信号を比較し、その強度が
、４ａ＞４ｂの管台は異物７、からの散乱光Ｌ１であり
、４ａ（４ｂの場合はパターン８からの散乱光Ｌ２と認
識することができるので、４ａ）４ｂの時のみ、演算処
理部１１．に４ａからの信号のみを送信し、異物サイズ
の演算をする。この様に演算処理部１１、にはパターン
８、からの信号は送信されないため、演算結果は、異物
７、からの情報のみが出力されパターン８からの演報は
なくなる。
第５図は１本発明に係るもう一つの実施例を示す図で、
偏光フィルター９、を一つの構成し、このフィルタ９は
偏光角度を変更可能なフィルター回転駆動部１２と連結
されており、演算処理部１１、からの同期信号により駆
動信号を生し、フイルター９、の偏光角度を０＠と９０
”などのあらかじめ決められた２つの角度に変え散乱光
Ｌｘ。
偏光フィルター９、を一つの構成し、このフィルタ９は
偏光角度を変更可能なフィルター回転駆動部１２と連結
されており、演算処理部１１、からの同期信号により駆
動信号を生し、フイルター９、の偏光角度を０＠と９０
”などのあらかじめ決められた２つの角度に変え散乱光
Ｌｘ。
Ｌｚを検出器４、で受光する。さらに、演算処理部１１
、はフィルター９の駆動信号と同期して、０°と９０°
の偏光角度に相当する受光信号をそれぞれメモリし、前
記実施例の要領でコンパレータ１０、相当以降の伴走と
、演算を行うことで前記実施例と同様の効果を得ること
が出来る。
、はフィルター９の駆動信号と同期して、０°と９０°
の偏光角度に相当する受光信号をそれぞれメモリし、前
記実施例の要領でコンパレータ１０、相当以降の伴走と
、演算を行うことで前記実施例と同様の効果を得ること
が出来る。
本発明によれば、パターンと異物の偏光特性により、パ
ターンの弁別が確実にでき、従来パターンが微細になる
と誤報となっていた現象が全くなくなるため、今後益々
微細化されるパターンを形成した例えば、レティクル上
の異物検査装置に装備することが大きな効果が期待され
る。
ターンの弁別が確実にでき、従来パターンが微細になる
と誤報となっていた現象が全くなくなるため、今後益々
微細化されるパターンを形成した例えば、レティクル上
の異物検査装置に装備することが大きな効果が期待され
る。
第１図は、本発明の検出系の概要を示す図、第２＠は、
検出原理を示す図、第３図は、偏光特性を示す図、第４
図は、検出系の第１の構成例を示す図、第５図は検出系
の第２の構成例を示す図。 １・・・レティクル、２・・・ペリクル、３・・・検出
器、４・・・検出器、７・・・異物、８・・・パターン
、９・・・偏光フィルター、１０・・・コンパレータ、
１１・・・演算処理部・
′７−ｈ代理人 弁理士 小川勝男
シ２′第１ 図 ／ −−−Ｌティクｌし Ｚ −・ペリ７／Ｌ／ ３−一一才史出各 ４−梗云呑 第２図 ７−−−莫勿 ８−−− ／う一ン ｑ−一−イ涛Ｆｔｅプヂルタ− 第３ 区 侮光 角ＩＥ（ｄｑ） 第４図 ９υ −−一鳴１光フィルターレ １０−−−コン／マし−７ １／ −−一涜′＄処理卵
検出原理を示す図、第３図は、偏光特性を示す図、第４
図は、検出系の第１の構成例を示す図、第５図は検出系
の第２の構成例を示す図。 １・・・レティクル、２・・・ペリクル、３・・・検出
器、４・・・検出器、７・・・異物、８・・・パターン
、９・・・偏光フィルター、１０・・・コンパレータ、
１１・・・演算処理部・
′７−ｈ代理人 弁理士 小川勝男
シ２′第１ 図 ／ −−−Ｌティクｌし Ｚ −・ペリ７／Ｌ／ ３−一一才史出各 ４−梗云呑 第２図 ７−−−莫勿 ８−−− ／う一ン ｑ−一−イ涛Ｆｔｅプヂルタ− 第３ 区 侮光 角ＩＥ（ｄｑ） 第４図 ９υ −−一鳴１光フィルターレ １０−−−コン／マし−７ １／ −−一涜′＄処理卵
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、パターン付基板上に付着した異物を偏光レーザを用
い検出する装置において、被検体から発する散乱光を２
つの異なる偏光角度を有する偏光フィルターを通してそ
れぞれ検出し、２つの信号の強度判定結果に基づき、異
物とパターンを弁別することを特徴とする異物検査装置
。 ２、偏光フィルターを偏光角度の異なる２つのフィルタ
ーで構成したことを特徴とする特許請求の範囲１項の異
物検査装置。 ３、１つの偏光フィルターと該フィルターの偏光角度を
変えるための機構を有する検出系で構成したことを特徴
とする特許請求の範囲１項の異物検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61276608A JPH0776753B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61276608A JPH0776753B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 異物検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63132143A true JPS63132143A (ja) | 1988-06-04 |
| JPH0776753B2 JPH0776753B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=17571811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61276608A Expired - Lifetime JPH0776753B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0776753B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001041289A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-02-13 | Valeo | 自動車のクラッチのための可撓性フライホイール |
| WO2011099404A1 (en) * | 2010-02-15 | 2011-08-18 | Ricoh Company, Ltd. | Transparent object detection system and transparent flat plate detection system |
| JP2011164062A (ja) * | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Ricoh Co Ltd | 透明平板検出システム |
| JP2011164061A (ja) * | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Ricoh Co Ltd | 透明体検出システム |
| WO2019102734A1 (ja) * | 2017-11-24 | 2019-05-31 | ソニー株式会社 | 検出装置、及び電子機器の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61230048A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-14 | Hitachi Ltd | 異物検出方法 |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP61276608A patent/JPH0776753B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61230048A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-14 | Hitachi Ltd | 異物検出方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001041289A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-02-13 | Valeo | 自動車のクラッチのための可撓性フライホイール |
| WO2011099404A1 (en) * | 2010-02-15 | 2011-08-18 | Ricoh Company, Ltd. | Transparent object detection system and transparent flat plate detection system |
| JP2011164062A (ja) * | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Ricoh Co Ltd | 透明平板検出システム |
| JP2011164061A (ja) * | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Ricoh Co Ltd | 透明体検出システム |
| US9080986B2 (en) | 2010-02-15 | 2015-07-14 | Ricoh Company, Ltd. | Transparent object detection system and transparent flat plate detection system |
| WO2019102734A1 (ja) * | 2017-11-24 | 2019-05-31 | ソニー株式会社 | 検出装置、及び電子機器の製造方法 |
| US11598715B2 (en) | 2017-11-24 | 2023-03-07 | Sony Corporation | Detection apparatus and method of producing electronic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0776753B2 (ja) | 1995-08-16 |
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