JPS63132425A - 縮小露光機の位置決め方法 - Google Patents
縮小露光機の位置決め方法Info
- Publication number
- JPS63132425A JPS63132425A JP61163583A JP16358386A JPS63132425A JP S63132425 A JPS63132425 A JP S63132425A JP 61163583 A JP61163583 A JP 61163583A JP 16358386 A JP16358386 A JP 16358386A JP S63132425 A JPS63132425 A JP S63132425A
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- JP
- Japan
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- stage
- orthogonal
- coordinates
- alignment marks
- orthogonality
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、半導体製造装置における縮小露光機（ステ
ッパ）の光学系の検査調整に適用される縮小露光機の補
正方法に関するものである。
ッパ）の光学系の検査調整に適用される縮小露光機の補
正方法に関するものである。
（従来の技術）
第４図（ａ）は従来のステッパ装置の一構成例を示す平
面図、第４図（ｂｌはこのステッパ装置の正面図である
。
面図、第４図（ｂｌはこのステッパ装置の正面図である
。
この第４図（ａ）、第４図ｔｂ＋の両図において、１１
はＸステージ、１２はＹステージであり、Ｘステージ１
１はモータ１３で駆動され、Ｙステージ１２はモータ１
４で駆動されるようになっている。
はＸステージ、１２はＹステージであり、Ｘステージ１
１はモータ１３で駆動され、Ｙステージ１２はモータ１
４で駆動されるようになっている。
Ｘステージ１１はミラー１５で位置決めするようにして
おり、このミラー１５の鏡面にレーザ干渉測長機のレー
ザ】９が入射するようにしている。
おり、このミラー１５の鏡面にレーザ干渉測長機のレー
ザ】９が入射するようにしている。
同様にして、ミラー１６でＹステージ１２の位置決めを
行うようにしており、このミラー１６の鏡面にレーザ干
渉測長機のレーザ２０が入射するようにしている。なお
、１７はウニ八チャック、１８はウェハである。
行うようにしており、このミラー１６の鏡面にレーザ干
渉測長機のレーザ２０が入射するようにしている。なお
、１７はウニ八チャック、１８はウェハである。
とのレーザ干渉測長機でミラー面の位置測定がＸおよび
Ｙの方向について行なわれ、その結果はＸステージ１１
、Ｙステージ１２を駆動するモータ１３．１４にフィー
ドバックをかけて、Ｘステージ１１、Ｙステージ１２の
位望決めを行っている。
Ｙの方向について行なわれ、その結果はＸステージ１１
、Ｙステージ１２を駆動するモータ１３．１４にフィー
ドバックをかけて、Ｘステージ１１、Ｙステージ１２の
位望決めを行っている。
（発明が解決しようとする問題点）
この従来のステッパ装置は、Ｘおよび゛Ｙ方向に設けら
れたミラー１５．１６を位置測長の基準面としているた
めに、基準面の直交度が経時変化で変動した場合、その
変動した直交度がステージの直交精度となってしまう。
れたミラー１５．１６を位置測長の基準面としているた
めに、基準面の直交度が経時変化で変動した場合、その
変動した直交度がステージの直交精度となってしまう。
前述のように、位置座標を測定しているミラー１５．１
６の直交度が変化すると、その変化がそのまま、ステー
ジの直交度の異常につながるという問題があった。
６の直交度が変化すると、その変化がそのまま、ステー
ジの直交度の異常につながるという問題があった。
この問題を解決するためにＸステージ１１およびＹステ
ージ１２用のミラー１５，１６を一体化して作る方法が
あるが、その直交度が良好なものを製造することがむず
かしいという欠点があった。
ージ１２用のミラー１５，１６を一体化して作る方法が
あるが、その直交度が良好なものを製造することがむず
かしいという欠点があった。
この発明は、前記従来技術がもっている問題点のうち、
ミラーの直交度の変化にともなうステージの直交度の異
常を生じろ点と、ＸステージとＹステージ用のミラーの
一体化製造の高精度化が困難である点について解決した
縮小露光機の補正方法を提供するものである。
ミラーの直交度の変化にともなうステージの直交度の異
常を生じろ点と、ＸステージとＹステージ用のミラーの
一体化製造の高精度化が困難である点について解決した
縮小露光機の補正方法を提供するものである。
（問題点を解決するための手段）
この発明は縮小露光機の補正方法において、ミラー近傍
に固定したステージターゲット上に直交的に配置された
複数のアライメントマークをＸ方向とＹ方向の各ミラー
に対してそれぞれ２点り上端れた点でアライメントして
各アライメントマークの終了した時点のステージの位置
座標を記憶させる工程を導入したものである。
に固定したステージターゲット上に直交的に配置された
複数のアライメントマークをＸ方向とＹ方向の各ミラー
に対してそれぞれ２点り上端れた点でアライメントして
各アライメントマークの終了した時点のステージの位置
座標を記憶させる工程を導入したものである。
（作 用）
この発明によれば、縮小露光機の補正方法において、以
上のような工程を導入したので、ステージの位置座標の
記憶値からＸおよびＹ方向のミラーの直交度のエラー値
を算出し、一定の精度内Ｘ。
上のような工程を導入したので、ステージの位置座標の
記憶値からＸおよびＹ方向のミラーの直交度のエラー値
を算出し、一定の精度内Ｘ。
Ｙでステージの直交度を保つようにステッピング時に補
正をかけるように作用し、したがって前記問題点を除去
できる。
正をかけるように作用し、したがって前記問題点を除去
できる。
（実 施 例）
以下乙の発明の縮小露光機の補正方法の実施例について
図面に基づき説明する。第１図（ａｌはその一実施例に
適用されろステッパ装置の平面図であり、第１図ｆｂ）
はその正面図である。この第１図（ａ）。
図面に基づき説明する。第１図（ａｌはその一実施例に
適用されろステッパ装置の平面図であり、第１図ｆｂ）
はその正面図である。この第１図（ａ）。
第１図ｆｂｌにおいて構成の説明に際し、第４図（ａ）
。
。
第４図（ｂ）と同一部分には同一符号を付すのみにとど
め、第４図（ａ）、第４図（ｂｌとは異なる部分を主体
に述べる。
め、第４図（ａ）、第４図（ｂｌとは異なる部分を主体
に述べる。
この第１図（ａ）、第１図（ｂｌを第４図（ａ）、第４
図ｆｂ）と比較しても明らかなように、符号１１〜２０
で示す部分は第４図（ａ）、第４図ｆｂｌと同様であり
、符号２１〜２４で示す部分が第４図（ａ）、第４図（
ｂｌの構成に新たに付加された部分である。
図ｆｂ）と比較しても明らかなように、符号１１〜２０
で示す部分は第４図（ａ）、第４図ｆｂｌと同様であり
、符号２１〜２４で示す部分が第４図（ａ）、第４図（
ｂｌの構成に新たに付加された部分である。
丁なわち、２１は「Ｌ」形に形成されたステージターゲ
ットであり、このステージターゲット２１の両端近傍に
はアライメントマーク２２，２４が設けられており、こ
のステージターゲット２１の中央部（折曲部）にもアラ
イメントマーク２３が設けられている。
ットであり、このステージターゲット２１の両端近傍に
はアライメントマーク２２，２４が設けられており、こ
のステージターゲット２１の中央部（折曲部）にもアラ
イメントマーク２３が設けられている。
第２図は第１図（ａ）、第１図ｆｂ）の必要な個所のみ
を抜き出して示し、２５はアライメント系である。
を抜き出して示し、２５はアライメント系である。
次に、この第１図（ａ）、第１図（ｂｌおよび第２図お
よび第３図（ａｌ〜第３図ｔｅｌを併用してこの発明の
縮小露光機の補正方法について説明する。この第３図（
ａ）〜第３図（Ｃ）はこの発明における直交度の測定の
順序を示したものである。
よび第３図（ａｌ〜第３図ｔｅｌを併用してこの発明の
縮小露光機の補正方法について説明する。この第３図（
ａ）〜第３図（Ｃ）はこの発明における直交度の測定の
順序を示したものである。
まず、第３図（ａｌに示すようにアライメント系２５で
１ライメントマーク２４のアライメントを行いこのステ
ージ位置座標を（ＸＡ、ＹＡ）とする。同様に第３図（
ｂ）、第３図ｔＣ）に示すようにアライメントマーク２
２．２３をアライメントした場合のステージ位置座標を
（ｘ、、ｙ６）および（Ｘｏ、Ｙｏｌとし、さらにアラ
イメントマーク２４と２３間の距離を（、アライメン）
・マーク２３と２２１１１ｉの距離を１７とすると ＹＡ−Ｙ８Ｘｏ−Ｘ８ ｘｌＶ の場合、直交しているが、第３図（ｂ）、第３図（Ｃ）
のようにミラー１６が１６°のように変化した場合とな
り、直交していないことがわかり、ステージの直交系２
５は第３図中の点線で示したようになる。ここでΔｘ＝
ｘ２−ｘ’、とするとステージのＹＹ 方向の移動ＪＩＹに対して−Ｙ×ΔＸの補正を計算上掛
けることにより、図中の実線で示したような直交の座標
を確保することが可能となる。
１ライメントマーク２４のアライメントを行いこのステ
ージ位置座標を（ＸＡ、ＹＡ）とする。同様に第３図（
ｂ）、第３図ｔＣ）に示すようにアライメントマーク２
２．２３をアライメントした場合のステージ位置座標を
（ｘ、、ｙ６）および（Ｘｏ、Ｙｏｌとし、さらにアラ
イメントマーク２４と２３間の距離を（、アライメン）
・マーク２３と２２１１１ｉの距離を１７とすると ＹＡ−Ｙ８Ｘｏ−Ｘ８ ｘｌＶ の場合、直交しているが、第３図（ｂ）、第３図（Ｃ）
のようにミラー１６が１６°のように変化した場合とな
り、直交していないことがわかり、ステージの直交系２
５は第３図中の点線で示したようになる。ここでΔｘ＝
ｘ２−ｘ’、とするとステージのＹＹ 方向の移動ＪＩＹに対して−Ｙ×ΔＸの補正を計算上掛
けることにより、図中の実線で示したような直交の座標
を確保することが可能となる。
（発明の効果）
以上詳細に説明したようにこの発明によれば、ステージ
ターゲラ（・上に複数の１ライメントマークを設け、縮
小露光機のアライメントマーク系を利用してアライメン
トマークを順次アライメントしてそのときの座標位置を
記憶して直交度の変化を算出してステージのステッピン
グ時に補正をかけるようにしたので、ウニへのステージ
の座標位置の測長用ミラーの経時変化による須交度の変
化に対し補正を掛けろことが可能となり、常に一定のＭ
匣内に保つことが可能となる。
ターゲラ（・上に複数の１ライメントマークを設け、縮
小露光機のアライメントマーク系を利用してアライメン
トマークを順次アライメントしてそのときの座標位置を
記憶して直交度の変化を算出してステージのステッピン
グ時に補正をかけるようにしたので、ウニへのステージ
の座標位置の測長用ミラーの経時変化による須交度の変
化に対し補正を掛けろことが可能となり、常に一定のＭ
匣内に保つことが可能となる。
また、測長用のミラーをＬ型に形成し、直交度を保つ方
式に比べ、アライメン）・マークを直角に一つのターゲ
ット内に配置するだけでよく、さらに、そのマーク位置
が実際に直交していなくてもそのエラーを測定し、ソフ
ト的に補正値として持たせることによりその精度を向上
させることが可能である。
式に比べ、アライメン）・マークを直角に一つのターゲ
ット内に配置するだけでよく、さらに、そのマーク位置
が実際に直交していなくてもそのエラーを測定し、ソフ
ト的に補正値として持たせることによりその精度を向上
させることが可能である。
第１図（ａｌはこの発明の縮小露光機の補正方法の一実
施例に適用されるステッパ装置の平面図、第１図ｆｂ）
は同上ステッパ装置の正面図、第２図は同上ステッパ装
置の主要部分を取り出して示す平面図、第３図（ａｌな
いし第３図（ｃ）はそれぞれ同上縮小露光機の補正方法
の一実施例の工程説明図、第４図ｔａ＋は従来のステッ
パ装置の平面図、第４図ｆｂ）は従来のステッパ装置の
正面図である。 １１・・・Ｘステージ、１２・・・Ｙステージ、１３゜
１４・・・モータ、１５，１６・・・ミラー、１７・・
・ウェハチャック、１８・・・ウェハ、２１・・・ステ
ージターゲット、２２〜２４・・・アライメントマーク
、２５・・アライメント系。 第１図 ２５ 了つイメント示 ３う１ びゴ（σ）、）巧°１図（ｂ）の・ス゛４ｉイ
固！すＴの；ト面［り第２図 本兇Ｂ％１ｇ工守！客九ヨへ凹 八 不し米の入ゴシノ■峡１の正云図 手続補正書（方式） ％式％ １ 事件の表示 特願昭６１−１６３５８３号 ２ 発明の名称 縮小露光機の補正方法 ３ 補正をする者 “ 事件との関係 特許出願人 （０２９）沖電気工業株式会社 ６ 補正の対象 図面の簡単な説明の欄 ７ 補正の内容
施例に適用されるステッパ装置の平面図、第１図ｆｂ）
は同上ステッパ装置の正面図、第２図は同上ステッパ装
置の主要部分を取り出して示す平面図、第３図（ａｌな
いし第３図（ｃ）はそれぞれ同上縮小露光機の補正方法
の一実施例の工程説明図、第４図ｔａ＋は従来のステッ
パ装置の平面図、第４図ｆｂ）は従来のステッパ装置の
正面図である。 １１・・・Ｘステージ、１２・・・Ｙステージ、１３゜
１４・・・モータ、１５，１６・・・ミラー、１７・・
・ウェハチャック、１８・・・ウェハ、２１・・・ステ
ージターゲット、２２〜２４・・・アライメントマーク
、２５・・アライメント系。 第１図 ２５ 了つイメント示 ３う１ びゴ（σ）、）巧°１図（ｂ）の・ス゛４ｉイ
固！すＴの；ト面［り第２図 本兇Ｂ％１ｇ工守！客九ヨへ凹 八 不し米の入ゴシノ■峡１の正云図 手続補正書（方式） ％式％ １ 事件の表示 特願昭６１−１６３５８３号 ２ 発明の名称 縮小露光機の補正方法 ３ 補正をする者 “ 事件との関係 特許出願人 （０２９）沖電気工業株式会社 ６ 補正の対象 図面の簡単な説明の欄 ７ 補正の内容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （ａ）直交的に配置された複数のアライメントマークを
有するステージターゲットをウェハステージ上に設置す
る工程と、 （ｂ）露光機のアライメント系を利用して上記ステージ
ターゲット上のアライメントマークを順次アライメント
してその座標位置を求めて記憶する工程と、 （ｃ）アライメントマークの求めた座標位置よりＸステ
ージとＹステージの位置決め用のミラーの直交度のエラ
ーを算出してＸステージおよびＹステージのステッピン
グ時に補正をかける工程と、よりなる縮小露光機の補正
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61163583A JP2502980B2 (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 縮小露光機の位置決め方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61163583A JP2502980B2 (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 縮小露光機の位置決め方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63132425A true JPS63132425A (ja) | 1988-06-04 |
| JP2502980B2 JP2502980B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=15776669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61163583A Expired - Lifetime JP2502980B2 (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | 縮小露光機の位置決め方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502980B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0684753A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-25 | Nikon Corp | 露光方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5780724A (en) * | 1980-11-07 | 1982-05-20 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Positioning device |
| JPS60186845A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光装置の位置合せ装置 |
| JPS62267810A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Nikon Corp | ステージ位置決め方法 |
-
1986
- 1986-07-14 JP JP61163583A patent/JP2502980B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5780724A (en) * | 1980-11-07 | 1982-05-20 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Positioning device |
| JPS60186845A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光装置の位置合せ装置 |
| JPS62267810A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Nikon Corp | ステージ位置決め方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0684753A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-25 | Nikon Corp | 露光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2502980B2 (ja) | 1996-05-29 |
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