JPS63140904A - 散乱光測定装置 - Google Patents
散乱光測定装置Info
- Publication number
- JPS63140904A JPS63140904A JP28928886A JP28928886A JPS63140904A JP S63140904 A JPS63140904 A JP S63140904A JP 28928886 A JP28928886 A JP 28928886A JP 28928886 A JP28928886 A JP 28928886A JP S63140904 A JPS63140904 A JP S63140904A
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- Japan
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- light
- measured
- scattered
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
この発明は、光を被測定物に入射させそのとき生じる散
乱光から被測定物を計測する散乱光測定装置に関する。
乱光から被測定物を計測する散乱光測定装置に関する。
(従来の技術)
粒径の計測、被測定物の表面パターンの測定には、被測
定物に光を入射させたときに生じる散乱光を利用して行
なうようにしたものがある。
定物に光を入射させたときに生じる散乱光を利用して行
なうようにしたものがある。
こうした測定に用いられる散乱光測定装置には、従来、
第6図に示されるように粒子など被測定物aへ光を大割
させる光路すに、被測定物aを囲むような球Cを設け、
この球Cの内面で受けた散乱光d・・・を積分により測
るもの、第7図および第8図に示されるように被測定物
aからの散乱光d・・・をレンズeを通じ光検知器fで
受けて測るもの、さらには第9図に示されるように光路
すの側方に散乱光d・・・を受ける放物面IAaを設け
る他、放物面tllqと対向して光検知器りを設けて、
光路す上の光検知器fと合せて散乱光d・・・を測るも
のなどが用いられている。
第6図に示されるように粒子など被測定物aへ光を大割
させる光路すに、被測定物aを囲むような球Cを設け、
この球Cの内面で受けた散乱光d・・・を積分により測
るもの、第7図および第8図に示されるように被測定物
aからの散乱光d・・・をレンズeを通じ光検知器fで
受けて測るもの、さらには第9図に示されるように光路
すの側方に散乱光d・・・を受ける放物面IAaを設け
る他、放物面tllqと対向して光検知器りを設けて、
光路す上の光検知器fと合せて散乱光d・・・を測るも
のなどが用いられている。
(発明が解決しようとする問題点)
ところが、積分球を利用した測定技術は、全散乱光を検
出できるものの、散乱光の角度分布が測ることができな
い欠点をもつ。また光学系(レンズe)を用いて散乱光
d・・・を光検知器fへ導く構造は、散乱角θが小さな
ときはよいものの、大きな散乱角θを測ろうとすると、
非常に大きな開口数をもつレンズeを用いるか、レンズ
eを被測定物aに対して非常に近付けなければならず、
とても難しい。加えて、反射鏡(放物面鏡f)を使う構
造は、装置自体が大がかりになる問題をもっていて、い
ずれも有効なものではなかった。
出できるものの、散乱光の角度分布が測ることができな
い欠点をもつ。また光学系(レンズe)を用いて散乱光
d・・・を光検知器fへ導く構造は、散乱角θが小さな
ときはよいものの、大きな散乱角θを測ろうとすると、
非常に大きな開口数をもつレンズeを用いるか、レンズ
eを被測定物aに対して非常に近付けなければならず、
とても難しい。加えて、反射鏡(放物面鏡f)を使う構
造は、装置自体が大がかりになる問題をもっていて、い
ずれも有効なものではなかった。
この発明はこのような問題点に着目してなされたもので
、その目的とするところは、大きな開口数を使わず、か
つ被測定物との距離をあまり近付けずに、散乱光の散乱
分布および大なる散乱角の散乱光を測定することができ
るコンパクトな散乱光測定H置を提供することにある。
、その目的とするところは、大きな開口数を使わず、か
つ被測定物との距離をあまり近付けずに、散乱光の散乱
分布および大なる散乱角の散乱光を測定することができ
るコンパクトな散乱光測定H置を提供することにある。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段と作用)この発明は、光
源2からの光を集束して被測定物1に入射させる光学系
3を設け、この光学系3の出射側周囲を覆うように内面
に反射面6aをもつ筒状体6を設けて被測定物1からの
散乱光を受けるようにし、かつ筒状体6からの散乱光を
光電変換部8で光電変換して、その出力を処理する。
源2からの光を集束して被測定物1に入射させる光学系
3を設け、この光学系3の出射側周囲を覆うように内面
に反射面6aをもつ筒状体6を設けて被測定物1からの
散乱光を受けるようにし、かつ筒状体6からの散乱光を
光電変換部8で光電変換して、その出力を処理する。
(実施例)
以下、この発明を第1図ないし第3図に示す第1の実施
例にもとづいて説明する。第1図は散乱光測定装置の概
略構成を示し、1は平面な上面をもつ被測定物、2は該
被測定物1の上方に出射部を横に向けて配置された光源
、3は光学系である。光学系3は、被測定物1の直上に
集光レンズ4を配する他、この集光レンズ4と光源3の
出射部との間にビームスプリッタ5を設けた構成となっ
ていて、光1112からの光を集束して被測定物1の表
面1aへ照射できるようにしている。
例にもとづいて説明する。第1図は散乱光測定装置の概
略構成を示し、1は平面な上面をもつ被測定物、2は該
被測定物1の上方に出射部を横に向けて配置された光源
、3は光学系である。光学系3は、被測定物1の直上に
集光レンズ4を配する他、この集光レンズ4と光源3の
出射部との間にビームスプリッタ5を設けた構成となっ
ていて、光1112からの光を集束して被測定物1の表
面1aへ照射できるようにしている。
また集光レンズ4の周囲には、第3図に示されるような
略椀形をなした筒状体6が配設されている。筒状体6は
、小開口を被測定物1の表面1aに近接させて光路沿い
に配置されている他、内面には鏡面で構成される反射面
6aが設けられていて、被測定物1の表面で散乱した散
乱光Aを小開口を通して反射面6aで受けることができ
るようにしている。またビームスプリッタ5の背部には
正反射光を遮ぎるためのストッパ7が設けられ、筒状体
6の大開口から散乱光Aのみを出射させることができる
構造にしている。
略椀形をなした筒状体6が配設されている。筒状体6は
、小開口を被測定物1の表面1aに近接させて光路沿い
に配置されている他、内面には鏡面で構成される反射面
6aが設けられていて、被測定物1の表面で散乱した散
乱光Aを小開口を通して反射面6aで受けることができ
るようにしている。またビームスプリッタ5の背部には
正反射光を遮ぎるためのストッパ7が設けられ、筒状体
6の大開口から散乱光Aのみを出射させることができる
構造にしている。
こうした筒状体6の出射部側(大開口側)に、第2図に
も示されるように光電変換部1例えばエリアアレイセン
サ8(多画素イメージセンサ;光検知器)が筒状体6の
軸心とは直角な方向沿いに設けられ、散乱光Aを同心円
状の分布から検出できるようにしている。そして、この
エリアアレイセンサ8に、マイクロコンピュータで構成
される処理回路9(処理部に相当)が接続され、得られ
る散乱光分布の電気信号から、例えばパターン検査に必
要な全散乱光、散乱角の分布、ii!!乱立体乱立分角
などを求めることができるようにしている。
も示されるように光電変換部1例えばエリアアレイセン
サ8(多画素イメージセンサ;光検知器)が筒状体6の
軸心とは直角な方向沿いに設けられ、散乱光Aを同心円
状の分布から検出できるようにしている。そして、この
エリアアレイセンサ8に、マイクロコンピュータで構成
される処理回路9(処理部に相当)が接続され、得られ
る散乱光分布の電気信号から、例えばパターン検査に必
要な全散乱光、散乱角の分布、ii!!乱立体乱立分角
などを求めることができるようにしている。
つぎに、このように構成された散乱光測定装置の作用に
ついて説明する。
ついて説明する。
光源2を作動させると、光io!2から出射された光は
、ビームスプリッタ5でレンズ側に導かれていき、集光
レンズ4で集光されて後、被測定物1の表面1aに照射
されていく。これにより、表面1a上で反射が起き、表
面1a上の測定すべきパターン(一定)に応じた正反射
光と散乱光Aとが発生する。
、ビームスプリッタ5でレンズ側に導かれていき、集光
レンズ4で集光されて後、被測定物1の表面1aに照射
されていく。これにより、表面1a上で反射が起き、表
面1a上の測定すべきパターン(一定)に応じた正反射
光と散乱光Aとが発生する。
そして、反射した光のうち正反射光はストッパ7でその
進行が遮られ、散乱光Aは反射面6aに反射して、集光
レンズ4の周辺部を通過する散乱光Aと共にエリアアレ
イセンサ8の表面に導かれていく。これにより、散乱光
Aがセンサ面に同心円状を描いて照射され、集光レンズ
4からだけでなく、大きな散乱角をもつ散乱光Aのもの
までも検出されていく。
進行が遮られ、散乱光Aは反射面6aに反射して、集光
レンズ4の周辺部を通過する散乱光Aと共にエリアアレ
イセンサ8の表面に導かれていく。これにより、散乱光
Aがセンサ面に同心円状を描いて照射され、集光レンズ
4からだけでなく、大きな散乱角をもつ散乱光Aのもの
までも検出されていく。
しかるに、全散乱光Aを検出するときは処理回路9でセ
ンサー面上の光検出領域の合計を求めればよく、また散
乱角の分布を検出するときは処理回路9で同一半径上の
円輪の和を求める、さらには散乱立体角の分布は処理回
路って同一角度に有る円弧の和を求めればよい。
ンサー面上の光検出領域の合計を求めればよく、また散
乱角の分布を検出するときは処理回路9で同一半径上の
円輪の和を求める、さらには散乱立体角の分布は処理回
路って同一角度に有る円弧の和を求めればよい。
かくして、大きな開口数のレンズを使ったり。
レンズを被測定物1に非常に近付けることになしに、大
きな散乱角の散乱光Aを測定することができる。しかも
、散乱光の角度分布を測定できることがわかる。また筒
状体6を光学系3の周囲に設ける他、筒状体6の開口端
側にエリアアレイセンサ8を設ければよいので、従来よ
うな反11 litを入射側方に設けたときにように装
置が大がかりになることもなく、コンパクト性にも浸れ
る。
きな散乱角の散乱光Aを測定することができる。しかも
、散乱光の角度分布を測定できることがわかる。また筒
状体6を光学系3の周囲に設ける他、筒状体6の開口端
側にエリアアレイセンサ8を設ければよいので、従来よ
うな反11 litを入射側方に設けたときにように装
置が大がかりになることもなく、コンパクト性にも浸れ
る。
なお、第1の実施例では散乱光Aのみを検出するように
したが、ストッパ7を取除いて正反射光も散乱光Aと共
に検出するようにしてもよい。
したが、ストッパ7を取除いて正反射光も散乱光Aと共
に検出するようにしてもよい。
また、第1の実施例では被測定物1の表面1a上の一定
パターンを検出するようにしたが、これに限らず、被測
定物1に代わり粒子(図示しない)を流通させて、散乱
角の分布から粒径計測などをしてもよい(粒子計測)。
パターンを検出するようにしたが、これに限らず、被測
定物1に代わり粒子(図示しない)を流通させて、散乱
角の分布から粒径計測などをしてもよい(粒子計測)。
さらに第1の実施例では、エリアアレイセンサ8を用い
たが、第4図に示される第2の実施例のようにリニアア
レイセンサ1oを用いて散乱光の散乱角度分布のみを知
るようにしても、第5図に示される第3の実施例のよう
に4つに分割された分割型センサ11を用いて散乱光立
体角の分布を知るようにしてもよい。
たが、第4図に示される第2の実施例のようにリニアア
レイセンサ1oを用いて散乱光の散乱角度分布のみを知
るようにしても、第5図に示される第3の実施例のよう
に4つに分割された分割型センサ11を用いて散乱光立
体角の分布を知るようにしてもよい。
加えて第1の実施例では、椀形の筒状体6を用いたが、
これに限らず、円筒状あるいは円錐状などの筒状体でも
よい。もちろん、分割タイプの筒状体でもよく、その構
造には限定されるものではない。
これに限らず、円筒状あるいは円錐状などの筒状体でも
よい。もちろん、分割タイプの筒状体でもよく、その構
造には限定されるものではない。
[発明の効果コ
以上説明したようにこの発明によれば、大きな開口数を
使わず、かつ被測定物との距離をあまり近付けずに、大
なる散乱角の散乱光を測定することができる。しかも、
散乱光の角度分布も測定することができる。そのうえ、
装置がコンパクトですむ利点もあり、性能のよい散乱光
測定装置を提供することができる。
使わず、かつ被測定物との距離をあまり近付けずに、大
なる散乱角の散乱光を測定することができる。しかも、
散乱光の角度分布も測定することができる。そのうえ、
装置がコンパクトですむ利点もあり、性能のよい散乱光
測定装置を提供することができる。
第1図はこの発明の第1の実施例の散乱光測定装置を示
す断面図、第2図はその光電変換部を示す平面図、第3
図はその筒状体を示す斜視図、第4図はこの発明の第2
の実施例を示す平面図、第5図はこの発明の第3の実施
例を示す平面図、第6図ないし第9図はそれぞれ異なる
従来の散乱光測定装置の側面図である。 1・・・被測定物、2・・・光源、6・・・筒状体、8
・・・エリアアレイセンサ(光電変換部)、9・・・処
理回路(処理部)、A・・・散乱光。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第3図 第 5 図 89 図
す断面図、第2図はその光電変換部を示す平面図、第3
図はその筒状体を示す斜視図、第4図はこの発明の第2
の実施例を示す平面図、第5図はこの発明の第3の実施
例を示す平面図、第6図ないし第9図はそれぞれ異なる
従来の散乱光測定装置の側面図である。 1・・・被測定物、2・・・光源、6・・・筒状体、8
・・・エリアアレイセンサ(光電変換部)、9・・・処
理回路(処理部)、A・・・散乱光。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第3図 第 5 図 89 図
Claims (3)
- (1)光源と、この光源からの光を集束して被測定物に
入射させる光学系と、この光学系の出射側周囲を覆うよ
うに設けられた前記被測定物からの散乱光を受けるため
の反射面を内面にもつ筒状体と、この筒状体からの散乱
光を光電変換する光電変換部と、この光電変換部からの
出力を処理する処理部とを具備したことを特徴する散乱
光測定装置。 - (2)光電変換部は、分割型センサ、あるいは多画素イ
メージセンサより構成されていることを特徴する特許請
求の範囲第1項に記載の散乱光測定装置。 - (3)光電変換部は、散乱光を正反射光と共に受けるも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
の散乱光測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28928886A JPS63140904A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | 散乱光測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28928886A JPS63140904A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | 散乱光測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63140904A true JPS63140904A (ja) | 1988-06-13 |
Family
ID=17741236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28928886A Pending JPS63140904A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | 散乱光測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63140904A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997012226A1 (en) * | 1995-09-25 | 1997-04-03 | Tencor Instruments | Improved system for surface inspection |
| US6538730B2 (en) | 2001-04-06 | 2003-03-25 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Defect detection system |
| US6606153B2 (en) | 1994-03-24 | 2003-08-12 | Kla-Tencor Corporation | Process and assembly for non-destructive surface inspections |
| FR2860869A1 (fr) * | 2003-10-10 | 2005-04-15 | Optis | Dispositif portable de mesure de l'intensite lumineuse d'un objet et utilisation d'un tel dispositif |
| WO2005036141A1 (fr) * | 2003-10-10 | 2005-04-21 | Optis | Dispositif portable de mesure de l'intensité lumineuse d'un objet et utilisation d'un tel dispositif |
| US7064821B2 (en) | 1997-09-19 | 2006-06-20 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Sample inspection system |
| US7116413B2 (en) | 2002-09-13 | 2006-10-03 | Kla-Tencor Corporation | Inspection system for integrated applications |
| US7119897B2 (en) | 1997-09-19 | 2006-10-10 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Sample inspection system |
| JP2010122193A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Fujitsu Ltd | 三次元構造物の形状測定装置 |
| US8379196B2 (en) | 2009-06-08 | 2013-02-19 | Sumco Corporation | Method for judging whether semiconductor wafer is non-defective wafer by using laser scattering method |
-
1986
- 1986-12-04 JP JP28928886A patent/JPS63140904A/ja active Pending
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| US7477371B2 (en) | 1994-03-24 | 2009-01-13 | Kla-Tencor Corporation | Process and assembly for non-destructive surface inspections |
| US7102744B2 (en) | 1994-03-24 | 2006-09-05 | Kla-Tencor Corporation | Process and assembly for non-destructive surface inspections |
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| US7079238B2 (en) | 1997-09-19 | 2006-07-18 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Sample inspection system |
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| US7130033B2 (en) | 2003-10-10 | 2006-10-31 | Optis | Portable device for measuring the light intensity from an object, and the use of such a device |
| JP2007508532A (ja) * | 2003-10-10 | 2007-04-05 | オプティス | 物体からの光強度を測定する携帯型装置とそのような装置の用途 |
| WO2005036141A1 (fr) * | 2003-10-10 | 2005-04-21 | Optis | Dispositif portable de mesure de l'intensité lumineuse d'un objet et utilisation d'un tel dispositif |
| JP2010122193A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Fujitsu Ltd | 三次元構造物の形状測定装置 |
| US8379196B2 (en) | 2009-06-08 | 2013-02-19 | Sumco Corporation | Method for judging whether semiconductor wafer is non-defective wafer by using laser scattering method |
| EP3290910A1 (en) | 2009-06-08 | 2018-03-07 | Sumco Corporation | Method for judging whether semiconductor wafer is non-defective wafer by using laser scattering method |
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