JPS63143505A - カラ−固体撮像装置の製造方法 - Google Patents
カラ−固体撮像装置の製造方法Info
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- JPS63143505A JPS63143505A JP61291081A JP29108186A JPS63143505A JP S63143505 A JPS63143505 A JP S63143505A JP 61291081 A JP61291081 A JP 61291081A JP 29108186 A JP29108186 A JP 29108186A JP S63143505 A JPS63143505 A JP S63143505A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラー固体撮像装置の製造方法に関するもの
である。
である。
従来の技術
従来のカラー固体撮像装置の製造方法について図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
第２図は従来のカラー固体撮像装置の製造方法を段階的
に示すものである。
に示すものである。
Ｐ型シリコン基板１に公知の所定の方法により選択拡散
、エツチング処理、開孔などを行ない、固体撮像装置に
必要なＮ型領域を設けＰＮ接合光電変換部２、素子分離
シリコン酸化膜３、パッシベーション膜として堆積シリ
コン酸化膜４を形成する。（第２図ａ） 次に、被染色膜として感光性をもたせたゼラチンを塗布
し、フォトリソ法により、所定のＰＮ接合光電変換部上
のみ被染色膜を残し、所定の染料、たとえば赤色染料で
もって染色し、着色膜５を形成する。さらに、着色膜間
の防染用としてアクリル系感光性樹脂を塗布し、フォト
リソ法により中間膜６ａを形成する。（第２図ｂ） 次に、上記と同様に、所定のＰＮ接合光電変換部上に被
染色膜をフォトリソ法によって形成し、所定の染料たと
えば、緑色染料でもって染色し、着色膜７を形成する。
、エツチング処理、開孔などを行ない、固体撮像装置に
必要なＮ型領域を設けＰＮ接合光電変換部２、素子分離
シリコン酸化膜３、パッシベーション膜として堆積シリ
コン酸化膜４を形成する。（第２図ａ） 次に、被染色膜として感光性をもたせたゼラチンを塗布
し、フォトリソ法により、所定のＰＮ接合光電変換部上
のみ被染色膜を残し、所定の染料、たとえば赤色染料で
もって染色し、着色膜５を形成する。さらに、着色膜間
の防染用としてアクリル系感光性樹脂を塗布し、フォト
リソ法により中間膜６ａを形成する。（第２図ｂ） 次に、上記と同様に、所定のＰＮ接合光電変換部上に被
染色膜をフォトリソ法によって形成し、所定の染料たと
えば、緑色染料でもって染色し、着色膜７を形成する。
その後、防染用として、アクリル系感光性樹脂を用いて
フォトリソ法により中間膜６ｂを形成する。さらに、所
定のＰＮ接合光電変換部上に被染色膜を７オトリソ法を
用いて形成し、所定の染料たとえば青色染料でもって染
色し、着色膜８を形成する。そののち、カラー固体撮像
装置を保護するため、アクリル系感光性樹脂を塗布し、
フォトリン法により保護膜９を形成する。（第２図Ｃ） 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記のような構成では、第２図Ｃに例示
したような斜め光１０が入射することがあり、カラーフ
ィルタを通った光とカラーフィルタを通らない光が混っ
てＰＮ接合光電変換部に入射することがある。この原因
は、着色膜の間に中間膜が存在するからで、この影響は
、色数が増え、特に上層の着色膜で大きくなる。したが
って、この斜め光の入射を極力防ぐことが課題となって
いた。
フォトリソ法により中間膜６ｂを形成する。さらに、所
定のＰＮ接合光電変換部上に被染色膜を７オトリソ法を
用いて形成し、所定の染料たとえば青色染料でもって染
色し、着色膜８を形成する。そののち、カラー固体撮像
装置を保護するため、アクリル系感光性樹脂を塗布し、
フォトリン法により保護膜９を形成する。（第２図Ｃ） 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記のような構成では、第２図Ｃに例示
したような斜め光１０が入射することがあり、カラーフ
ィルタを通った光とカラーフィルタを通らない光が混っ
てＰＮ接合光電変換部に入射することがある。この原因
は、着色膜の間に中間膜が存在するからで、この影響は
、色数が増え、特に上層の着色膜で大きくなる。したが
って、この斜め光の入射を極力防ぐことが課題となって
いた。
本発明は、これらの課題を解決するためになされたもの
で、斜め光の入射を減少させ実用に足るカラー固体撮像
装置の製造方法を提供するものである。
で、斜め光の入射を減少させ実用に足るカラー固体撮像
装置の製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
本発明のカラー固体撮像装置の製造方法は、所定の光電
変換部上のパッシベーション膜ヲカラーモザイクフィル
タに要する膜厚分だけ穿ち、パッシベーション膜に凹部
を形成し、前記凹部に被染色膜を形成し、所定の染料で
もって染色を施すことを繰返し行なうことから構成され
ている。
変換部上のパッシベーション膜ヲカラーモザイクフィル
タに要する膜厚分だけ穿ち、パッシベーション膜に凹部
を形成し、前記凹部に被染色膜を形成し、所定の染料で
もって染色を施すことを繰返し行なうことから構成され
ている。
作 用
この構成によって、全ての着色膜を同一平面上に形成す
ることができる。
ることができる。
実施例
本発明の一実施例について図面を参照しながら以下に説
明する。
明する。
第１図は、本発明の一実施例のカラー固体撮像装置の製
造方法を段階的に示すものである。
造方法を段階的に示すものである。
Ｐ型シリコン基板１００に公知の所定の方法によシ選択
拡散、エツチング処理、゛開孔などを行ない、固体撮像
装置に必要なＮ型領域を設けＰＮ接合光電変換部１０１
、素子分離シリコン酸化膜１ｏ２、パッシベーション膜
として堆積シリコン酸化膜１０３を形成する。（第１図
ａ）次に、堆積シリコン酸化膜１０３上にポジレストを
塗布し、所定のＰＮ接合光電変換部上のみフォトリン法
でポジレジストを取り除いたポジレジストパターン１０
４を形成する。次に、ウェットエツチング法またはドラ
イエツチング法によシ、着色膜として必要な膜厚分だけ
堆積シリコン酸化膜１０３を除去し、堆積シリコン酸化
膜内に凹部１０５を形成する。次に被染色膜としてネガ
型感光性をもたせたゼラチンを塗布し、ゼラチン塗布膜
１０６を形成する。（第１図ｂ） 次に、前記ポジレジストパターン１０４を形成したフォ
トマスクを用い、前記ゼラチン塗布膜１０６をフォトリ
ソ法でパターンニングし、被染色膜を形成する。該被染
色膜を所定の染料、たとえば赤色染料でもって染色を施
し、着色膜１０７を形成する。次に、ポジレジストパタ
ーン１０４を除去し、新たに、ポジレジストを塗布し、
所定のＰＮ接合光電変換部１０１上のみフォトリソ法で
ポジレジストを取り除いたポジレジストパターン１０８
を形成する。次に、ウェットエツチング法またはドライ
エツチング法により、着色膜として必要な膜厚分だけ堆
積シリコン酸化膜１０３を除去し、堆積シリコン酸化膜
内に凹部１０９を形成する。次に、被染色膜としてネガ
型感光性をもたせたゼラチンを塗布し、ゼラチン塗布膜
１１０を形成する。（第１図Ｃ） 次に、前記ポジレジストパターン１０８を形成したフォ
トマスクを用い、前記ゼラチン塗布膜１１０をフォトリ
ソ法でパターンニングシ、被染色膜を形成する。該被染
色膜を所定の染料、たとえば緑色染料でもって染色を施
し、着色膜１１１を形成する。次に、ポジレジストパタ
ーン１０８を除去する。次に、着色膜１０７、着色膜１
１１を形成したと同様の工程を繰り返して被染色膜を形
成し、所定の染料、たとえば青色染料でもって染色を施
し、着色膜１１２を形成し、着色膜１１２を形成時に用
いたポジレジストを除去し、新たに１アクリル系透明樹
脂によりカラーフィルタ保護のための保護膜１１３を形
成する。
拡散、エツチング処理、゛開孔などを行ない、固体撮像
装置に必要なＮ型領域を設けＰＮ接合光電変換部１０１
、素子分離シリコン酸化膜１ｏ２、パッシベーション膜
として堆積シリコン酸化膜１０３を形成する。（第１図
ａ）次に、堆積シリコン酸化膜１０３上にポジレストを
塗布し、所定のＰＮ接合光電変換部上のみフォトリン法
でポジレジストを取り除いたポジレジストパターン１０
４を形成する。次に、ウェットエツチング法またはドラ
イエツチング法によシ、着色膜として必要な膜厚分だけ
堆積シリコン酸化膜１０３を除去し、堆積シリコン酸化
膜内に凹部１０５を形成する。次に被染色膜としてネガ
型感光性をもたせたゼラチンを塗布し、ゼラチン塗布膜
１０６を形成する。（第１図ｂ） 次に、前記ポジレジストパターン１０４を形成したフォ
トマスクを用い、前記ゼラチン塗布膜１０６をフォトリ
ソ法でパターンニングし、被染色膜を形成する。該被染
色膜を所定の染料、たとえば赤色染料でもって染色を施
し、着色膜１０７を形成する。次に、ポジレジストパタ
ーン１０４を除去し、新たに、ポジレジストを塗布し、
所定のＰＮ接合光電変換部１０１上のみフォトリソ法で
ポジレジストを取り除いたポジレジストパターン１０８
を形成する。次に、ウェットエツチング法またはドライ
エツチング法により、着色膜として必要な膜厚分だけ堆
積シリコン酸化膜１０３を除去し、堆積シリコン酸化膜
内に凹部１０９を形成する。次に、被染色膜としてネガ
型感光性をもたせたゼラチンを塗布し、ゼラチン塗布膜
１１０を形成する。（第１図Ｃ） 次に、前記ポジレジストパターン１０８を形成したフォ
トマスクを用い、前記ゼラチン塗布膜１１０をフォトリ
ソ法でパターンニングシ、被染色膜を形成する。該被染
色膜を所定の染料、たとえば緑色染料でもって染色を施
し、着色膜１１１を形成する。次に、ポジレジストパタ
ーン１０８を除去する。次に、着色膜１０７、着色膜１
１１を形成したと同様の工程を繰り返して被染色膜を形
成し、所定の染料、たとえば青色染料でもって染色を施
し、着色膜１１２を形成し、着色膜１１２を形成時に用
いたポジレジストを除去し、新たに１アクリル系透明樹
脂によりカラーフィルタ保護のための保護膜１１３を形
成する。
なお、本実施例では、ゼラチン塗布膜形成後、フォトリ
ン法で被染色膜をパターンニングし、染色を施し着色膜
を形成したが、感光性をもたないゼラチンを塗布し塗布
膜を形成し、染色の後、下層のポジレジストパターン除
去と同時にポジレジスト上のゼラチン塗布膜を除去し、
着色膜を形成してもよい。
ン法で被染色膜をパターンニングし、染色を施し着色膜
を形成したが、感光性をもたないゼラチンを塗布し塗布
膜を形成し、染色の後、下層のポジレジストパターン除
去と同時にポジレジスト上のゼラチン塗布膜を除去し、
着色膜を形成してもよい。
発明の効果
以上の説明のように本発明は、中間膜を省くことができ
、各染色パターンが同一平面上にあることから斜め光の
入射による影響を抑えることができる。このように本発
明は、カラー固体撮像装置の製造方法に与える効果は大
なるものがある。
、各染色パターンが同一平面上にあることから斜め光の
入射による影響を抑えることができる。このように本発
明は、カラー固体撮像装置の製造方法に与える効果は大
なるものがある。
第１図は本発明の一実施例のカラー固体撮像装置の製造
方法を段階的に示した断面図、第２図は従来のカラー固
体撮像装置の製造方法を段階的に示した断面図である。 １００・・・・・Ｐ型シリコン基板、１０１・・・・・
・ＰＮ接合光電変換部、１０２・・・・・・素子分離シ
リコン酸化膜、１ｏ３・・・・・・堆積シリコン酸化膜
、１０４゜１０８・・・・・・ポジレジストパターン、
１０６，１０９・・・・・・凹部、１０６，１１０・・
・・・・ゼラチン塗布膜、１０７．１１１，１１２・・
・・・・着色膜、１１３・・・・・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ｆＩ
Ｉ！１図 ず００・−Ｐ’ｌシリコ靭
方法を段階的に示した断面図、第２図は従来のカラー固
体撮像装置の製造方法を段階的に示した断面図である。 １００・・・・・Ｐ型シリコン基板、１０１・・・・・
・ＰＮ接合光電変換部、１０２・・・・・・素子分離シ
リコン酸化膜、１ｏ３・・・・・・堆積シリコン酸化膜
、１０４゜１０８・・・・・・ポジレジストパターン、
１０６，１０９・・・・・・凹部、１０６，１１０・・
・・・・ゼラチン塗布膜、１０７．１１１，１１２・・
・・・・着色膜、１１３・・・・・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ｆＩ
Ｉ！１図 ず００・−Ｐ’ｌシリコ靭
Claims (1)
- 半導体基板の表面に複数の光電変換部を形成する工程と
、前記光電変換部上にパッシベーション膜を形成する工
程と、前記光電変換部上のパッシベーション膜をカラー
モザイクフィルタに要する膜厚分だけ穿って、パッシベ
ーション膜に凹部を形成し前記凹部に被染色性有機材料
を充填させて被染色膜を形成する工程と、前記被染色膜
に染色を施す工程とをそなえたことを特徴とするカラー
固体撮像装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61291081A JPS63143505A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61291081A JPS63143505A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63143505A true JPS63143505A (ja) | 1988-06-15 |
Family
ID=17764189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61291081A Pending JPS63143505A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63143505A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0250478A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-20 | Nec Kyushu Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
-
1986
- 1986-12-05 JP JP61291081A patent/JPS63143505A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0250478A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-20 | Nec Kyushu Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
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