JPS6314371Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6314371Y2 JPS6314371Y2 JP9924481U JP9924481U JPS6314371Y2 JP S6314371 Y2 JPS6314371 Y2 JP S6314371Y2 JP 9924481 U JP9924481 U JP 9924481U JP 9924481 U JP9924481 U JP 9924481U JP S6314371 Y2 JPS6314371 Y2 JP S6314371Y2
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- JP
- Japan
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- pressure
- gas
- branch point
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- cut valve
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- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は電子線露光装置等において試料交換室
等の真空を解除して不活性ガスを該室内に導入す
るための装置に関する。
等の真空を解除して不活性ガスを該室内に導入す
るための装置に関する。
例えば電子線露光装置においては、試料交換室
や露光室を種々の要請によつて真空解除しなけれ
ばならない場合が多いが、そのような場合真空解
除される室を清浄に保つと共に水分から遠ざける
ため窒素ガス等の不活性ガスをこれら室内に室内
の圧力が大気圧よりやや高くなるまで導入した
後、該室内に封じ込めるようにしている。
や露光室を種々の要請によつて真空解除しなけれ
ばならない場合が多いが、そのような場合真空解
除される室を清浄に保つと共に水分から遠ざける
ため窒素ガス等の不活性ガスをこれら室内に室内
の圧力が大気圧よりやや高くなるまで導入した
後、該室内に封じ込めるようにしている。
この際、装置の稼動効率を良くするため、上述
したガス導入に要する時間が短かいことが好まし
い。従つてガス供給側の圧力を高くすることが行
なわれているが、ガス供給側の圧力を高くする
と、ガスが導入される側の室の圧力もガスが導入
されるに伴つてガス供給側の圧力に近づいて来て
しまい、最終的にはガス供給側の圧力と同じにな
つてしまうため、このような室の蓋のロツクを解
除すると、蓋が勢い良く開いて装置にシヨツクを
与えるという不都合を生じる。又、ガスが導入さ
れる側の室の圧力が高くなると、室の極めて低い
圧力を測定するために室に取り付けられた真空計
を損うことがある。
したガス導入に要する時間が短かいことが好まし
い。従つてガス供給側の圧力を高くすることが行
なわれているが、ガス供給側の圧力を高くする
と、ガスが導入される側の室の圧力もガスが導入
されるに伴つてガス供給側の圧力に近づいて来て
しまい、最終的にはガス供給側の圧力と同じにな
つてしまうため、このような室の蓋のロツクを解
除すると、蓋が勢い良く開いて装置にシヨツクを
与えるという不都合を生じる。又、ガスが導入さ
れる側の室の圧力が高くなると、室の極めて低い
圧力を測定するために室に取り付けられた真空計
を損うことがある。
本考案はこのような従来の電子線装置等のガス
導入装置の欠点を解決すべくなされたもので、以
下図面に基づき本考案の一実施例を詳述する。
導入装置の欠点を解決すべくなされたもので、以
下図面に基づき本考案の一実施例を詳述する。
図面において１は窒素ガスボンベであり、該ガ
スボンベ１は圧力調整バルブ２を介してフイルタ
ー３に接続されている。該フイルター３はガスボ
ンベ１から供給される窒素ガスに含まれる不純物
粒子を除去するためのもので、該フイルター３の
コンダクタンスは小さい。該フイルター３は電磁
的に開閉される第１のカツトバルブ４を介して真
空排気された試料交換室５に接続される。フイル
ター３と第１のカツトバルブ４とを接続する流路
６には分岐点７から副流路８が分岐しており、該
副流路８の先端には該分岐点７と大気側との連通
を制御する第２のカツトバルブ９が設けられてい
る。又分岐点７と該第２のカツトバルブ９との間
には分岐点側から大気側への圧力が一定値例えば
0.1Kg／cm2以上の時のみ自動的に開状態となるよ
うに動作するリリーフバルブ１０が設けられてい
る。
スボンベ１は圧力調整バルブ２を介してフイルタ
ー３に接続されている。該フイルター３はガスボ
ンベ１から供給される窒素ガスに含まれる不純物
粒子を除去するためのもので、該フイルター３の
コンダクタンスは小さい。該フイルター３は電磁
的に開閉される第１のカツトバルブ４を介して真
空排気された試料交換室５に接続される。フイル
ター３と第１のカツトバルブ４とを接続する流路
６には分岐点７から副流路８が分岐しており、該
副流路８の先端には該分岐点７と大気側との連通
を制御する第２のカツトバルブ９が設けられてい
る。又分岐点７と該第２のカツトバルブ９との間
には分岐点側から大気側への圧力が一定値例えば
0.1Kg／cm2以上の時のみ自動的に開状態となるよ
うに動作するリリーフバルブ１０が設けられてい
る。
このような構成において、ガス導入に要する時
間を短かくするため圧力調整バルブ２を調整して
ガスボンベ１からのガス供給圧を例えば大気圧よ
り0.5Kg／cm2高い圧力に設定しておく。
間を短かくするため圧力調整バルブ２を調整して
ガスボンベ１からのガス供給圧を例えば大気圧よ
り0.5Kg／cm2高い圧力に設定しておく。
試料交換室５が高真空に保たれている時には第
１、第２のカツトバルブ４，９及びリリーフバル
ブは閉じられており、従つて比較的長時間経過し
た状態においては分岐点７の圧力もガス供給圧で
ある大気圧より0.5Kg／cm2高い圧力になつている。
１、第２のカツトバルブ４，９及びリリーフバル
ブは閉じられており、従つて比較的長時間経過し
た状態においては分岐点７の圧力もガス供給圧で
ある大気圧より0.5Kg／cm2高い圧力になつている。
そこで試料交換室５に窒素ガスを導入しようと
する時には、第２のカツトバルブ９を開くと共
に、第１のカツトバルブ４を開く。その結果リリ
ーフバルブ１０に対して分岐点７側から大気側に
0.5Kg／cm2の圧力がかかるためリリーフバルブ１
０も開状態となる。従つて分岐点７部分に存在す
るガスは試料交換室５及び大気側へ移動できる状
態となるが、試料交換室５の圧力が大気圧に比し
て極めて小さいため、分岐点７部分に存在するガ
ス及びフイルター３を通して供給されるガスの大
部分が試料交換室５へと移動し、試料交換室５の
圧力が上昇して行くと共にフイルター３のコンダ
クタンスが小さいため分岐点７部分の圧力は低下
して行く。その結果試料交換室５の圧力と分岐点
７部分の圧力は同一になるが、この圧力はリリー
フバルブ１０が大気圧より0.1Kg／cm2高い圧力を
境界にして自動的に開閉するため略この大気圧よ
り0.1Kg／cm2高い圧力に保持される。そこで操作
者は第１、第２のカツトバルブ４，９を閉じれ
ば、試料交換室５を大気圧より0.1Kg／cm2だけ高
い圧力の窒素ガスで満たすことができる。
する時には、第２のカツトバルブ９を開くと共
に、第１のカツトバルブ４を開く。その結果リリ
ーフバルブ１０に対して分岐点７側から大気側に
0.5Kg／cm2の圧力がかかるためリリーフバルブ１
０も開状態となる。従つて分岐点７部分に存在す
るガスは試料交換室５及び大気側へ移動できる状
態となるが、試料交換室５の圧力が大気圧に比し
て極めて小さいため、分岐点７部分に存在するガ
ス及びフイルター３を通して供給されるガスの大
部分が試料交換室５へと移動し、試料交換室５の
圧力が上昇して行くと共にフイルター３のコンダ
クタンスが小さいため分岐点７部分の圧力は低下
して行く。その結果試料交換室５の圧力と分岐点
７部分の圧力は同一になるが、この圧力はリリー
フバルブ１０が大気圧より0.1Kg／cm2高い圧力を
境界にして自動的に開閉するため略この大気圧よ
り0.1Kg／cm2高い圧力に保持される。そこで操作
者は第１、第２のカツトバルブ４，９を閉じれ
ば、試料交換室５を大気圧より0.1Kg／cm2だけ高
い圧力の窒素ガスで満たすことができる。
上述したように本案装置によればガス供給側の
圧力をガス導入に要する時間を短縮するため高く
した場合にも、ガスが導入される室の最終圧力を
ガス供給側の圧力より低い所望の設定圧力にでき
るため、この設定圧力を選択することにより室の
蓋のロツクを解除した際に蓋が勢い良く開いて装
置にシヨツクを与えるという事態を回避できる。
圧力をガス導入に要する時間を短縮するため高く
した場合にも、ガスが導入される室の最終圧力を
ガス供給側の圧力より低い所望の設定圧力にでき
るため、この設定圧力を選択することにより室の
蓋のロツクを解除した際に蓋が勢い良く開いて装
置にシヨツクを与えるという事態を回避できる。
又、バルブ９，１０は第１のカツトバルブ４を
閉じた際に高真空に保たれる室５と連通されない
ため、これらバルブ９，１０に高価な高真空用の
ものを使用しなくても良い。
閉じた際に高真空に保たれる室５と連通されない
ため、これらバルブ９，１０に高価な高真空用の
ものを使用しなくても良い。
図面は本考案の一実施例を示すためのものであ
る。 １：ガスボンベ、２：圧力調整バルブ、３：フ
イルター、４：第１のカツトバルブ、５：露光
室、６：流路、７：分岐点、８：副流路、９：第
２のカツトバルブ、１０：リリーフバルブ。
る。 １：ガスボンベ、２：圧力調整バルブ、３：フ
イルター、４：第１のカツトバルブ、５：露光
室、６：流路、７：分岐点、８：副流路、９：第
２のカツトバルブ、１０：リリーフバルブ。
Claims (1)
- ガスボンベと、該ガスボンベから供給されるガ
スに含まれる不純物粒子を除くためのフイルター
と、該フイルターを通過したガスを真空に保持さ
れた部屋に導入する際に開かれるカツトバルブと
を備えた装置において、前記フイルターとカツト
バルブとを接続する流路を分岐させて副流路を形
成し、該副流路の先端に該分岐点と大気側との連
通を制御するための第２のカツトバルブを設ける
と共に、該分岐点と該第２のカツトバルブとの間
に分岐点側から大気側への圧力が一定圧力以上の
場合のみ自動的に開状態となるリリーフバルブを
設けたことを特徴とする電子線装置等のガス導入
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9924481U JPS5823158U (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子線装置等のガス導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9924481U JPS5823158U (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子線装置等のガス導入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5823158U JPS5823158U (ja) | 1983-02-14 |
| JPS6314371Y2 true JPS6314371Y2 (ja) | 1988-04-22 |
Family
ID=29893985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9924481U Granted JPS5823158U (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子線装置等のガス導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5823158U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4930754B2 (ja) * | 2006-01-25 | 2012-05-16 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 荷電粒子ビーム装置 |
-
1981
- 1981-07-03 JP JP9924481U patent/JPS5823158U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5823158U (ja) | 1983-02-14 |
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