JPS63144445A - 光磁気デイスク装置のフオ−カス制御方式 - Google Patents
光磁気デイスク装置のフオ−カス制御方式Info
- Publication number
- JPS63144445A JPS63144445A JP29095286A JP29095286A JPS63144445A JP S63144445 A JPS63144445 A JP S63144445A JP 29095286 A JP29095286 A JP 29095286A JP 29095286 A JP29095286 A JP 29095286A JP S63144445 A JPS63144445 A JP S63144445A
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- Japan
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- focus
- current
- coil
- focus control
- circuit
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は、光磁気ディスク装置でフォーカスアクチュエ
ータとバイアスコイルとがディスク面の同一側に存在す
る場合、バイアスコイルに通電した時フォーカスアクチ
ュエータが誤動作を起こさないようにするものである。
ータとバイアスコイルとがディスク面の同一側に存在す
る場合、バイアスコイルに通電した時フォーカスアクチ
ュエータが誤動作を起こさないようにするものである。
本発明は光磁気ディスク装置に係り、特にフォーカス制
御方式に関する。
御方式に関する。
光磁気ディスク装置におけるフォーカス制御は、ディス
ク面と対物レンズの間隔精度を±１虜以内にすることが
要求される。そのため、対物レンズをホルダーに取り付
け、そのホルダーの一部にフォーカスコイルを巻回し、
そのフォーカスコイルを磁気回路中に配置すると共に電
流を加え対物レンズの位置をジャストフォーカス位置に
制御している。
ク面と対物レンズの間隔精度を±１虜以内にすることが
要求される。そのため、対物レンズをホルダーに取り付
け、そのホルダーの一部にフォーカスコイルを巻回し、
そのフォーカスコイルを磁気回路中に配置すると共に電
流を加え対物レンズの位置をジャストフォーカス位置に
制御している。
第３図は従来の光磁気ディスク装置の要部断面構成図で
あって、特にフォーカスアクチュエータとバイアスコイ
ルの配置図を示す。図において、−１はディスク、２は
バイアスコイルでこれに電流を流すと磁界が発生する。
あって、特にフォーカスアクチュエータとバイアスコイ
ルの配置図を示す。図において、−１はディスク、２は
バイアスコイルでこれに電流を流すと磁界が発生する。
９はフォーカスアクチュエータであって、対物レンズ３
とホルダー４とフォーカスコイル５および永久磁石６と
継鉄７とからなる磁気回路８とから構成されている。
とホルダー４とフォーカスコイル５および永久磁石６と
継鉄７とからなる磁気回路８とから構成されている。
バイアスコイル２はディスク１を隔ててフォーカスアク
チュエータ９の対物レンズ３と対向位置に一体的に保持
され、ディスクｌの半径方向に移動可能に構成されてい
る。
チュエータ９の対物レンズ３と対向位置に一体的に保持
され、ディスクｌの半径方向に移動可能に構成されてい
る。
対物レンズ３はホルダー４に保持され、このホルダー４
にフォーカスコイル５が巻回されている。
にフォーカスコイル５が巻回されている。
６は永久磁石で継鉄７により磁気回路８が形成され、そ
の磁気回路８のギャップにフォーカスコイル５がディス
ク１の面に垂直方向に可動自在に配設され、フォーカス
コイル５に通電することにより対物レンズ３はフォーカ
スコイル５と一体的に駆動され、これにより対物レンズ
３のフォーカス制御が行われる。
の磁気回路８のギャップにフォーカスコイル５がディス
ク１の面に垂直方向に可動自在に配設され、フォーカス
コイル５に通電することにより対物レンズ３はフォーカ
スコイル５と一体的に駆動され、これにより対物レンズ
３のフォーカス制御が行われる。
第４図は本発明を適用するフォーカスアクチュエータと
バイアスコイルの配置図を示す。この配置図は第３図と
同一部分には同一符号を付してその重複説明を省略する
。
バイアスコイルの配置図を示す。この配置図は第３図と
同一部分には同一符号を付してその重複説明を省略する
。
図において、第３図と異なる点はバイアスコイル２がデ
ィスク１とフォーカスアクチュエータ９との間に配置さ
れていることである。以下第５図により第３図と第４図
の得失を説明する。
ィスク１とフォーカスアクチュエータ９との間に配置さ
れていることである。以下第５図により第３図と第４図
の得失を説明する。
第５図は第３図の配置におけるバイアスコイルの磁界分
布図を示す。この磁界分布図は、バイアスコイル２に電
流を流した時のディスク面に垂直方向の座標をＺとした
時、横軸にＺ方向の距離をとり縦軸に磁界の強さＨをと
っている。
布図を示す。この磁界分布図は、バイアスコイル２に電
流を流した時のディスク面に垂直方向の座標をＺとした
時、横軸にＺ方向の距離をとり縦軸に磁界の強さＨをと
っている。
横軸の原点Ｚ０にはバイアスコイルが位置し、デ°イス
クの裏面位置を２．とし、ディスクの表面位置をＺ２と
してＷはディスクの厚みを示すものとする。
クの裏面位置を２．とし、ディスクの表面位置をＺ２と
してＷはディスクの厚みを示すものとする。
さらにディスクから離れた位置２．にフォーカスコイル
が配置されているものとする。
が配置されているものとする。
フォーカスコイル側から照射されるレーザ光を受光する
ディスク面の位置ｚ２上で、必要な磁界の強さＨｏが発
生するようにバイアスコイル２に電流を流す。この場合
フォーカスコイルの位置ｚ３では磁界の強さは特性曲線
の示すように小さい値となり、フォーカスコイルに与え
るバイアスコイルの発生磁界の影響は無視できる。
ディスク面の位置ｚ２上で、必要な磁界の強さＨｏが発
生するようにバイアスコイル２に電流を流す。この場合
フォーカスコイルの位置ｚ３では磁界の強さは特性曲線
の示すように小さい値となり、フォーカスコイルに与え
るバイアスコイルの発生磁界の影響は無視できる。
次に第４図の配置の場合の磁界分布を第５図を利用して
考えると、この場合はフォーカスコイルの位置がバイア
スコイルの位置Ｚ０に接近するため、フォーカスコイル
側から照射されるレーザ光を受光するディスク面の位置
２．上で必要な磁界の強さは同一のバイアスコイル電流
ならばＨ′と大きくなり、必要な磁界の強さＨｏを得る
ためにはバイアスコイルに流す電流の強さは第３図の場
合より小さいもので良く、換言すればバイアスコイルの
小型化が図れるためを利である。
考えると、この場合はフォーカスコイルの位置がバイア
スコイルの位置Ｚ０に接近するため、フォーカスコイル
側から照射されるレーザ光を受光するディスク面の位置
２．上で必要な磁界の強さは同一のバイアスコイル電流
ならばＨ′と大きくなり、必要な磁界の強さＨｏを得る
ためにはバイアスコイルに流す電流の強さは第３図の場
合より小さいもので良く、換言すればバイアスコイルの
小型化が図れるためを利である。
第６図は従来のフォーカス制御回路のブロック図を示す
。図において、９はフォーカスアクチュエータ、１０は
フォーカスエラー検出回路、１１はフォーカスエラー信
号、１２は補償回路、１３はフォーカスアンプ、１４は
フォーカスアクチュエータ、Ｐはフォーカス制御信号す
なわちディスク円板の位置を示し、Ｑはフォーカスアク
チュエータの位置を示す。
。図において、９はフォーカスアクチュエータ、１０は
フォーカスエラー検出回路、１１はフォーカスエラー信
号、１２は補償回路、１３はフォーカスアンプ、１４は
フォーカスアクチュエータ、Ｐはフォーカス制御信号す
なわちディスク円板の位置を示し、Ｑはフォーカスアク
チュエータの位置を示す。
本制御はフォーカスエラー信号１１を零に近づけるよう
に作用し、これによりフォーカスアクチュエータ９は図
示しない対物レンズをジャストフォーカス位置に制御す
る。
に作用し、これによりフォーカスアクチュエータ９は図
示しない対物レンズをジャストフォーカス位置に制御す
る。
第４図のフォーカスアクチュエータとバイアスコイルの
配置の場合には、その磁界分布が第５図においてフォー
カスコイルの位置がバイアスコイルの位ＷＺＯに接近す
るため、バイアスコイルが発生する磁界の強さがフォー
カスコイルの位置に与える影響力がかなり大きな値とな
り、磁気回路８は永久磁石６による一定の磁界を保持す
ることができなくなってフォーカス制御に誤動作を起こ
させる欠点がある。
配置の場合には、その磁界分布が第５図においてフォー
カスコイルの位置がバイアスコイルの位ＷＺＯに接近す
るため、バイアスコイルが発生する磁界の強さがフォー
カスコイルの位置に与える影響力がかなり大きな値とな
り、磁気回路８は永久磁石６による一定の磁界を保持す
ることができなくなってフォーカス制御に誤動作を起こ
させる欠点がある。
本発明は上記従来の欠点に漏みて創作されたもので、バ
イアスコイルがフォーカスコイル側に位置する場合でも
、バイアスコイルの発生する磁界の強さがフォーカスコ
イルの位置に与える影響力を抑制可能な光磁気ディスク
装置のフォーカス制御方式の提供を目的とする。
イアスコイルがフォーカスコイル側に位置する場合でも
、バイアスコイルの発生する磁界の強さがフォーカスコ
イルの位置に与える影響力を抑制可能な光磁気ディスク
装置のフォーカス制御方式の提供を目的とする。
本発明の光磁気ディスク装置のフォーカス制御方式は、
対物レンズをディスク面に垂直方向にフォーカス制御回
路によって制御する時に用いられるフォーカスアクチュ
エータの磁気回路と、前記ディスク面に情報を記録する
時のバイアス磁界を発生せしめるバイアスコイルとが前
記ディスク面の同一側に存在する光磁気ディスク装置に
おいて、前記バイアスコイルに電流を通電したとき、該
電流を検出し、該検出電流によって前記フォーカス制御
回路の出力に補正を加えることを特徴とする。
対物レンズをディスク面に垂直方向にフォーカス制御回
路によって制御する時に用いられるフォーカスアクチュ
エータの磁気回路と、前記ディスク面に情報を記録する
時のバイアス磁界を発生せしめるバイアスコイルとが前
記ディスク面の同一側に存在する光磁気ディスク装置に
おいて、前記バイアスコイルに電流を通電したとき、該
電流を検出し、該検出電流によって前記フォーカス制御
回路の出力に補正を加えることを特徴とする。
バイアスコイルに電流が流れると、この電流の強さに対
応する磁束が発生し、フォーカスアクチュエータの磁気
回路は外乱磁束により一定であるべき磁界の強さを乱さ
れる。このため対物レンズのフォーカス制御に誤差が発
生する。この外乱磁束の強さはバイアスコイルに流す電
流に比例することを利用して、バイアスコイルに流れた
電流を検出し、これを補正電圧に変換してフォーカス制
御回路にフィードバックするものである。
応する磁束が発生し、フォーカスアクチュエータの磁気
回路は外乱磁束により一定であるべき磁界の強さを乱さ
れる。このため対物レンズのフォーカス制御に誤差が発
生する。この外乱磁束の強さはバイアスコイルに流す電
流に比例することを利用して、バイアスコイルに流れた
電流を検出し、これを補正電圧に変換してフォーカス制
御回路にフィードバックするものである。
以下本発明の実施例を図面によって詳述する。
なお、構成、動作の説明を理解し易くするために全図を
通じて同一部分には同一符号を付してその重複説明を省
略する。
通じて同一部分には同一符号を付してその重複説明を省
略する。
第１図は本発明の光磁気ディスク装置のフォーカス制御
回路のブロック図を示す。図において、１４はバイアス
コイルに流れる電流を検出して補正電圧に変換する電流
検出補正回路、１５は合成回路、Ｒは電流検出補正回路
１４の出力する補正電圧を示す。
回路のブロック図を示す。図において、１４はバイアス
コイルに流れる電流を検出して補正電圧に変換する電流
検出補正回路、１５は合成回路、Ｒは電流検出補正回路
１４の出力する補正電圧を示す。
電流検出補正回路１４はバイアスコイルに流れた電流を
検出し、これを補正電圧に変換して出力し、合成回路１
５を介してフォーカス制御回路のフォーカスアンプ１３
の入力側でフォーカス制御に補正を加える。この結果、
フォーカスアクチュエータ９の磁気回路８が外乱磁界に
より受ける影響を補正電圧Ｒが打ち消す方向に作用し、
対物レンズ３の位置に与える影響力を抑制する。
検出し、これを補正電圧に変換して出力し、合成回路１
５を介してフォーカス制御回路のフォーカスアンプ１３
の入力側でフォーカス制御に補正を加える。この結果、
フォーカスアクチュエータ９の磁気回路８が外乱磁界に
より受ける影響を補正電圧Ｒが打ち消す方向に作用し、
対物レンズ３の位置に与える影響力を抑制する。
第２図は本発明の電流検出回路の実施例を示す。
図において、１６〜１９はそれぞれスイッチングトラン
ジスタ、２０．２１は検出抵抗、２２はオペアンプを示
す。
ジスタ、２０．２１は検出抵抗、２２はオペアンプを示
す。
電圧Ｖｃ、が回路の上端に印加されているので、スイッ
チングトランジスタ１６と１９をＯＮにするとバイアス
コイル２には矢印Ａ方向に電流が流れ、検出抵抗２１の
両端に電圧が発生する。抵抗値を選ぶことにより所望の
変換電圧が得られる。同様にスイッチングトランジスタ
１７と１８をＯＮにするとバイアスコイル２には矢印Ｂ
方向に電流が流れ、検出抵抗２２の両端に電圧が発生す
る。
チングトランジスタ１６と１９をＯＮにするとバイアス
コイル２には矢印Ａ方向に電流が流れ、検出抵抗２１の
両端に電圧が発生する。抵抗値を選ぶことにより所望の
変換電圧が得られる。同様にスイッチングトランジスタ
１７と１８をＯＮにするとバイアスコイル２には矢印Ｂ
方向に電流が流れ、検出抵抗２２の両端に電圧が発生す
る。
検出抵抗２１と２２に発生する変換電圧をオペアンプ２
２を介して出力することにより補正電圧Ｒが得られ、こ
の信号によって第１図の補正が行われる。
２を介して出力することにより補正電圧Ｒが得られ、こ
の信号によって第１図の補正が行われる。
以上詳細に説明したように本発明の光磁気ディスク装置
のフォーカス制御方式によれば、バイアスコイルに電流
を流し余分な磁束が発生してもその電流値を検出し補正
電圧に変換することにより誤動作を防止できる。
のフォーカス制御方式によれば、バイアスコイルに電流
を流し余分な磁束が発生してもその電流値を検出し補正
電圧に変換することにより誤動作を防止できる。
第１図は本発明のフォーカス制御回路のブロック図、
第２図は本発明の電流検出回路図、
第３図は従来のフォーカスアクチュエータとバイアスコ
イルの配置図、 第４図は本発明を適用するフォーカスアクチュエータと
バイアスコイルの配置図、 第５図はバイアスコイルの磁界分布図、第６図は従来の
フォーカス制御回路のブロック図を示す。 第１図と第４図において、■はディスク、２はバイアス
コイル、３は対物レンズ、８は磁気回路、９はフォーカ
スアクチュエータ、１０はフォーカスエラー検出回路、
１２は補正回路、１３はフォーカスアンプ、１４は電流
検出補正回路をそれぞれ示す。 少 Ａミにｓ）４の７オー刀ス到参ｐｒｊＪＪ Ｋ−７・口
１、フ閏第１図 ｒ 、＄発θｇ／）電浣竣土口訃図 第２図 第３図 第４図 へ′イ了又コイルｉ瑳堺ン奈と圓 第５図 第６図
イルの配置図、 第４図は本発明を適用するフォーカスアクチュエータと
バイアスコイルの配置図、 第５図はバイアスコイルの磁界分布図、第６図は従来の
フォーカス制御回路のブロック図を示す。 第１図と第４図において、■はディスク、２はバイアス
コイル、３は対物レンズ、８は磁気回路、９はフォーカ
スアクチュエータ、１０はフォーカスエラー検出回路、
１２は補正回路、１３はフォーカスアンプ、１４は電流
検出補正回路をそれぞれ示す。 少 Ａミにｓ）４の７オー刀ス到参ｐｒｊＪＪ Ｋ−７・口
１、フ閏第１図 ｒ 、＄発θｇ／）電浣竣土口訃図 第２図 第３図 第４図 へ′イ了又コイルｉ瑳堺ン奈と圓 第５図 第６図
Claims (1)
- 対物レンズをディスク面に垂直方向にフォーカス制御
回路によって制御する時に用いられるフォーカスアクチ
ュエータの磁気回路と、前記ディスク面に情報を記録す
る時のバイアス磁界を発生せしめるバイアスコイルとが
前記ディスク面の同一側に存在する光磁気ディスク装置
において、前記バイアスコイルに電流を通電したとき、
該電流を検出し、該検出電流によって前記フォーカス制
御回路の出力に補正を加えることを特徴とする光磁気デ
ィスク装置のフォーカス制御方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29095286A JPS63144445A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | 光磁気デイスク装置のフオ−カス制御方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29095286A JPS63144445A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | 光磁気デイスク装置のフオ−カス制御方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63144445A true JPS63144445A (ja) | 1988-06-16 |
Family
ID=17762603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29095286A Pending JPS63144445A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | 光磁気デイスク装置のフオ−カス制御方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63144445A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6845065B2 (en) | 2001-06-08 | 2005-01-18 | Fujitsu Limited | Magneto-optical recording medium processing apparatus |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57133503A (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-18 | Sharp Corp | Optical and magnetic recorder and reproducer |
| JPS60117403A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-24 | Hitachi Ltd | 光磁気ヘッド |
| JPS60214439A (ja) * | 1984-04-11 | 1985-10-26 | Seiko Epson Corp | 光磁気ヘツド |
| JPS613504B2 (ja) * | 1979-05-12 | 1986-02-01 | Dainippon Printing Co Ltd | |
| JPS62170052A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-27 | Seiko Epson Corp | 光磁気式情報記録再生装置 |
-
1986
- 1986-12-05 JP JP29095286A patent/JPS63144445A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS613504B2 (ja) * | 1979-05-12 | 1986-02-01 | Dainippon Printing Co Ltd | |
| JPS57133503A (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-18 | Sharp Corp | Optical and magnetic recorder and reproducer |
| JPS60117403A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-24 | Hitachi Ltd | 光磁気ヘッド |
| JPS60214439A (ja) * | 1984-04-11 | 1985-10-26 | Seiko Epson Corp | 光磁気ヘツド |
| JPS62170052A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-27 | Seiko Epson Corp | 光磁気式情報記録再生装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6845065B2 (en) | 2001-06-08 | 2005-01-18 | Fujitsu Limited | Magneto-optical recording medium processing apparatus |
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