JPS63146002A - 反射型カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
反射型カラ−フイルタの製造方法Info
- Publication number
- JPS63146002A JPS63146002A JP61294568A JP29456886A JPS63146002A JP S63146002 A JPS63146002 A JP S63146002A JP 61294568 A JP61294568 A JP 61294568A JP 29456886 A JP29456886 A JP 29456886A JP S63146002 A JPS63146002 A JP S63146002A
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- Japan
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- film
- films
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は、ガラス基板上に金属薄膜を形成し、これの上
に３原色の各色対応のドツト領域の一つを開口部とする
レジスト膜を形成し、これをマスクとして陽極酸化を行
なって金属薄膜の表面層の所定厚さを透明薄膜に化成す
る処理を順次繰り返して、゛各色対応のドラ） ９Ｅ域
に所望厚さの透明薄膜を形成するものにおいて、上記レ
ジスト膜の開口部を互いに離隔する位置関係に形成する
ことにより、周囲をブラックストライプで囲まれた反射
型カラーフィルタを形成する。
に３原色の各色対応のドツト領域の一つを開口部とする
レジスト膜を形成し、これをマスクとして陽極酸化を行
なって金属薄膜の表面層の所定厚さを透明薄膜に化成す
る処理を順次繰り返して、゛各色対応のドラ） ９Ｅ域
に所望厚さの透明薄膜を形成するものにおいて、上記レ
ジスト膜の開口部を互いに離隔する位置関係に形成する
ことにより、周囲をブラックストライプで囲まれた反射
型カラーフィルタを形成する。
本発明は反射型液晶表示装置等に用いる反射型カラーフ
ィルタの製造方法に関する。
ィルタの製造方法に関する。
反射型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、着
色剤として顔料や染料を用い、ガラス基板の画素対応領
域を着色して作製される。
色剤として顔料や染料を用い、ガラス基板の画素対応領
域を着色して作製される。
カラーフィルタの作製時には、上記着色工程中で、塵埃
等が付着し易く、この塵埃によって、反射型液晶表示装
置の電極やパスライン等にクランクを生じたり、或いは
セル厚のバラツキを生じたりする場合があり、表示欠陥
発生の一因となる。
等が付着し易く、この塵埃によって、反射型液晶表示装
置の電極やパスライン等にクランクを生じたり、或いは
セル厚のバラツキを生じたりする場合があり、表示欠陥
発生の一因となる。
またかかる構成のフィルタは長時間にわたる光照射によ
り、色あいの劣化を生じ、表示品質が低下するという欠
点がある。
り、色あいの劣化を生じ、表示品質が低下するという欠
点がある。
そこで本発明者らは、かかる欠点を解消した反射型カラ
ーフィルタを特願昭６１−２２２５６９号により堤案じ
た。
ーフィルタを特願昭６１−２２２５６９号により堤案じ
た。
その反射型カラーフィルタとその製造方法を第２図（ａ
）〜ｔｅｌにより説明する。
）〜ｔｅｌにより説明する。
同図（ａ）に示すように、まずガラス基板１上に共通電
極を兼ねる金属薄膜２を成膜する。
極を兼ねる金属薄膜２を成膜する。
次に同図（ｂ）に見られるように、金属薄膜２上の単位
画素領域を開口部とするレジスト膜５−１を形成し、こ
れをマスクとして上記金属薄膜２に陽極酸化法を施し、
金属Ｔｊｌ膜２の一部を化成して透明薄膜３−１を形成
する。なお、カラー表示装置の１画素は、Ｒ，Ｇ、Ｈの
３原色のそれぞれに対しｌドツトずつから構成されるの
で、上記陽極酸化工程において化成する面積は、３ドツ
ト分の面積とする。
画素領域を開口部とするレジスト膜５−１を形成し、こ
れをマスクとして上記金属薄膜２に陽極酸化法を施し、
金属Ｔｊｌ膜２の一部を化成して透明薄膜３−１を形成
する。なお、カラー表示装置の１画素は、Ｒ，Ｇ、Ｈの
３原色のそれぞれに対しｌドツトずつから構成されるの
で、上記陽極酸化工程において化成する面積は、３ドツ
ト分の面積とする。
次いで同図（Ｃ１に示すように、上記３ドツト分に相当
する透明薄膜３−１のうち、２ドツト分を開口部とする
レジスト膜５−２を形成し、これをマスクとして再び陽
極酸化法を施して、先に形成した透明薄膜３−１の表面
を露出している部分の膜厚を増大させ、図示の如く透明
薄膜３−２を形成する。
する透明薄膜３−１のうち、２ドツト分を開口部とする
レジスト膜５−２を形成し、これをマスクとして再び陽
極酸化法を施して、先に形成した透明薄膜３−１の表面
を露出している部分の膜厚を増大させ、図示の如く透明
薄膜３−２を形成する。
次いで同図（ｄ）に示すように、透明薄膜３−２のうち
ｌドツト分を開口部とするレジスト膜５−３を形成し、
これをマスクとして再度陽極酸化、法を施して、最も大
なる膜厚を有する透明薄膜３−３を形成する。
ｌドツト分を開口部とするレジスト膜５−３を形成し、
これをマスクとして再度陽極酸化、法を施して、最も大
なる膜厚を有する透明薄膜３−３を形成する。
上記金属薄膜２と透明薄膜３−１．３−２．３−３から
の反射光強度は、互いに干渉しである波長域で太き（な
る。従って透明薄膜３−Ｌ ３−２．３−３の膜厚を変
えることにより、光の反射波長域を変えることができ、
即ち反射型カラーフィルタとして用いることができる。
の反射光強度は、互いに干渉しである波長域で太き（な
る。従って透明薄膜３−Ｌ ３−２．３−３の膜厚を変
えることにより、光の反射波長域を変えることができ、
即ち反射型カラーフィルタとして用いることができる。
以上により同図（ｅ）に見られるように、３原色を構成
する各色対応に異なる膜厚を有するカラーフィルタが作
製される。
する各色対応に異なる膜厚を有するカラーフィルタが作
製される。
かかる構成の反射型カラーフィルタは、有機色素を用い
ていないので、褪色することなく長時間の使用が可能で
あり、またカラーフィルタ作製時にゴミの付着がなく、
従って、電極やパスラインにクラックを生じたり、セル
厚が変化したりすることがなく、従って表示欠陥が発生
する虞もない。
ていないので、褪色することなく長時間の使用が可能で
あり、またカラーフィルタ作製時にゴミの付着がなく、
従って、電極やパスラインにクラックを生じたり、セル
厚が変化したりすることがなく、従って表示欠陥が発生
する虞もない。
しかし上記従来の製造方法では、最初に１画素を構成す
る３個のドツト領域すべてにわたって陽極酸化を行い、
次いで所要部分の膜厚を順次増大させていく方法である
ため、３つの色のドツト領域が連続して形成され、各色
のドツト周囲にブランクスドライブを形成できない。そ
のため、映像を見た時の鮮明さに欠けるという問題があ
る。
る３個のドツト領域すべてにわたって陽極酸化を行い、
次いで所要部分の膜厚を順次増大させていく方法である
ため、３つの色のドツト領域が連続して形成され、各色
のドツト周囲にブランクスドライブを形成できない。そ
のため、映像を見た時の鮮明さに欠けるという問題があ
る。
本発明の目的は、各ドツトの周囲にブラックストライプ
を形成することの可能な反射型カラーフィルタの製造方
法を提供することにある。
を形成することの可能な反射型カラーフィルタの製造方
法を提供することにある。
本発明においては、ガラス基板上に形成された金属薄膜
の所望部位を開口部とするレジスト膜をマスクとして、
前記金属薄膜の露出部分を陽極酸化法により化成して、
所望波長の干渉光を得るための干渉膜となる透明薄膜を
形成するに際し、形成すべき透明薄膜の膜厚が同一部分
のみを開口したレジスト膜をマスクとして陽極酸化する
処理を、膜厚の種類ごとに繰り返し、且つ、その際に各
レジスト膜の開口部相互の位置関係を、互いに離隔する
ように形成する。
の所望部位を開口部とするレジスト膜をマスクとして、
前記金属薄膜の露出部分を陽極酸化法により化成して、
所望波長の干渉光を得るための干渉膜となる透明薄膜を
形成するに際し、形成すべき透明薄膜の膜厚が同一部分
のみを開口したレジスト膜をマスクとして陽極酸化する
処理を、膜厚の種類ごとに繰り返し、且つ、その際に各
レジスト膜の開口部相互の位置関係を、互いに離隔する
ように形成する。
〔作 用〕
本発明では各ドツトごとに一回の陽極酸化で所望膜厚の
透明薄膜を形成し、膜厚を順次増大させる方法ではない
ので、各ドツト領域を画定するレジスト膜の開口部は任
意の位置に設けることが可能である。従って、透明薄膜
の膜厚ごとに繰り返し形成するレジスト膜の開口部の位
置を、相互に離隔した位置関係とするとこにより、各ド
ツトの周囲に陽極酸化されない部分をストライプ状に残
すことができ、この領域は透明薄膜が形成されないので
ブラックストライプとなる。
透明薄膜を形成し、膜厚を順次増大させる方法ではない
ので、各ドツト領域を画定するレジスト膜の開口部は任
意の位置に設けることが可能である。従って、透明薄膜
の膜厚ごとに繰り返し形成するレジスト膜の開口部の位
置を、相互に離隔した位置関係とするとこにより、各ド
ツトの周囲に陽極酸化されない部分をストライプ状に残
すことができ、この領域は透明薄膜が形成されないので
ブラックストライプとなる。
以下本発明の一実施例を第１図（ａ）〜ｆｅ）により説
明する。
明する。
先ず同図（ａｌ、 （ｂｌに示すように、ガラス基板１
上にチタン（Ｔｉ）、或いはタンタル（Ｔａ）のような
金属薄膜２を、スパッタリング法等によって形成する。
上にチタン（Ｔｉ）、或いはタンタル（Ｔａ）のような
金属薄膜２を、スパッタリング法等によって形成する。
次いで同図（ｂ）に示すように、金属薄膜２上に所定の
ドツトを形成すべき区域を開口部とするレジスト膜５−
１を形成し、これをマスクとして陽極酸化を行う。この
陽極酸化は、酒石酸アンモニューム（（ＮＨ４）ｚｃ＊
１１４０ｈ）或いは硫酸ｏ＋ｚｓｏ＊）のよう−な電解
液に図示の基板１をひたし、金属薄膜２に所定の電圧を
印加することにより行う。
ドツトを形成すべき区域を開口部とするレジスト膜５−
１を形成し、これをマスクとして陽極酸化を行う。この
陽極酸化は、酒石酸アンモニューム（（ＮＨ４）ｚｃ＊
１１４０ｈ）或いは硫酸ｏ＋ｚｓｏ＊）のよう−な電解
液に図示の基板１をひたし、金属薄膜２に所定の電圧を
印加することにより行う。
すると金属薄膜２の表面が露出している部分が化成され
、同図（Ｃ）に見られる如く透明薄膜３−１が形成され
る。陽極酸化時間は、透明薄膜３−１の膜厚が所望厚さ
になるよう制御する。
、同図（Ｃ）に見られる如く透明薄膜３−１が形成され
る。陽極酸化時間は、透明薄膜３−１の膜厚が所望厚さ
になるよう制御する。
次いで上記レジスト膜５−１を除去し、再びレジスト膜
５−２を形成して陽極酸化を行う。このレジスト膜５−
２の開口部は、レジスト膜５−１の開口部即ち透明薄膜
３−１と僅かに離隔して配置する。この工程においても
金ｒｘ薄膜２の表面が露出していた部分が化成され、同
図（ｄ）に見られるように、透明薄膜３−２が形成され
る。
５−２を形成して陽極酸化を行う。このレジスト膜５−
２の開口部は、レジスト膜５−１の開口部即ち透明薄膜
３−１と僅かに離隔して配置する。この工程においても
金ｒｘ薄膜２の表面が露出していた部分が化成され、同
図（ｄ）に見られるように、透明薄膜３−２が形成され
る。
次いで上記工程でマスクとして用いたレジスト膜５−２
を除去し、更にレジスト膜５−３を形成し、陽極酸化を
行う。この工程の結果同図（ｅ）に見られるように、透
明薄膜３−３が形成される。本工程におけるレジスト膜
５−３の開口部は、これまた先に形成した透明薄膜３−
１．３−２とは接触せず、隣接する透明薄膜３−２と僅
かに離隔した位置に形成することが必要である。
を除去し、更にレジスト膜５−３を形成し、陽極酸化を
行う。この工程の結果同図（ｅ）に見られるように、透
明薄膜３−３が形成される。本工程におけるレジスト膜
５−３の開口部は、これまた先に形成した透明薄膜３−
１．３−２とは接触せず、隣接する透明薄膜３−２と僅
かに離隔した位置に形成することが必要である。
以上３回の陽極酸化において、金属薄膜２の化成時間を
膜厚が所望値になるよう制御して、透明薄膜３−１．３
−２．３−３の膜厚をそれぞれ、干渉光波長に対応する
値に形成する。
膜厚が所望値になるよう制御して、透明薄膜３−１．３
−２．３−３の膜厚をそれぞれ、干渉光波長に対応する
値に形成する。
このように形成した金属薄膜２−１．２−２．２−３と
透明薄膜３−Ｌ ３−２．３−３との積層構造は、透明
薄膜３−１．３−２．３−３を透過し、金属反射膜２−
１．２−２゜２−３表面で反射された光と、透明薄膜３
−１．３−２゜３−３表面で反射された光とが干渉し、
膜厚に依存した波長の光が合成される。
透明薄膜３−Ｌ ３−２．３−３との積層構造は、透明
薄膜３−１．３−２．３−３を透過し、金属反射膜２−
１．２−２゜２−３表面で反射された光と、透明薄膜３
−１．３−２゜３−３表面で反射された光とが干渉し、
膜厚に依存した波長の光が合成される。
即ち、透明薄膜の厚さ、屈折率をｄ、ｎとし、反射光の
波長をλとすると、 ｎ−ｄ＝λ／ ４ −・−■の関係
が成立する。従って、金属薄膜２−１．２−２゜２−３
としてＴｉを用いると、透明薄膜３−１．３−２゜３−
３は酸化チタン（Ｔ ｉ ０２ ）となる。これの屈折
率は可視領域でｎ＃２．３である。
波長をλとすると、 ｎ−ｄ＝λ／ ４ −・−■の関係
が成立する。従って、金属薄膜２−１．２−２゜２−３
としてＴｉを用いると、透明薄膜３−１．３−２゜３−
３は酸化チタン（Ｔ ｉ ０２ ）となる。これの屈折
率は可視領域でｎ＃２．３である。
また３原色Ｂ、Ｇ、Ｒの波長は、それぞれ凡そ３８００
人、 ５，２００人、 ７，８００人であるので、各色
に対する透明薄膜３−１．３−２．３−３の膜厚ｄ、、
ｄ、、ｄえは、上記０式を変形して ｄ＝λ／ ４ ｎ −−−−
−−−−−−■となるので、 となる。
人、 ５，２００人、 ７，８００人であるので、各色
に対する透明薄膜３−１．３−２．３−３の膜厚ｄ、、
ｄ、、ｄえは、上記０式を変形して ｄ＝λ／ ４ ｎ −−−−
−−−−−−■となるので、 となる。
従って上述の３回の陽極酸化工程において、透明薄膜３
−１．３−２．３−３の膜厚が、０式の値になるよう陽
極酸化時間を選択する。即ち、本実施例の３回の陽極酸
化工程の酸化時間は、印加電圧を例えば６０Ｖとした場
合には、それぞれ凡そ５分、６５分、１０分とする。
−１．３−２．３−３の膜厚が、０式の値になるよう陽
極酸化時間を選択する。即ち、本実施例の３回の陽極酸
化工程の酸化時間は、印加電圧を例えば６０Ｖとした場
合には、それぞれ凡そ５分、６５分、１０分とする。
以上説明した如く本発明によれば、反射型カラーフィル
タの各ドツトの周囲にグラブ・クス〜ドライブを容易に
形成することが可能となる。
タの各ドツトの周囲にグラブ・クス〜ドライブを容易に
形成することが可能となる。
第１図（ａｌ〜＋ｅ）は本発明一実施例説明図、第２図
（ａｌ〜（ｅｌは従来の製造方法説明図である。 図において、１はガラス基板、２は金属薄膜、３−１．
３−２．３−３は透明薄膜、５−１．５−２．５−３は
レジスト膜を示す。 （Ｑ）２℃属１Ｈｋ 奈発萌−梵晃刺硯明て 第１図
（ａｌ〜（ｅｌは従来の製造方法説明図である。 図において、１はガラス基板、２は金属薄膜、３−１．
３−２．３−３は透明薄膜、５−１．５−２．５−３は
レジスト膜を示す。 （Ｑ）２℃属１Ｈｋ 奈発萌−梵晃刺硯明て 第１図
Claims (1)
- ガラス基板（１）上に酸化物が透明な金属からなる金属
薄膜（２）を形成し、該金属薄膜の所望部位を開口部と
するレジスト膜（５−１、５−２、５−３）をマスクと
して、前記金属薄膜の露出部分を陽極酸化法により化成
して、所望波長の干渉光を得るための干渉膜となる透明
薄膜（３−１、３−２、３−３）を形成するに際し、形
成すべき透明薄膜の膜厚が同一部分のみを開口したレジ
スト膜（５−１、５−２、５−３）をマスクとして陽極
酸化する処理を、形成すべき透明薄膜の膜厚の種類ごと
に繰り返し、且つ、その際に各レジスト膜の開口部相互
の位置関係を、互いに離隔するように形成することを特
徴とする反射型カラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61294568A JPS63146002A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 反射型カラ−フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61294568A JPS63146002A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 反射型カラ−フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63146002A true JPS63146002A (ja) | 1988-06-18 |
Family
ID=17809465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61294568A Pending JPS63146002A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 反射型カラ−フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63146002A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998047027A1 (en) * | 1997-04-15 | 1998-10-22 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Color filter for liquid crystal displays |
| KR100446376B1 (ko) * | 2000-12-30 | 2004-09-01 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 슬릿 발광형 액정표시장치 |
| KR100505179B1 (ko) * | 1998-04-20 | 2005-11-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 |
-
1986
- 1986-12-09 JP JP61294568A patent/JPS63146002A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998047027A1 (en) * | 1997-04-15 | 1998-10-22 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Color filter for liquid crystal displays |
| US6203951B1 (en) | 1997-04-15 | 2001-03-20 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Color filter for liquid crystal displays |
| KR100505179B1 (ko) * | 1998-04-20 | 2005-11-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 |
| KR100446376B1 (ko) * | 2000-12-30 | 2004-09-01 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 슬릿 발광형 액정표시장치 |
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