JPH02308105A - カラーフィルタ及びその製造方法 - Google Patents
カラーフィルタ及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH02308105A JPH02308105A JP1129322A JP12932289A JPH02308105A JP H02308105 A JPH02308105 A JP H02308105A JP 1129322 A JP1129322 A JP 1129322A JP 12932289 A JP12932289 A JP 12932289A JP H02308105 A JPH02308105 A JP H02308105A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- colored layer
- insulating film
- transparent conductive
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Video Image Reproduction Devices For Color Tv Systems (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ及び
その製造方法に関するものであり、例えばＴＰＴ駆動液
晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ及びその製造方法
に関するものである。
その製造方法に関するものであり、例えばＴＰＴ駆動液
晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ及びその製造方法
に関するものである。
（従来の技術）
第４図は、例えば特開昭５９−１０９８８公報に示され
た従来の液晶平面ディスプレイ・用カラーフィルタ及び
その製造方法を示す工程断面図であり、図において、（
１）はガラス基板、（２）は着色層、（４）は無機絶縁
膜、（５）は透明導電膜、（６）は絶縁膜である。
た従来の液晶平面ディスプレイ・用カラーフィルタ及び
その製造方法を示す工程断面図であり、図において、（
１）はガラス基板、（２）は着色層、（４）は無機絶縁
膜、（５）は透明導電膜、（６）は絶縁膜である。
次に製造方法について説明する。ガラス基板（１）上に
通常用いられるスクリーン印刷法により着色層（２）が
形成される０着色層（２）には例えば顔料を分散したポ
リイミドなどが用いられる０本着色層（２）上に真空蒸
着法等により、Ｉ Ｔ Ｏ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏ
ｘｉｄｅ ）膜などの透明導電膜（５）を形成する。本
透明導電膜（７）上にスパッタ法などにより、チッ化シ
リコン等の絶縁膜（６）を形成する。更に、本絶縁Ｍ（
６）上にアクリル樹脂などの配向処理膜（７）を形成し
、液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタを得る。
通常用いられるスクリーン印刷法により着色層（２）が
形成される０着色層（２）には例えば顔料を分散したポ
リイミドなどが用いられる０本着色層（２）上に真空蒸
着法等により、Ｉ Ｔ Ｏ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏ
ｘｉｄｅ ）膜などの透明導電膜（５）を形成する。本
透明導電膜（７）上にスパッタ法などにより、チッ化シ
リコン等の絶縁膜（６）を形成する。更に、本絶縁Ｍ（
６）上にアクリル樹脂などの配向処理膜（７）を形成し
、液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタを得る。
（発明が解決しようとする課題〕
従来の液晶ディスプレイ用カラーフィルタは以上のよう
に構成されていたので、透明導電膜上の絶縁膜は電圧降
下を防ぐため厚膜化が困難であり、通常は膜厚ｚｏｏｏ
ｉ以下となる様に形成される。
に構成されていたので、透明導電膜上の絶縁膜は電圧降
下を防ぐため厚膜化が困難であり、通常は膜厚ｚｏｏｏ
ｉ以下となる様に形成される。
従って、着色層から液晶中への不純物防止効果が小さい
、又、着色層上に透明導電膜を形成する際、着色層断差
部で透明導電膜のカバレージ不良によるオープン欠陥を
誘発し易いなどの問題点があった。
、又、着色層上に透明導電膜を形成する際、着色層断差
部で透明導電膜のカバレージ不良によるオープン欠陥を
誘発し易いなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、着色層から液晶中への不純物拡散が防止出来
るとともに、着色層の断差部で透明導電膜のカバレージ
性を良好にし、オープン欠陥発生を防止出来るカラーフ
ィルタ及びその製造方法を得ることを目的とする。
たもので、着色層から液晶中への不純物拡散が防止出来
るとともに、着色層の断差部で透明導電膜のカバレージ
性を良好にし、オープン欠陥発生を防止出来るカラーフ
ィルタ及びその製造方法を得ることを目的とする。
この発明に係るカラーフィルタ及びその製造方法は着色
層と透明導電膜層の間に有機絶縁膜及び無機絶縁膜を形
成するものである。
層と透明導電膜層の間に有機絶縁膜及び無機絶縁膜を形
成するものである。
この発明におけるカラーフィルタ及びその製造方法は、
着色層と透明導電膜層の間に有機絶縁膜と、無機絶縁膜
を形成することにより、着色層の不純物拡散を防止する
と共に、透明導電膜のカバレージ性を良好にし、オープ
ン欠陥発生を防止する。
着色層と透明導電膜層の間に有機絶縁膜と、無機絶縁膜
を形成することにより、着色層の不純物拡散を防止する
と共に、透明導電膜のカバレージ性を良好にし、オープ
ン欠陥発生を防止する。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、＋１１はガラス基板で例えばパイレックス
ガラス基板、（２）は着色層で例えば印刷法などにより
形成された顔料を分散したポリイミド、（３）は有機絶
縁膜で例えば印刷法により形成された高純度なアクリル
樹脂膜、（４）は無機絶縁膜で例えばスパッタ法により
形成された酸化シリコン膜、（５）は透明導電膜で例え
ばスパッタ法により形成された［ Ｔ Ｏ（Ｉｎｄｉｕ
ｍ−Ｔｉｎ −０ｘｉｄｅ ）膜、（６）は配向処理膜
で例えば転写法により形成されたポリイミド膜である。
図において、＋１１はガラス基板で例えばパイレックス
ガラス基板、（２）は着色層で例えば印刷法などにより
形成された顔料を分散したポリイミド、（３）は有機絶
縁膜で例えば印刷法により形成された高純度なアクリル
樹脂膜、（４）は無機絶縁膜で例えばスパッタ法により
形成された酸化シリコン膜、（５）は透明導電膜で例え
ばスパッタ法により形成された［ Ｔ Ｏ（Ｉｎｄｉｕ
ｍ−Ｔｉｎ −０ｘｉｄｅ ）膜、（６）は配向処理膜
で例えば転写法により形成されたポリイミド膜である。
この発明による液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ
及びその製造方法について説明する。パイレックスガラ
ス基板（１１上に例えば印刷法により厚さ０．５〜３μ
誦となる様に着色層である顔料分散したポリイミド膜（
２）を形成する。このポリイミド膜（２）は遮光膜であ
る黒、画素表示部で・ある赤。
及びその製造方法について説明する。パイレックスガラ
ス基板（１１上に例えば印刷法により厚さ０．５〜３μ
誦となる様に着色層である顔料分散したポリイミド膜（
２）を形成する。このポリイミド膜（２）は遮光膜であ
る黒、画素表示部で・ある赤。
青・緑の４色に関して各１回ずつ、合計１４回、形成さ
れる。このポリイミド膜（２）を金色形成後、ポリイミ
ド膜（２）上に例えば、印刷法により厚さ０．５〜５μ
ｍとなる様高純度アクリル樹脂膜＋３）を形成する。こ
のアクリル樹脂膜（３）はポリイミド膜（２）中の不純
物抑制効果を高め、透明導電膜（５）のカバレージ性を
向上するため、厚膜化する方が望ましい。
れる。このポリイミド膜（２）を金色形成後、ポリイミ
ド膜（２）上に例えば、印刷法により厚さ０．５〜５μ
ｍとなる様高純度アクリル樹脂膜＋３）を形成する。こ
のアクリル樹脂膜（３）はポリイミド膜（２）中の不純
物抑制効果を高め、透明導電膜（５）のカバレージ性を
向上するため、厚膜化する方が望ましい。
第２図にアクリル樹脂膜（３）の膜厚とピンホール密度
の関係を示す、膜厚１．２μｍ以上でピンホール数は最
少値に抑制されているのが分る。アクリル樹脂ＩＪ！
＋３）単体でピンホールの充分な抑制効果を得るには、
膜厚１．２ μｍ以上必要であるが、ここではアクリル
樹脂膜（３）上に酸化シリコン膜＋４１が形成されるた
め不純物抑制はアクリル樹脂膜（３）に関しては０．５
μｍ以上でその効果が得られる。又、アクリル樹脂膜
（３）は５μｍまで堆積してもＭ＃れの発生は認められ
ないが、５μｍ以上では、液晶平面ディスプレイのセル
組み立て工程等で膜剥れ発生の可能性があり、実用的で
はない、アクリル樹脂膜（３）上に例えばスパッタ法に
より厚さ０．０８〜３μｍとなる様、酸化シリコン膜（
４）を形成する。この酸化シリコン膜（４）はポリイミ
ド膜（２）中の不純物抑制効果を高め、透明透電膜（５
）のカバレージ性を向上するため、厚膜化する方が望ま
しい、第３図に酸化シリコン膜（４）の膜厚とピンホー
ル密度の関係を示す、膜厚０．０８μｍ以上でピンホー
ル数は最少値に抑制されているのが分る。従って、充分
な不純物抑制効果を得るには、酸化シリコン膜（４）の
膜厚は０．０８μｍ以上必要である。又、酸化シリコン
膜（４）は３μ鋤まで堆積しても膜剥れの発生は認めら
れないが、３μｍ以上では膜剥れ発生の可能性があり、
実用的でない、酸化シリコン膜（４）上に例えばスパッ
タ法などにより厚さ０．０３〜０．３ μｍとなる様に
透明導電膜であるＩ Ｔ Ｏ（ｌｎｄｉｕｓ −Ｔｉｎ
−０ｗ１ｄｅ ）膜（５）を形成し、本ＩＴＯ膜（５
）上に例えばスパッタ法により厚さ０．０１〜ｌｔｔｍ
となる様酸化シリコン膜（６）を形成し、本酸化シリ、
コン膜（６）上に例えば転写法により厚さ０．０３〜０
．１ μｍとなる様配向処理膜であるポリイミド膜（７
）を形成して、液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ
を得る。
の関係を示す、膜厚１．２μｍ以上でピンホール数は最
少値に抑制されているのが分る。アクリル樹脂ＩＪ！
＋３）単体でピンホールの充分な抑制効果を得るには、
膜厚１．２ μｍ以上必要であるが、ここではアクリル
樹脂膜（３）上に酸化シリコン膜＋４１が形成されるた
め不純物抑制はアクリル樹脂膜（３）に関しては０．５
μｍ以上でその効果が得られる。又、アクリル樹脂膜
（３）は５μｍまで堆積してもＭ＃れの発生は認められ
ないが、５μｍ以上では、液晶平面ディスプレイのセル
組み立て工程等で膜剥れ発生の可能性があり、実用的で
はない、アクリル樹脂膜（３）上に例えばスパッタ法に
より厚さ０．０８〜３μｍとなる様、酸化シリコン膜（
４）を形成する。この酸化シリコン膜（４）はポリイミ
ド膜（２）中の不純物抑制効果を高め、透明透電膜（５
）のカバレージ性を向上するため、厚膜化する方が望ま
しい、第３図に酸化シリコン膜（４）の膜厚とピンホー
ル密度の関係を示す、膜厚０．０８μｍ以上でピンホー
ル数は最少値に抑制されているのが分る。従って、充分
な不純物抑制効果を得るには、酸化シリコン膜（４）の
膜厚は０．０８μｍ以上必要である。又、酸化シリコン
膜（４）は３μ鋤まで堆積しても膜剥れの発生は認めら
れないが、３μｍ以上では膜剥れ発生の可能性があり、
実用的でない、酸化シリコン膜（４）上に例えばスパッ
タ法などにより厚さ０．０３〜０．３ μｍとなる様に
透明導電膜であるＩ Ｔ Ｏ（ｌｎｄｉｕｓ −Ｔｉｎ
−０ｗ１ｄｅ ）膜（５）を形成し、本ＩＴＯ膜（５
）上に例えばスパッタ法により厚さ０．０１〜ｌｔｔｍ
となる様酸化シリコン膜（６）を形成し、本酸化シリ、
コン膜（６）上に例えば転写法により厚さ０．０３〜０
．１ μｍとなる様配向処理膜であるポリイミド膜（７
）を形成して、液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ
を得る。
なお、上記実施例ではガラス基板！１１にパイレックス
ガラス基板を用いたが、低アルカリガラス基板等の他の
ガラス基板でも良く、着色層（２）に顔料分散したポリ
イミド膜を用いたが、染色されたゼラチン膜等、他の着
色層でも良く、特に（２ａ）の遮光部は蒸着法やその他
の方法により形成し、写真製版法などによりパターン加
工されたＣｒ膜などの金属膜などでも良い０着色層（２
）の形成方法に印刷法を用いたが、写真製版法等の他の
方法で形成しても良い、有機絶縁膜（３）の形成方法に
印刷法を用いたがスピン塗布法などでも良い、無機絶縁
膜（４）に酸化シリコンを用いたが、チソ化シリコン膜
などでも良く、その形成方法もスパッタ法を用いたが、
ＣＶＤ法等、他の方法でも良い、透明導電膜（５）にＩ
Ｔｏ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ −０ｘｉｄｅ ）膜を用
いたが、５ｎＯｚ、 ’ｌｘ’ｓ等の他の透明導電膜な
どでも良く、その形成方法にスパッタ法をもちたが、真
空蒸着法等の他の方法でも良い、絶縁膜（６）に酸化シ
リコンを用いたが、チン化シチコン等でも良く、その形
成方法にスパッタ法を用いたが、ＣＶＤ法など他の方法
でも良く又、本絶縁膜（６）は形成しなくても良い、配
向処理膜（７）にポリイミド膜を用いたが、ポリビニー
ルアルコール等の膜でも良く、その形成方法に転写法を
用いたが、通常の写真製版法等でも良い、又、配向処理
膜（７）は真空蒸着法のうちの斜め蒸着を行なった酸化
シリコン膜などでも良い。
ガラス基板を用いたが、低アルカリガラス基板等の他の
ガラス基板でも良く、着色層（２）に顔料分散したポリ
イミド膜を用いたが、染色されたゼラチン膜等、他の着
色層でも良く、特に（２ａ）の遮光部は蒸着法やその他
の方法により形成し、写真製版法などによりパターン加
工されたＣｒ膜などの金属膜などでも良い０着色層（２
）の形成方法に印刷法を用いたが、写真製版法等の他の
方法で形成しても良い、有機絶縁膜（３）の形成方法に
印刷法を用いたがスピン塗布法などでも良い、無機絶縁
膜（４）に酸化シリコンを用いたが、チソ化シリコン膜
などでも良く、その形成方法もスパッタ法を用いたが、
ＣＶＤ法等、他の方法でも良い、透明導電膜（５）にＩ
Ｔｏ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ −０ｘｉｄｅ ）膜を用
いたが、５ｎＯｚ、 ’ｌｘ’ｓ等の他の透明導電膜な
どでも良く、その形成方法にスパッタ法をもちたが、真
空蒸着法等の他の方法でも良い、絶縁膜（６）に酸化シ
リコンを用いたが、チン化シチコン等でも良く、その形
成方法にスパッタ法を用いたが、ＣＶＤ法など他の方法
でも良く又、本絶縁膜（６）は形成しなくても良い、配
向処理膜（７）にポリイミド膜を用いたが、ポリビニー
ルアルコール等の膜でも良く、その形成方法に転写法を
用いたが、通常の写真製版法等でも良い、又、配向処理
膜（７）は真空蒸着法のうちの斜め蒸着を行なった酸化
シリコン膜などでも良い。
更に、上記実施例では、着色層（２）上に有機絶縁膜（
３）を形成し、本有機絶縁膜（３）上に無機絶縁膜（４
）を形成したが、着色層（２）上に無機絶縁膜（４）に
形成し、本無機絶縁膜（４）を有機絶縁膜（３）を形成
しても良い。
３）を形成し、本有機絶縁膜（３）上に無機絶縁膜（４
）を形成したが、着色層（２）上に無機絶縁膜（４）に
形成し、本無機絶縁膜（４）を有機絶縁膜（３）を形成
しても良い。
以上の様に、この発明によれば、着色層上に有機絶縁膜
及び無機絶縁膜を形成する様に構成したので、着色層の
液晶中への不純物拡散を防止出来、着色層段差部での透
明導電膜のカバレージ不良によるオープン欠陥発生を防
止できる休転性の高い液晶平面ディスプレイ用カラーフ
ィルタ及びその製造方法が得られる効果がある。
及び無機絶縁膜を形成する様に構成したので、着色層の
液晶中への不純物拡散を防止出来、着色層段差部での透
明導電膜のカバレージ不良によるオープン欠陥発生を防
止できる休転性の高い液晶平面ディスプレイ用カラーフ
ィルタ及びその製造方法が得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による液晶平面ディスプレ
イ用カラーフィルタ及びその製造方法を示す工程断面図
、第２図は有機絶縁膜の一実施例であるアクリル樹脂膜
の膜厚とピンホール密度の関係を表わすグラフ、第３図
は無機絶縁膜の一実施例である酸化シリコン膜の膜厚と
ピンホール密度の関係を表わすブラフ、第４図は従来の
液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ及びその製造方
法を示す工程断面図である。 ＋１１・・・ガラス基板、（２）・・・着色層、（３）
・・・有機絶縁膜、（４）・・・無機絶Ｉ！膜、（５）
・・・透明導電膜、（６）・・・絶縁膜、（７）・・・
配向処理膜である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
イ用カラーフィルタ及びその製造方法を示す工程断面図
、第２図は有機絶縁膜の一実施例であるアクリル樹脂膜
の膜厚とピンホール密度の関係を表わすグラフ、第３図
は無機絶縁膜の一実施例である酸化シリコン膜の膜厚と
ピンホール密度の関係を表わすブラフ、第４図は従来の
液晶平面ディスプレイ用カラーフィルタ及びその製造方
法を示す工程断面図である。 ＋１１・・・ガラス基板、（２）・・・着色層、（３）
・・・有機絶縁膜、（４）・・・無機絶Ｉ！膜、（５）
・・・透明導電膜、（６）・・・絶縁膜、（７）・・・
配向処理膜である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- ガラス基板上に形成した着色層上、透明導電膜下に有機
絶縁膜と無機絶縁膜を有し、着色層上の有機絶縁膜の膜
厚を０．５〜５μｍとなる様に形成し、無機絶縁膜の膜
厚を０．０８〜３μｍとなる様に形成したことを特徴と
するカラーフィルタ及びその製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1129322A JPH02308105A (ja) | 1989-05-23 | 1989-05-23 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1129322A JPH02308105A (ja) | 1989-05-23 | 1989-05-23 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02308105A true JPH02308105A (ja) | 1990-12-21 |
Family
ID=15006718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1129322A Pending JPH02308105A (ja) | 1989-05-23 | 1989-05-23 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02308105A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995034021A1 (en) * | 1994-06-09 | 1995-12-14 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display equipped with grid-shaped black matrix |
| WO2010007819A1 (ja) | 2008-07-15 | 2010-01-21 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板及び液晶表示装置 |
| US8243234B2 (en) | 2005-09-27 | 2012-08-14 | Chimei Innolux Corporation | Color filter substrate and fabricating method thereof, LCD panel and LCD device |
-
1989
- 1989-05-23 JP JP1129322A patent/JPH02308105A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995034021A1 (en) * | 1994-06-09 | 1995-12-14 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display equipped with grid-shaped black matrix |
| US8243234B2 (en) | 2005-09-27 | 2012-08-14 | Chimei Innolux Corporation | Color filter substrate and fabricating method thereof, LCD panel and LCD device |
| WO2010007819A1 (ja) | 2008-07-15 | 2010-01-21 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板及び液晶表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6342970B1 (en) | Dielectric interference filter system, LCD-display and CCD-arrangement as well as process for manufacturing a dielectric interference filter system and use of this process | |
| JPH0610702B2 (ja) | カラー液晶表示装置およびその製造方法 | |
| TWI226462B (en) | Color filter and fabricating method thereof | |
| CN100593748C (zh) | 彩膜基板的制造方法 | |
| CN1333884A (zh) | 平板显示器用的滤色器 | |
| JP3210791B2 (ja) | カラー液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH02308105A (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法 | |
| JP2004295090A (ja) | カラー液晶表示装置とその製造方法、およびカラーフィルタ基板の製造方法 | |
| KR20010066368A (ko) | 박막트랜지스터 기판 및 그의 제조방법 | |
| JPS6146931A (ja) | カラ−液晶パネルの製造方法 | |
| JPH05127014A (ja) | カラーフイルタ用ブラツクマスク | |
| JPH02153304A (ja) | 色分解フィルターの製造方法 | |
| JPH0486601A (ja) | カラーフィルタ | |
| US20050237448A1 (en) | Color filter and method for manufacturing the same | |
| EP0295329B1 (en) | Liquid crystal color display device | |
| JPS6267502A (ja) | 色フイルタ | |
| JPH082654Y2 (ja) | 液晶表示素子用電極基板 | |
| KR960009378Y1 (ko) | 액정 디스플레이용 칼라필터 기판의 구조 | |
| JPH05323368A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH0792565B2 (ja) | カラ−フイルタの製造法 | |
| JPH0477717A (ja) | カラー液晶表示素子 | |
| KR0182019B1 (ko) | 액정셀 및그 제조 방법 | |
| KR950008936B1 (ko) | 칼라필터 및 그 제조방법 | |
| US6514645B2 (en) | Method of making a color filter | |
| KR940009159B1 (ko) | 액정 디스플레이의 칼라 필터 |