JPS63146867A - 置換トリアジン誘導体、それらの製造法及び用途 - Google Patents

置換トリアジン誘導体、それらの製造法及び用途

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JPS63146867A
JPS63146867A JP62281171A JP28117187A JPS63146867A JP S63146867 A JPS63146867 A JP S63146867A JP 62281171 A JP62281171 A JP 62281171A JP 28117187 A JP28117187 A JP 28117187A JP S63146867 A JPS63146867 A JP S63146867A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は置換トリアジン誘導体、特にカルコゲニド置換
基を含有する置換トリアジン誘導体、それらの製造法及
びそれらの用途に関する。
(従来の技術) 。
2−置換−4,6−ビス(トリハロメチル)−1,3,
5−トリアジン類は感光性樹脂組成物〔例えば特開昭6
0−60104号公報(富士写真フィルム株式会社)参
照〕における光重合開始剤としておよびポジ作動型(p
ositive−acting)組成物〔例えば米国特
許第4350753号明細書(Polychrome 
Carp、)参照〕の露光に際して強い色の変化を生じ
させるために使用されている。
(発明が解決しようとする問題点および問題を解決する
ための手段) 今般、本発明者らは、光重合を開始し得るあるいは強い
色の変化を生起せしめ得るある特定の置換トリアジン誘
導体を創製した。これらの化合物は4−アルキルチオフ
ェニル基、4−アリールチオフェニル基を含むものまた
はそれらのセレンもしくはテルル類縁体であり、これら
は硫黄、セレンまたはテルル結合を含まない構造的に類
似のトリアジン類よりもリソグラフィーによる焼付は用
ダウンフレーム(print down frames
)[露光装置]において通常使用される波長においてよ
り強い吸収を示すものである。
したがって本発明は、一般式: (式中、Rはアルキル基またはアリール基であり、Xは
S、SeまたはTeであり、nまたはmは0であるかあ
るいはそれぞれが1〜3の整数であるがn十mの合計は
3を超えないものとし;pまたはqは0であるかあるい
はそれぞれが1〜3の整数であるがP+(Iの合計は3
を超えないものとする)で表わされるトリアジン誘導体
を提供するものである。
好ましい本発明の化合物はトリアジン基の4位と6位の
置換基が同一である化合物である。より好ましい化合物
はnが3であり1mが0であり、pが3でありそしてq
が0である化合物である。
置換基Rは好ましくは1〜20個の炭素原子を含有する
アルキル基、さらに好ましくは1〜6個の炭素原子を含
有するアルキル基、もっとも好ましくはメチル基もしく
はエチル基あるいはフェニル基または置換フェニル基で
ある。
本発明の好ましい化合物は次式: を有する2−(4−メチルチオフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−1,3,5−トリアジンであ
る。
本発明の他の好ましい化合物は2−(4−エチルチオフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−1,3
,5−トリアジン: 2−(4−ステアリルチオフェニ
ル)−4゜6−ビス(トリクロルメチル)−1,3,5
−トリアジン;2−(4−フェニルチオフェニル)−4
,6−ビス(トリクロルメチル)−1,3,5−トリア
ジン; 2−(4−(4−メトキシフェニル)チオフェ
ニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−1,3,
5−トリアジンおよび2−(4−メチルチオフェニル)
−4,6−ビス(トリブロムメチル)−1,3,5−ト
リアジンである。
本発明の化合物はBull、 Chew、 Soc、 
Japan、第42巻、第2924〜2930頁(19
69年)に記載の一般的な方法に従って、塩酸およびフ
リーデル−クラフツ触媒、例えばAQCら、AQBr、
、TiCQ、または三フッ化ホウ素エーテレートの存在
下でハロゲン化アセトニトリルと置換ベンゾニトリルと
を共三景化せしめることによって製造できる0代表的な
反応式を以下に示す。
本発明の化合物を合成する他の方法はAngew。
Chew、、 72.第982頁(1966年)に発表
された方法に従ってアリールアミジン類をポリクロルア
ザ−アルケン類と反応させることによる方法である。そ
れにつづ<s−トリアジン類中のアルキル基の塩素化お
よび臭素化法ならびにトリブロムメチル基中の臭素原子
を水素原子で置換する交換反応の方法はJ、 Org、
 Chew、、 29.第1527頁(1964年)に
記載されている。共三景化に使用されるニトリル類のあ
るものは当該技術分野において既知の簡単な方法により
1例えばカルボン酸アミド類もしくはオキシム類の脱水
によってまたは芳香族臭素化合物とシアン化第−銅との
反応によって製造できる。
本発明の化合物は光重合開始剤、すなわち重合反応を開
始させる作用を有するものでありおよび/または着色系
(coloured 5ystei+)において色の変
化を生起せしめ得るものである。
光重合開始剤としての使用に対しては、本発明の化合物
は0.05〜20重量%の量で有効であり、10重量%
までの範囲の使用量、より好ましくは3〜7重量%の使
用量が特に好ましい、光重合開始剤は例えばフリーラジ
カルによって惹起される光重合反応を開始させるために
使用できる。光重合せしめ得る適当な単量体はアクリレ
ート類、メタクリレート類、ビニルエステル類およびビ
ニルアミド類である。これらの重合性組成物は充填剤、
染料、可塑剤または重合抑制剤のような通常の添加剤を
含有できる。
本発明の化合物はまた着色系(coloured sy
stems)において光分解中に色の変化を生起せしめ
得るものでありまたは着色発色剤1例えばロイコ(le
uco)化合物において発色を開始せしめ得る0色の変
化はリソグラフィーによる刷面の現像前に刷面を調べる
ことを可能にするのでかかる刷面の製造に特に重要なも
のである。使罪される感光性被覆剤の組成に応じて、リ
ソグラフィーによる刷面はそれに露光される像を再生す
ることができ、この場合該刷面はポジ作動型刷面(po
sitive−workingplate)と呼ばれる
。また刷面は露光される像に対して相補的な画像を形成
させることもでき、この場合該刷面はネガ作動型刷面(
negative−workingplate)と呼ば
れる。これらは当該技術において周知である0本発明の
化合物はポジ作動型又はネガ作動型のリソグラフィー用
刷面のいずれにも使用し得るものである。
したがって、本発明はさらに、本発明の新規置換トリア
ジンを全固形物の0.05〜20重量%の割合で含有す
るポジ作動型またはネガ作動型リソグラフィー用刷面に
使用するための被覆組成物を提供するものである。これ
らの組成物は本発明の新規置換トリアジン化合物を全固
形物含量の10重量%まで、より好ましくは1〜7重量
%、もっとも好ましくは約5重量%の割合で含有するこ
とが好ましい。
(実施例) 本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明する。
三つロフラスコに4−(メチルチオ)ベンゾニトリル(
24,5g)、トリクロルアセトニトリル(47,8g
)および臭化アルミニウム(0,48g)を入れそして
この混合物を一1θ〜0℃の温度に3時間保ちながら塩
化水素ガスで飽和させた。2日間放置した後、得られた
混合物を加熱しそして水(2fi)中に注入した。沈澱
した固体を濾過しそしてエタノールから再結晶化した。
収率70%。
讃、P、          145〜151℃1、R
,(KBr)   695.720.770.820.
845.1020.1G90゜1190、1340.1
400.1510.1550.1595゜2925  
cm−1 υ、V、(エタノ−#)     λ、、、358nm
、   i 、、、37.960 1  園ol−’c
m−”λ、、、235nm、  a ll、、12,3
00 1  mol−am−’N、M、R,(CD(、
Q、)  62.6(3H,s)、 7.3(2H,d
)、 8.5(2H,d)。
三つロフラスコに4−(エチルチオ)ベンゾニトリル(
3,0g)、トリクロルアセトニトリル(8g)および
臭化アルミニウム(0,1g)を入れそしてこの混合物
を一5〜5℃の温度に30分間保ちながら塩化水素ガス
で飽和させた。3日間放置後、得られた混合物を加熱し
そしてメタノール(500a+1)中に注入した。
沈澱した固体を濾過しそしてエタノールから再結晶化し
た。収率68%。
騰、p、     112〜113℃ 1、R,(ヌジi−#)     695. 770.
 820. 845. 920. 990. 1010
゜1090、1110.1140.11!10.134
5.1395゜1505、1550.1595 cws
−”υ、V、(エタノ−#)     λ、、x362
nm、   i 、、、11,300 1  mol−
”cm−’λ、、x237nm、  s 、、x 3,
950 1 1io1−’cm−”N、M、R,(CD
Cら) 61.4(3H9t)、 3.1(2H,q)
、 7.4(2Htd)?8.6(21,d)。
三つロフラスコに4−(ステアリルチオ)ベンゾニトリ
ル(log)、トリクロルアセトニトリル(10g)お
よび臭化アルミニウム(0,3g)を入れそしてこの混
合物を50℃の温度に30分間保ちながら塩化水素ガス
で飽和させた。3日間放置後、得られた混合物を加熱し
そしてメタノール(IQ)中に注入した。沈澱した固体
を集めそしてエタノールから再結晶化した。収率49%
3、P、      64〜66℃ 1、R,(スジ1−ル)     670,695,7
15,720,770,780,820゜850、92
0.990.1010.1090.1185゜1340
、1400.1510.1545.1595 cta−
”U、V、(エタノール)     λ、、、365r
++s、  g 、、、18.400 1  ml−’
cm−’λ−、x235nm、  i 、、、2.90
0 1  wool−”cm−”N、M、n、(coc
Il、)   δ0.9(3H,ie)、  1.25
(32H,m)、  3.1(3H,t)。
7.4(2)1.■)t 8−6(2H−iI)−三つ
ロフラスコに4−(フェニルチオ)ベンゾニトリル(1
,6g)、  トリクロルアセトニトリル(2,2g)
および臭化アルミニウム(0,1g)を入れそしてこの
混合物を一10〜0℃の温度に30分間保ちながら塩化
水素ガスで飽和させた。3日間放置後、得られた混合物
を加熱しそしてメタノール(500■a)中に注入した
。沈澱した固体を集めそしてエタノールから再結晶化し
た。収率63%。
飄、p、          111〜112℃1、R
,(スジ1−ル)     665,700,725,
770,780,810,830゜855、925.1
015.1080.1115.1190゜1250、1
35G、 1400.1500.1555.1595 
cm−’υ、V、(エタノール)     λ、、x3
58nm、   i  、、x24,400 1  m
ol−’am−”NJ、R,(CDCも)  δ7.2
(2H,膳)t  7,4〜7.6(5H,■)。
8.5(2H,園)。
ム 三つロフラスコに4−(4−メトキシフェニルチオ)ベ
ンゾニトリル(3g)、  トリクロルアセトニトリル
(3,6g)および臭化アルミニウム(0,1g)を入
れそしてこの混合物を一10〜O℃の温度に30分間保
ちながら塩化水素ガスで飽和させた。3日間放置後、得
られた混合物を加熱しそしてメタノール(500■a)
中に注入した。沈澱した固体を集めそしてエタノールか
ら再結晶化した。収率64%。
m、p、           136〜137℃1、
R,(スジ1−ル)     665,700,720
,775,815,830,835゜855、925.
960.970.990.1015.1025゜108
0、1100.1110.1115.1175.118
5゜1250、1290.1300.1350.136
0.1400゜1500、1555.1595 cm−
’U=V、(エタノール)     λ、、、228n
−,i 、、x25,000 1  mol−”cm−
1λ、、x284nm、 ffi Ill。36.30
01■ol−”am−’λ、、、361nm、  i 
、、x 3,600 1  mol−’am−’N、M
、R,(CDCら)  63.8(3H,m)、6.9
(211,m)、   7.1(211,m)。
7.5(2H,m)、8−5(2)1−■)。
三つロフラスコに4−(メチルチオ)ベンゾニトリル(
5g)、トリブロムアセトニトリル(23g)および臭
化アルミニウム(0,7g)を入れそしてこの混合物を
15〜25℃の温度に30分間保ちながら塩化水素ガス
で飽和させた。3日間放置後、得られた混合物を加熱し
そして沈澱した固体を集めた。収率30%。
■、p、     156〜157℃ 1、R,(スジ1−ル)     620,660,6
95,740,815,1090,1536゜1590
 am−’ U、V、(エタノ−#)    λmax235n4 
 ε、、、22.900 1  soド1C鵬−1λ、
、x355nm、 i 、、x41,1001 gao
l−1cm−1N、M、R,(CDCら)68.6(2
H,d)、 7.4(2)1.d)、 2.6(3H,
s)。
失直五1 つぎの成分から被覆組成物を製造した。
得られた組成物を陽極酸化されたアルミニウム(以下ア
ルマイトという)の表面に塗布し、乾燥し、5kvモン
タコツプ(Montakop)露光単位で30秒間露光
しそして水性アルカリ現像液で現像した。
寒凰叢且 つぎの成分から被覆組成物を製造した。
得られた組成物をアルマイト表面に塗布し、rL燥し、
随意にポリ(ビニルアルコール)で上塗りし、露光しそ
して有機溶剤現像液で現像した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはアルキル基またはアリール基であり;Xは
    S、SeまたはTeであり、nまたはmは0であるかあ
    るいはそれぞれが1〜3の整数であるがn+mの合計は
    3を超えないものとし;pまたはqは0であるかあるい
    はそれぞれが1〜3の整数であるがp+qの合計は3を
    超えないものとする)を有することを特徴とする新規ト
    リアジン誘導体。 2、トリアジン基がその4位と6位に同一の置換基を含
    む特許請求の範囲第1項記載のトリアジン誘導体。 3、nが3であり、mが0であり、pが3でありそして
    qが0である特許請求の範囲第1項または第2項記載の
    トリアジン誘導体。 4、Rが1〜20個の炭素原子を含むアルキル基である
    特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の
    トリアジン誘導体。 5、Rが1〜6個の炭素原子を含むアルキル基である特
    許請求の範囲第4項記載のトリアジン誘導体。 6、2−(4−メチルチオフェニル)−4,6−ビス(
    トリクロルメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(
    4−エチルチオフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
    メチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−ステア
    リルチオフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル
    )−1,3,5−トリアジン、2−(4−フェニルチオ
    フェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−1,
    3,5−トリアジン、2−〔4−(4−メトキシフェニ
    ル)チオフェニル〕−4,6−ビス(トリクロルメチル
    )−1,3,5−トリアジンまたは2−(4−メチルチ
    オフェニル)−4,6−ビス(トリブロムメチル)−1
    ,3,5−トリアジンである特許請求の範囲第1項記載
    のトリアジン誘導体。 7、塩酸およびフリーデル−クラフツ触媒の存在下で、
    式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、RおよびXは後記の意義を有する)の置換ベン
    ゾニトリルを式: CH_(_3_−_n_−_m_)Cl_nBr_mC
    ≡N(式中、nまたはmは後記の意義を有する)のハロ
    ゲン化アセトニトリルと反応させることを特徴とする式
    : ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはアルキル基またはアリール基であり;Xは
    S、SeまたはTeであり、nまたはmは0であるかあ
    るいはそれぞれが1〜3の整数であるがn+mの合計は
    3を超えないものとし;pまたはqは0であるかあるい
    はそれぞれが1〜3の整数であるがp+qの合計は3を
    超えないものとする)の化合物のうち、pおよびqがそ
    れぞれnおよびmと同一の意義を有する場合の対称置換
    トリアジン誘導体の製造法。 8、少なくとも一種の光重合性単量体および0.05〜
    20重量%の式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはアルキル基またはアリール基であり;Xは
    S、SeまたはTeであり、nまたはmは0であるかあ
    るいはそれぞれが1〜3の整数であるがn+mの合計は
    3を超えないものとし;pまたはqは0であるかあるい
    はそれぞれが1〜3の整数であるがp+qの合計は3を
    超えないものとする)の少なくとも一種の置換トリアジ
    ン誘導体を含有してなる光重合性組成物。 9、全固形分の0.05〜20重量%の式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはアルキル基またはアリール基であり;Xは
    S、SeまたはTeであり、nまたはmは0であるかあ
    るいはそれぞれが1〜3の整数であるがn+mの合計は
    3を超えないものとし;pまたはqは0であるかあるい
    はそれぞれが1〜3の整数であるがp+qの合計は3を
    超えないものとする)の少なくとも一種の置換トリアジ
    ン誘導体を含有することを特徴とするポジ作動型又はネ
    ガ作動型のリソグラフィー刷面用被覆組成物。 10、全固形分の1〜7重量%の少なくとも一種の該置
    換トリアジン誘導体を含有する特許請求の範囲第9項記
    載の被覆組成物。
JP62281171A 1986-11-12 1987-11-09 置換トリアジン誘導体、それらの製造法及び用途 Expired - Lifetime JP2578839B2 (ja)

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DE (1) DE3778508D1 (ja)
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