JPS63159232A - 光フアイバ母材製造装置 - Google Patents
光フアイバ母材製造装置Info
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- JPS63159232A JPS63159232A JP30605886A JP30605886A JPS63159232A JP S63159232 A JPS63159232 A JP S63159232A JP 30605886 A JP30605886 A JP 30605886A JP 30605886 A JP30605886 A JP 30605886A JP S63159232 A JPS63159232 A JP S63159232A
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- JP
- Japan
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- exhaust
- chamber
- inert gas
- sintering
- pressure
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光フアイバ母材スートを脱水ガラス化して光
フアイバ母材を得る光ファイバ母材製造Ｓ！四に関する
ものである。
フアイバ母材を得る光ファイバ母材製造Ｓ！四に関する
ものである。
（従来技術とその問題点）
光ファイバの母材を製造する方法として、＄１０２に屈
折率調整用のドーパントとしてのＧｅＯ２を分布させた
多孔質ガラス微粒体からなる光フアイバ母材スートを、
焼結炉で焼結して脱水ガラス化づ′る方法がある。
折率調整用のドーパントとしてのＧｅＯ２を分布させた
多孔質ガラス微粒体からなる光フアイバ母材スートを、
焼結炉で焼結して脱水ガラス化づ′る方法がある。
この様な方法により光フアイバ母材を製造するには、従
来第２図に示すように、光ファイバは材スート５０を先
端部に形成した石英ガラスからなる種棒５１を先端側か
ら焼結炉の炉心管５２に挿入し、炉心管５２の下端から
Ｈｅガスと脱水剤としてのＣ１２ガスとを供給し、種棒
５１を回転させながら徐々に下降させ、ヒータ５３によ
り加熱することにより光フアイバ母材スート５０を脱水
ガラス化して光フアイバ母材５４を得ていた。そして炉
心管５２内のＨｅ及びＣ１２ガスは、排気筒体５５に接
続された排気流路５６を介して排気処理装置により吸引
していた。なお炉心管５２の内部と排気筒体５５の内部
とは蓋体５７により区画され、排気筒体５５の内部と大
気との間は蓋体５８により区画されており、蓋体５７及
び蓋体５８には種棒５１が貫通する透孔が穿設されてい
る。
来第２図に示すように、光ファイバは材スート５０を先
端部に形成した石英ガラスからなる種棒５１を先端側か
ら焼結炉の炉心管５２に挿入し、炉心管５２の下端から
Ｈｅガスと脱水剤としてのＣ１２ガスとを供給し、種棒
５１を回転させながら徐々に下降させ、ヒータ５３によ
り加熱することにより光フアイバ母材スート５０を脱水
ガラス化して光フアイバ母材５４を得ていた。そして炉
心管５２内のＨｅ及びＣ１２ガスは、排気筒体５５に接
続された排気流路５６を介して排気処理装置により吸引
していた。なお炉心管５２の内部と排気筒体５５の内部
とは蓋体５７により区画され、排気筒体５５の内部と大
気との間は蓋体５８により区画されており、蓋体５７及
び蓋体５８には種棒５１が貫通する透孔が穿設されてい
る。
また排気流路５６には手動バルブ５９が設置されている
。
。
しかし、炉心管５２の内圧は、排気側吸引圧の変動や、
種棒５１のゆがみや径の不均一に起因する種棒５１と蓋
体５７との間隙の変化や、炉心管５２内部の温度変化に
よる排気ガス実体積の変動等により変動する。
種棒５１のゆがみや径の不均一に起因する種棒５１と蓋
体５７との間隙の変化や、炉心管５２内部の温度変化に
よる排気ガス実体積の変動等により変動する。
このように炉心管５２の内圧が変化すれば、光フアイバ
母材スート５０の脱水ガラス化工程中に脱水効果が変動
し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの長手
方向の損失特性が低下する。
母材スート５０の脱水ガラス化工程中に脱水効果が変動
し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの長手
方向の損失特性が低下する。
また脱水ガラス化工程中に屈折率調整用のドーパントと
してのＧｅＯ２の一部が塩化反応により飛散して所望の
屈折率になるのであるが、炉心管５２の内圧変動により
この反応速度即ち飛散量が変化し、その結果、光フアイ
バ母材５４の屈折率差や屈折率分布形状が長手方向に変
化し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの伝
送特性が低下する。また炉心管５２の内圧と炉シールガ
ス圧との差が±２０履Ｈ２０以上の状態で運転すると、
長時間の脱水ガラス化工程中に炉心管５２が変形し、破
壊に至る。またたとえば排気負圧変動が激しい場合は、
ガス流の脈動現象が起こり、蓋体５７の透孔部で吸排交
番（息つき）し、炉心管５２内に排気が逆流して、外部
から空気や金属イオン等の不純物が侵入する危険性があ
る。
してのＧｅＯ２の一部が塩化反応により飛散して所望の
屈折率になるのであるが、炉心管５２の内圧変動により
この反応速度即ち飛散量が変化し、その結果、光フアイ
バ母材５４の屈折率差や屈折率分布形状が長手方向に変
化し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの伝
送特性が低下する。また炉心管５２の内圧と炉シールガ
ス圧との差が±２０履Ｈ２０以上の状態で運転すると、
長時間の脱水ガラス化工程中に炉心管５２が変形し、破
壊に至る。またたとえば排気負圧変動が激しい場合は、
ガス流の脈動現象が起こり、蓋体５７の透孔部で吸排交
番（息つき）し、炉心管５２内に排気が逆流して、外部
から空気や金属イオン等の不純物が侵入する危険性があ
る。
しかしながら従来の光フアイバ母材製造装置では、手動
バルブ５９の開度を調整して排気ガスの総量を変えるこ
とにより炉心管５２の内圧を調整し、安定化していたの
で、排気側の吸引圧の変動等に対応することができず、
炉心管５２の内圧を一定にすることができないという問
題があった。
バルブ５９の開度を調整して排気ガスの総量を変えるこ
とにより炉心管５２の内圧を調整し、安定化していたの
で、排気側の吸引圧の変動等に対応することができず、
炉心管５２の内圧を一定にすることができないという問
題があった。
（問題点を解決するための手段）
上記問題点を解決するため、本発明の光フアイバ母材製
造装置は、焼結炉の焼結室を形成する炉心管の上側に配
置されて第１の排気室を形成する第１の排気筒体と、こ
の第１の排気筒体の上側に配置されて第２の排気室を形
成する第２の排気筒体と、種棒が貫通する透孔を有し且
つ前記焼結室と第１の排気室とを区画する第１の蓋体と
、前記種棒が貫通する透孔を有し且つ前記第１の排気室
と第２の排気室とを区画する第２の蓋体と、前記種棒が
貫通する透孔を有し且つ前記第２の排気室と外部とを区
画する第３の蓋体と、前記第２の排気室に不活性ガスを
供給する不活性ガス供給流路と、この不活性ガス供給流
路に配置された流量調節弁と、前記焼結室の圧力を検出
する圧力検出器と、この圧力検出温からの信号により前
記焼結室の圧力に応じて前記流量調節弁を制御する制御
装置と、前記第１の排気室と排気処理装置とを連通させ
る排気流路とを設け、前記焼結室の圧力が増加したとき
には前記第２の排気室に供給する不活性ガスの量を減少
させ、前記焼結室の圧力が減少したときには前記第２の
排気室に供給する不活性ガスの是を増加させる構成とし
たものである。
造装置は、焼結炉の焼結室を形成する炉心管の上側に配
置されて第１の排気室を形成する第１の排気筒体と、こ
の第１の排気筒体の上側に配置されて第２の排気室を形
成する第２の排気筒体と、種棒が貫通する透孔を有し且
つ前記焼結室と第１の排気室とを区画する第１の蓋体と
、前記種棒が貫通する透孔を有し且つ前記第１の排気室
と第２の排気室とを区画する第２の蓋体と、前記種棒が
貫通する透孔を有し且つ前記第２の排気室と外部とを区
画する第３の蓋体と、前記第２の排気室に不活性ガスを
供給する不活性ガス供給流路と、この不活性ガス供給流
路に配置された流量調節弁と、前記焼結室の圧力を検出
する圧力検出器と、この圧力検出温からの信号により前
記焼結室の圧力に応じて前記流量調節弁を制御する制御
装置と、前記第１の排気室と排気処理装置とを連通させ
る排気流路とを設け、前記焼結室の圧力が増加したとき
には前記第２の排気室に供給する不活性ガスの量を減少
させ、前記焼結室の圧力が減少したときには前記第２の
排気室に供給する不活性ガスの是を増加させる構成とし
たものである。
（作用）
焼結室に供給されたガスは、第１の蓋体と種棒との間隙
から第１の排気室に至り、排気処理装置により排気流路
を通って吸引排気される。そして焼結室の圧力は圧力検
出器により検出され、制御装置は圧力検出器からの信号
に応じて流量調節弁を制御して、焼結室の圧力が増加し
たときには第２の排気室に供給する不活性ガスの量を減
少させ、焼結室の圧力が減少したときには第２の排気室
に供給する不活性ガスの偵を増加させて、炉心管の内圧
を一定に保つ。
から第１の排気室に至り、排気処理装置により排気流路
を通って吸引排気される。そして焼結室の圧力は圧力検
出器により検出され、制御装置は圧力検出器からの信号
に応じて流量調節弁を制御して、焼結室の圧力が増加し
たときには第２の排気室に供給する不活性ガスの量を減
少させ、焼結室の圧力が減少したときには第２の排気室
に供給する不活性ガスの偵を増加させて、炉心管の内圧
を一定に保つ。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を第１図に基づいて説明する。
第１図は本発明の一実施例における光フアイバ母材製造
装置の概略構成図で、１は焼結炉の炉心管であり、この
炉心管１には、下端からＨｅガスと脱水剤としてのＣＩ
□ガスとが供給され、また先端に光フアイバ母材スート
２が形成された種棒３の先端部が上側から挿入されてい
る。また前記炉心管１は、中間部適所の外側にカーボン
ヒータ等のヒータ４が設置されており、上側に例えば石
英ガラス等からなる第１の排気筒体５が連結されている
。この第１の排気筒体５の上には第２の排気筒体６が一
体に形成されており、前記第１の排気筒体５の側面には
管状のガス排出部７が突設され、前記第２の排気筒体６
の側面には管状の不活性ガス導入部８が突設されている
。前記第１の排気筒体５の下端フランジ部には第１の蓋
体９が、前記第２の排気筒体６の下端７ランジ部には第
２の蓋体１０が、前記第２の排気筒体６の上端フランジ
部には第３の蓋体１１がそれぞれ載置されている。これ
ら第１〜第３の蓋体９〜１１は、周方向２つ割りの円板
状で、中心部に前記種棒３が１通ずる透孔１２〜１４を
有している。前記第１の蓋体９は前記炉心管１により形
成される焼結室１５と前記第１の排気筒体５により形成
される第１の排気室１６とを区画しており、前記第２の
蓋体９は前記第１の排気室１６と前記第２の排気筒体６
により形成される第２の排気室１７とを区画しており、
前記第３の蓋体１１は前記第２の排気室１７と大気とを
区画している。前記焼結室１５は、一端が閉塞された管
路１８に連通しており、この管路１８には指示計器付の
圧力検出１１９が設置されている。この圧力検出器１９
は制御装置２０に接続されており、圧力検出器１９と制
御装置２０との接続点には設定器２１が接続されている
。
装置の概略構成図で、１は焼結炉の炉心管であり、この
炉心管１には、下端からＨｅガスと脱水剤としてのＣＩ
□ガスとが供給され、また先端に光フアイバ母材スート
２が形成された種棒３の先端部が上側から挿入されてい
る。また前記炉心管１は、中間部適所の外側にカーボン
ヒータ等のヒータ４が設置されており、上側に例えば石
英ガラス等からなる第１の排気筒体５が連結されている
。この第１の排気筒体５の上には第２の排気筒体６が一
体に形成されており、前記第１の排気筒体５の側面には
管状のガス排出部７が突設され、前記第２の排気筒体６
の側面には管状の不活性ガス導入部８が突設されている
。前記第１の排気筒体５の下端フランジ部には第１の蓋
体９が、前記第２の排気筒体６の下端７ランジ部には第
２の蓋体１０が、前記第２の排気筒体６の上端フランジ
部には第３の蓋体１１がそれぞれ載置されている。これ
ら第１〜第３の蓋体９〜１１は、周方向２つ割りの円板
状で、中心部に前記種棒３が１通ずる透孔１２〜１４を
有している。前記第１の蓋体９は前記炉心管１により形
成される焼結室１５と前記第１の排気筒体５により形成
される第１の排気室１６とを区画しており、前記第２の
蓋体９は前記第１の排気室１６と前記第２の排気筒体６
により形成される第２の排気室１７とを区画しており、
前記第３の蓋体１１は前記第２の排気室１７と大気とを
区画している。前記焼結室１５は、一端が閉塞された管
路１８に連通しており、この管路１８には指示計器付の
圧力検出１１９が設置されている。この圧力検出器１９
は制御装置２０に接続されており、圧力検出器１９と制
御装置２０との接続点には設定器２１が接続されている
。
前記不活性ガス導入部８は不活性ガス供給流路２２を介
して図外の不活性ガス供給装置に接続されており、不活
性ガス供給流路２２には前記制御装置２０により制御さ
れる流ｍ＊節弁２３が設置されている。前記ガス排出部
７は先端部が排気箱２４に貫入しており、この排気箱２
４は不活性ガス流入部２５と排気ガス流出部２６とを有
している。
して図外の不活性ガス供給装置に接続されており、不活
性ガス供給流路２２には前記制御装置２０により制御さ
れる流ｍ＊節弁２３が設置されている。前記ガス排出部
７は先端部が排気箱２４に貫入しており、この排気箱２
４は不活性ガス流入部２５と排気ガス流出部２６とを有
している。
前記不活性ガス流入部２５は図外の管路を介して前記不
活性ガス供給装置に接続されており、前記排気ガス流出
部２６は排気流路２７を介して排気処理装置２８に接続
されている。なお２９は光ファイバ母材スート２が脱水
ガラス化されてできた光フアイバ母材である。
活性ガス供給装置に接続されており、前記排気ガス流出
部２６は排気流路２７を介して排気処理装置２８に接続
されている。なお２９は光ファイバ母材スート２が脱水
ガラス化されてできた光フアイバ母材である。
次に作用を説明する。まず第１〜第３のａ体９〜１１を
取外しておき、先端部に光フアイバ母材スート２を形成
した種棒３を先端側を下向きにして図外のチャック装置
に装着する。そして光フアイバ母材スート２部分が焼結
室１５の上端部に位置するように種棒３を下降させ、第
１の蓋体９を第１の排気筒体５の下端７ランジ部に載置
し、第２の蓋体１０を第２の排気筒体６の下端７ランジ
部に載置し、第３の蓋体１１を第２の排気筒体６の上端
フランジ部に載置する。この状態で焼結室１５にＨｅガ
ス及び脱水剤としてのＣＩ２ガスを供給し、ヒータ４で
焼結室１５を加熱して、種棒３を軸芯回りに回転させな
がら徐々に下降させると、光フアイバ母材スート２が先
端側から徐々に脱水ガラス化されて体積が減少し、光フ
ァイバ母材２９になる。このとき、焼結室１５に供給さ
れたガスは、種棒３と第１の蓋体９との間隙から第１の
排気室１６に流入し、ガス排出部７を通って排気される
。そして、焼結室１５の内圧が圧力検出器１９により検
出され、圧力検出器１９の信号が制御装設２０に供給さ
れて、それにより制御装置２０は流量調節弁２３を制御
する。即ち、焼結室１５の内圧が設定器２１で設定した
設定値よりも大きい場合、制御装置２０は流量調節弁２
３を絞って排気室１５へのＨｅ或はＡｒ等或はこれらを
混合した不活性ガスの流入面を減少させ、逆に焼結室１
５の内圧が設定器２１で設定した設定値よりも小さい場
合、制御装置２０は流量調節弁２３を更に開放して第２
の排気室１７への不活性ガスの流入量を増加させる。こ
れにより第２の排気室１７の内圧が制御され、第２の排
気室１７から種棒３と第２の蓋体１０との間隙を通って
第１の排気室１６に流入する不活性ガスの流通が変化し
、これにより第１の排気室１６の内圧が変化し、焼結室
１５から種棒３と第１の蓋体９との間隙を通って第１の
排気室１６に流入する排気ガスの流量が変化して、焼結
室１５の内圧が一定に保たれる。
取外しておき、先端部に光フアイバ母材スート２を形成
した種棒３を先端側を下向きにして図外のチャック装置
に装着する。そして光フアイバ母材スート２部分が焼結
室１５の上端部に位置するように種棒３を下降させ、第
１の蓋体９を第１の排気筒体５の下端７ランジ部に載置
し、第２の蓋体１０を第２の排気筒体６の下端７ランジ
部に載置し、第３の蓋体１１を第２の排気筒体６の上端
フランジ部に載置する。この状態で焼結室１５にＨｅガ
ス及び脱水剤としてのＣＩ２ガスを供給し、ヒータ４で
焼結室１５を加熱して、種棒３を軸芯回りに回転させな
がら徐々に下降させると、光フアイバ母材スート２が先
端側から徐々に脱水ガラス化されて体積が減少し、光フ
ァイバ母材２９になる。このとき、焼結室１５に供給さ
れたガスは、種棒３と第１の蓋体９との間隙から第１の
排気室１６に流入し、ガス排出部７を通って排気される
。そして、焼結室１５の内圧が圧力検出器１９により検
出され、圧力検出器１９の信号が制御装設２０に供給さ
れて、それにより制御装置２０は流量調節弁２３を制御
する。即ち、焼結室１５の内圧が設定器２１で設定した
設定値よりも大きい場合、制御装置２０は流量調節弁２
３を絞って排気室１５へのＨｅ或はＡｒ等或はこれらを
混合した不活性ガスの流入面を減少させ、逆に焼結室１
５の内圧が設定器２１で設定した設定値よりも小さい場
合、制御装置２０は流量調節弁２３を更に開放して第２
の排気室１７への不活性ガスの流入量を増加させる。こ
れにより第２の排気室１７の内圧が制御され、第２の排
気室１７から種棒３と第２の蓋体１０との間隙を通って
第１の排気室１６に流入する不活性ガスの流通が変化し
、これにより第１の排気室１６の内圧が変化し、焼結室
１５から種棒３と第１の蓋体９との間隙を通って第１の
排気室１６に流入する排気ガスの流量が変化して、焼結
室１５の内圧が一定に保たれる。
一方、ガス排出部７から排気箱２４の内部に流入した排
気ガスと不活性ガスとの混合排気ガスは、不活性ガス流
入部２５から供給されるＨｅ或はＡｒ等或はこれらの混
合ガスからなる不活性ガスとともに排気ガス流出部２６
から吸引排気される。
気ガスと不活性ガスとの混合排気ガスは、不活性ガス流
入部２５から供給されるＨｅ或はＡｒ等或はこれらの混
合ガスからなる不活性ガスとともに排気ガス流出部２６
から吸引排気される。
このように、焼結室１５の内圧を検出してそれに応じて
第２の排気室１７に供給する不活性ガスの流量を制御し
ているので、焼結室１５の内圧を常に一定に保つことが
できる。しかも第２の排気室１７を介して第１の排気室
１６に不活性ガスを供給しているので、第１の排気室１
６の排気ガスは不活性ガスによりガス排出部７から排気
箱２４側へ押出され、第１の排気室１６には不活性ガス
が充満しているので、たとえ焼結室１５の内圧が変動し
て焼結室１５に第１の排気室１６からガスが逆流しても
、焼結室１５に空気或は金属イオン等の不純物が侵入す
ること全くない。特に、排気室を第１の排気室１６と第
２の排気室１７との２段構造としているので、焼結室１
５と大気との間の遮断は完璧であり、焼結室１５に空気
が侵入するのを確実に阻止できる。しかも本実施例では
排気箱２４を設け、この内部にも不活性ガス流入部２５
から不活性ガスを供給しているので、排気室１５及び排
気箱２４の内部には不活性ガスが充満しており、焼結室
１５への不純物の侵入をより確実に防止できる。この排
気箱２４は、排気流路２７を構成する管路内の金属イオ
ン等の不純物が焼結室１５に侵入するのを防止するのに
特に有効である。
第２の排気室１７に供給する不活性ガスの流量を制御し
ているので、焼結室１５の内圧を常に一定に保つことが
できる。しかも第２の排気室１７を介して第１の排気室
１６に不活性ガスを供給しているので、第１の排気室１
６の排気ガスは不活性ガスによりガス排出部７から排気
箱２４側へ押出され、第１の排気室１６には不活性ガス
が充満しているので、たとえ焼結室１５の内圧が変動し
て焼結室１５に第１の排気室１６からガスが逆流しても
、焼結室１５に空気或は金属イオン等の不純物が侵入す
ること全くない。特に、排気室を第１の排気室１６と第
２の排気室１７との２段構造としているので、焼結室１
５と大気との間の遮断は完璧であり、焼結室１５に空気
が侵入するのを確実に阻止できる。しかも本実施例では
排気箱２４を設け、この内部にも不活性ガス流入部２５
から不活性ガスを供給しているので、排気室１５及び排
気箱２４の内部には不活性ガスが充満しており、焼結室
１５への不純物の侵入をより確実に防止できる。この排
気箱２４は、排気流路２７を構成する管路内の金属イオ
ン等の不純物が焼結室１５に侵入するのを防止するのに
特に有効である。
（別の実施例）
上記実施例においては、設定器２１により焼結室１５の
内圧の基準値を設定できるように構成したが、焼結室１
５の内圧の基準値が常に一定で変化させる必要のない場
合には、設定器２１は設けなくてもよい。
内圧の基準値を設定できるように構成したが、焼結室１
５の内圧の基準値が常に一定で変化させる必要のない場
合には、設定器２１は設けなくてもよい。
また上記実施例においては、排気箱２４を設けて焼結室
１５への不純物の侵入をより確実に防止できるようにし
ているが、この排気箱２４は必ずしも設Ｇノる必要はな
い。
１５への不純物の侵入をより確実に防止できるようにし
ているが、この排気箱２４は必ずしも設Ｇノる必要はな
い。
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば、焼結室の内圧を圧
力検出器で検出してそれに応じて制御装置により流量調
節弁を制御することにより第２の排気室に供給する不活
性ガスの流量を制御しているので、焼結室の内圧を常に
一定に保つことができる。しかも不活性ガス供給流路か
ら第２の排気室を介して第１の排気室に不活性ガスを供
給しているので、第１の排気室の排気ガスは不活性ガス
により排気流路側へ押出され、第１の排気室には不活性
ガスが充満しているので、たとえ焼結室の内圧が変動し
て焼結室に第１の排気室からガスが逆流しても、焼結室
に空気或は金属イオン等の不純物が侵入することは全く
ない。特に、排気室を第１の排気室と第２の排気室との
２段構造としているので、焼結室と大気との間の遮断は
完璧であり、焼結室に空気が侵入するのを確実に阻止で
きる。以上のことから、焼結室の内圧の変動に起因する
脱水ガラス化工程における脱水効果の変動や屈折率調整
用のドーパントの飛散量の変動がな（、非常に優れた特
性の光ファイバを得ることのできる光フアイバ母材を安
定して製造できる。
力検出器で検出してそれに応じて制御装置により流量調
節弁を制御することにより第２の排気室に供給する不活
性ガスの流量を制御しているので、焼結室の内圧を常に
一定に保つことができる。しかも不活性ガス供給流路か
ら第２の排気室を介して第１の排気室に不活性ガスを供
給しているので、第１の排気室の排気ガスは不活性ガス
により排気流路側へ押出され、第１の排気室には不活性
ガスが充満しているので、たとえ焼結室の内圧が変動し
て焼結室に第１の排気室からガスが逆流しても、焼結室
に空気或は金属イオン等の不純物が侵入することは全く
ない。特に、排気室を第１の排気室と第２の排気室との
２段構造としているので、焼結室と大気との間の遮断は
完璧であり、焼結室に空気が侵入するのを確実に阻止で
きる。以上のことから、焼結室の内圧の変動に起因する
脱水ガラス化工程における脱水効果の変動や屈折率調整
用のドーパントの飛散量の変動がな（、非常に優れた特
性の光ファイバを得ることのできる光フアイバ母材を安
定して製造できる。
第１図は本発明の一実施例における光フアイバ母材製造
装置の概略構成図、第２図は従来の光フアイバ母材製造
５Ａ置の概略構成図である。 １・・・炉心管、３・・・種棒、５・・・第１の排気筒
体、６・・・第２の排気筒体、９・・・第１の蓋体、１
０・・・第２の蓋体、１１・・・第３の蓋体、１２〜１
４・・・透孔、１５・・・焼結室、１６・・・第１の排
気室、１７・・・第２の排気室、１９・・・圧力検出器
、２ｏ・・・制御装置、２２・・・不活性ガス供給流路
、２３・・・流量調節弁、２７・・・排気流路、２８・
・・排気処理装置特許出願人 三菱電線工業株式会社 １ ＋ ） 代理人 弁理士 大食忠孝、−・７′。 、Ｌ、・、、、、；ｉ 小１ｒシ１ １５ ・・・玩粕工
装置の概略構成図、第２図は従来の光フアイバ母材製造
５Ａ置の概略構成図である。 １・・・炉心管、３・・・種棒、５・・・第１の排気筒
体、６・・・第２の排気筒体、９・・・第１の蓋体、１
０・・・第２の蓋体、１１・・・第３の蓋体、１２〜１
４・・・透孔、１５・・・焼結室、１６・・・第１の排
気室、１７・・・第２の排気室、１９・・・圧力検出器
、２ｏ・・・制御装置、２２・・・不活性ガス供給流路
、２３・・・流量調節弁、２７・・・排気流路、２８・
・・排気処理装置特許出願人 三菱電線工業株式会社 １ ＋ ） 代理人 弁理士 大食忠孝、−・７′。 、Ｌ、・、、、、；ｉ 小１ｒシ１ １５ ・・・玩粕工
Claims (1)
- 焼結炉の焼結室を形成する炉心管の上側に配置されて第
１の排気室を形成する第１の排気筒体と、この第１の排
気筒体の上側に配置されて第２の排気室を形成する第２
の排気筒体と、種棒が貫通する透孔を有し且つ前記焼結
室と第１の排気室とを区画する第１の蓋体と、前記種棒
が貫通する透孔を有し且つ前記第１の排気室と第２の排
気室とを区画する第２の蓋体と、前記種棒が貫通する透
孔を有し且つ前記第２の排気室と外部とを区画する第３
の蓋体と、前記第２の排気室に不活性ガスを供給する不
活性ガス供給流路と、この不活性ガス供給流路に配置さ
れた流量調節弁と、前記焼結室の圧力を検出する圧力検
出器と、この圧力検出器からの信号により前記焼結室の
圧力に応じて前記流量調節弁を制御する制御装置と、前
記第１の排気室と排気処理装置とを連通させる排気流路
とを設け、前記焼結室の圧力が増加したときには前記第
２の排気室に供給する不活性ガスの量を減少させ、前記
焼結室の圧力が減少したときには前記第２の排気室に供
給する不活性ガスの量を増加させる構成としたことを特
徴とする光ファイバ母材製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30605886A JPS63159232A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 光フアイバ母材製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30605886A JPS63159232A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 光フアイバ母材製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63159232A true JPS63159232A (ja) | 1988-07-02 |
Family
ID=17952540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30605886A Pending JPS63159232A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 光フアイバ母材製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63159232A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0251436A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-21 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の脱水焼結炉 |
| EP1717212A1 (en) * | 2005-04-29 | 2006-11-02 | The Boc Group, Inc. | Process for consolidating a glass optical fibre preform |
| CN104098255A (zh) * | 2013-04-10 | 2014-10-15 | 信越化学工业株式会社 | 烧结装置 |
| EP2805928A1 (en) * | 2013-05-21 | 2014-11-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and apparatus for sintering a glass preform for an optical fiber |
| WO2025028455A1 (ja) * | 2023-07-28 | 2025-02-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス母材の製造装置およびガラス母材の製造方法 |
-
1986
- 1986-12-22 JP JP30605886A patent/JPS63159232A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0251436A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-21 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の脱水焼結炉 |
| EP1717212A1 (en) * | 2005-04-29 | 2006-11-02 | The Boc Group, Inc. | Process for consolidating a glass optical fibre preform |
| CN104098255A (zh) * | 2013-04-10 | 2014-10-15 | 信越化学工业株式会社 | 烧结装置 |
| EP2789590A1 (en) * | 2013-04-10 | 2014-10-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sintering apparatus |
| JP2014201513A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-27 | 信越化学工業株式会社 | 焼結装置 |
| EP2805928A1 (en) * | 2013-05-21 | 2014-11-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and apparatus for sintering a glass preform for an optical fiber |
| US9422185B2 (en) | 2013-05-21 | 2016-08-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus for sintering a glass preform for an optical fiber and sintering method thereof |
| WO2025028455A1 (ja) * | 2023-07-28 | 2025-02-06 | 住友電気工業株式会社 | ガラス母材の製造装置およびガラス母材の製造方法 |
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