JPS63159231A - 光フアイバ母材製造装置 - Google Patents
光フアイバ母材製造装置Info
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- JPS63159231A JPS63159231A JP30605786A JP30605786A JPS63159231A JP S63159231 A JPS63159231 A JP S63159231A JP 30605786 A JP30605786 A JP 30605786A JP 30605786 A JP30605786 A JP 30605786A JP S63159231 A JPS63159231 A JP S63159231A
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- inert gas
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Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 62
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 8
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 8
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 1
- 230000029058 respiratory gaseous exchange Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光フアイバ母材スートを脱水ガラス化して光
フアイバ母材を得る光フアイバ母材製造装置に関するも
のである。
フアイバ母材を得る光フアイバ母材製造装置に関するも
のである。
（従来技術とその問題点）
光ファイバの母材を製造する方法として、５ｉ０２に屈
折率調整用のドーパントとしてのＧｅＯ□を分布させた
多孔質ガラス微粒体からなる光フアイバ母材スートを、
焼結炉で焼結して脱水ガラス化する方法がある。
折率調整用のドーパントとしてのＧｅＯ□を分布させた
多孔質ガラス微粒体からなる光フアイバ母材スートを、
焼結炉で焼結して脱水ガラス化する方法がある。
この様な方法により光ファイバｆ！１′材を製造するに
は、従来第２図に示すように、光フアイバ母材スート５
０を先端部に形成した石英ガラスからなる種棒５１を先
端側から焼結炉の炉心管５２に挿入し、炉心管５２の下
端からＨｅガスと脱水剤としての０１２ガスとを供給し
、種棒５１を回転させながら徐々に下降させ、ヒータ５
３により加熱することにより光フアイバ母材スート５０
を脱水ガラス化して光フアイバ母材５４を得ていた。そ
して炉心管５２内のＨｅ及びＣ１２ガスは、排気筒体５
５に接続された排気流路５６を介して排気処理装置によ
り吸引していた。なお炉心管５２の内部と排気筒体５５
の内部とは蓋体５７により区画され、排気筒体５５の内
部と大気との間は蓋体５８により区画されており、蓋体
５７及び蓋体５８には種棒５１が貫通する透孔が穿設さ
れている。
は、従来第２図に示すように、光フアイバ母材スート５
０を先端部に形成した石英ガラスからなる種棒５１を先
端側から焼結炉の炉心管５２に挿入し、炉心管５２の下
端からＨｅガスと脱水剤としての０１２ガスとを供給し
、種棒５１を回転させながら徐々に下降させ、ヒータ５
３により加熱することにより光フアイバ母材スート５０
を脱水ガラス化して光フアイバ母材５４を得ていた。そ
して炉心管５２内のＨｅ及びＣ１２ガスは、排気筒体５
５に接続された排気流路５６を介して排気処理装置によ
り吸引していた。なお炉心管５２の内部と排気筒体５５
の内部とは蓋体５７により区画され、排気筒体５５の内
部と大気との間は蓋体５８により区画されており、蓋体
５７及び蓋体５８には種棒５１が貫通する透孔が穿設さ
れている。
また排気流路５６には手動パルプ５９が設置されている
。
。
しかし、炉心管５２の内圧は、排気側吸引圧の変動や、
種棒５１のゆがみや径の不均一に起因する種棒５１と蓋
体５７との間隙の変化や、炉心管５２内部の温度変化に
よる排気ガス実体積の変動答により変動する。
種棒５１のゆがみや径の不均一に起因する種棒５１と蓋
体５７との間隙の変化や、炉心管５２内部の温度変化に
よる排気ガス実体積の変動答により変動する。
このように炉心１ｆｔ５２の内圧が変化すれば、光フア
イバ母材スート５０の脱水ガラス化工程中に脱水効果が
変動し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの
長手方向の損失特性が低下する。
イバ母材スート５０の脱水ガラス化工程中に脱水効果が
変動し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの
長手方向の損失特性が低下する。
また脱水ガラス化工程中に屈折率調整用のドーパントと
してのＧｅＯ２の一部が塩化反応により飛散して所望の
屈折率になるのであるが、炉心管５２の内圧変動により
この反応速度即ち飛散量が変化し、その結果、光フアイ
バ母材５４の屈折率差や屈折率分布形状が長手方向に変
化し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの伝
送特性が低下する。また炉心管５２の内圧と類シールガ
ス圧との差が±２０１１１１８２０以上の状態で運転す
ると、長時間の脱水ガラス化工程中に炉心管５２が変形
し、破壊に至る。またたとえば排気負圧変動が激しい場
合は、ガス流の脈動現象が起こり、蓋体５７の透孔部で
吸排交番（息つき）し、炉心管５２内に排気が逆流して
、外部から空気や金属イオン等の不純物が侵入する危険
性がある。
してのＧｅＯ２の一部が塩化反応により飛散して所望の
屈折率になるのであるが、炉心管５２の内圧変動により
この反応速度即ち飛散量が変化し、その結果、光フアイ
バ母材５４の屈折率差や屈折率分布形状が長手方向に変
化し、光フアイバ母材５４から得られる光ファイバの伝
送特性が低下する。また炉心管５２の内圧と類シールガ
ス圧との差が±２０１１１１８２０以上の状態で運転す
ると、長時間の脱水ガラス化工程中に炉心管５２が変形
し、破壊に至る。またたとえば排気負圧変動が激しい場
合は、ガス流の脈動現象が起こり、蓋体５７の透孔部で
吸排交番（息つき）し、炉心管５２内に排気が逆流して
、外部から空気や金属イオン等の不純物が侵入する危険
性がある。
しかしながら従来の光フアイバ母材製造装置では、手動
バルブ５９の開度を調整して排気ガスの総量を変えるこ
とにより炉心管５２の内圧を調整し、安定化していたの
で、排気側の吸引圧の変動等に対応することができず、
炉心管５２の内圧を一定にプることができないという問
題があった。
バルブ５９の開度を調整して排気ガスの総量を変えるこ
とにより炉心管５２の内圧を調整し、安定化していたの
で、排気側の吸引圧の変動等に対応することができず、
炉心管５２の内圧を一定にプることができないという問
題があった。
（問題点を解決するための手段）
上記問題点を解決するため、本発明の光フアイバ母材製
造装置は、焼結炉の焼結室を形成する炉心管の上側に連
結されて排気室を形成する排気筒体と、種棒が貫通ずる
透孔を有し且つ前記焼結室と排気室とを区画する第１の
蓋体と、前記種棒が貫通する透孔を有し且つ前記排気室
と外部とを区画する第２の蓋体と、前記排気室に不活性
ガスを供給する不活性ガス供給流路と、この不活性ガス
供給流路に配置された流量調節弁と、前記焼結室の圧力
を検出する圧力検出器と、この圧力検出器からの信号に
より前記焼結室の圧力に応じて前記流Ｒ調節弁をｌ１ｌ
ｔｌｌする制御装置と、前記排気室と排気処理装置とを
連通させる排気流路とを設け、前記焼結室の圧力が増加
したときには前記排気室に供給する不活性ガスの損を減
少させ、前記焼結室の圧力が減少したときには前記排気
室に供給する不活性ガスの量を増加させる構成としたも
のである。
造装置は、焼結炉の焼結室を形成する炉心管の上側に連
結されて排気室を形成する排気筒体と、種棒が貫通ずる
透孔を有し且つ前記焼結室と排気室とを区画する第１の
蓋体と、前記種棒が貫通する透孔を有し且つ前記排気室
と外部とを区画する第２の蓋体と、前記排気室に不活性
ガスを供給する不活性ガス供給流路と、この不活性ガス
供給流路に配置された流量調節弁と、前記焼結室の圧力
を検出する圧力検出器と、この圧力検出器からの信号に
より前記焼結室の圧力に応じて前記流Ｒ調節弁をｌ１ｌ
ｔｌｌする制御装置と、前記排気室と排気処理装置とを
連通させる排気流路とを設け、前記焼結室の圧力が増加
したときには前記排気室に供給する不活性ガスの損を減
少させ、前記焼結室の圧力が減少したときには前記排気
室に供給する不活性ガスの量を増加させる構成としたも
のである。
（作用）
焼結室に供給されたガスは、第１の蓋体と種棒との間隙
から排気室に至り、排気処理装置により排気流路を通っ
て吸引排気される。そして焼結室の圧力は圧力検出器に
より検出され、制御装置は圧力検出器からの信号に応じ
て流ｉｎ、ｉ１節弁を制御して、焼結室の圧力が増加し
たときには排気室に供給する不活性ガスの量を減少させ
、焼結室の圧力が減少したときには排気室に供給する不
活性ガスの社を増加させて、炉心管の内圧を一定に保つ
。
から排気室に至り、排気処理装置により排気流路を通っ
て吸引排気される。そして焼結室の圧力は圧力検出器に
より検出され、制御装置は圧力検出器からの信号に応じ
て流ｉｎ、ｉ１節弁を制御して、焼結室の圧力が増加し
たときには排気室に供給する不活性ガスの量を減少させ
、焼結室の圧力が減少したときには排気室に供給する不
活性ガスの社を増加させて、炉心管の内圧を一定に保つ
。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を第１図〜第 図に基づいて説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例における光ファイバＢｌ材製
造Ｖ４１の概略構成図で、１は焼結炉の炉心管であり、
この炉心１１には、下端からト１ｅガスと脱水剤として
のＣ１２ガスとが供給され、また先端に光フアイバ母材
スート２が形成された種棒３の先端部が上側から挿入さ
れている。また前記炉心管１は、中間部適所の外側にカ
ーボンヒータ等のヒータ４が設置されており、上側に例
えば石英ガラス等からなる排気筒体５が連結されている
。
造Ｖ４１の概略構成図で、１は焼結炉の炉心管であり、
この炉心１１には、下端からト１ｅガスと脱水剤として
のＣ１２ガスとが供給され、また先端に光フアイバ母材
スート２が形成された種棒３の先端部が上側から挿入さ
れている。また前記炉心管１は、中間部適所の外側にカ
ーボンヒータ等のヒータ４が設置されており、上側に例
えば石英ガラス等からなる排気筒体５が連結されている
。
この排気筒体５は管状のガス排出部６及び不活性ガス導
入部７を側面に有しており、下端７ランジ部には第１の
蓋体８が、上端フランジ部には第２の蓋体９がそれぞれ
載置されている。これら第１の蓋体８及び第２の蓋体９
は、周方向２つ割りの円板状で、中心部に前記種棒３が
貫通する透孔１０或は透孔１１を有している。前記第１
の蓋体８は前記炉心管１により形成される焼結室１２と
前記排気筒体５により形成される排気室１３とを区画し
ており、前記第２の蓋体９は前記排気室１３と大気とを
区画している。前記焼結室１２は、一端が閉塞された管
路１４に連通しており、この管路１４には指示計器付の
圧力検出器１５が設置されている。この圧力検出器１５
は制御装置１６に接続されており、圧力検出器１５と制
御装＠１６との接続点には設定器１７が接続されている
。前記不活性ガス専大部７は不活性ガス供給流路１８を
介して図外の不活性ガス供給装置に接続されており、不
活性ガス供給流路１８には前記制御装置１６により制？
ＩＢされる流量：Ｊ４Ｗ１弁１９が設置されている。前
記ガス排出部６は先端部が排気箱２０に貴人しており、
この排気箱２０は不活性ガス流入部２１と排気ガス流出
部２２とを有している。
入部７を側面に有しており、下端７ランジ部には第１の
蓋体８が、上端フランジ部には第２の蓋体９がそれぞれ
載置されている。これら第１の蓋体８及び第２の蓋体９
は、周方向２つ割りの円板状で、中心部に前記種棒３が
貫通する透孔１０或は透孔１１を有している。前記第１
の蓋体８は前記炉心管１により形成される焼結室１２と
前記排気筒体５により形成される排気室１３とを区画し
ており、前記第２の蓋体９は前記排気室１３と大気とを
区画している。前記焼結室１２は、一端が閉塞された管
路１４に連通しており、この管路１４には指示計器付の
圧力検出器１５が設置されている。この圧力検出器１５
は制御装置１６に接続されており、圧力検出器１５と制
御装＠１６との接続点には設定器１７が接続されている
。前記不活性ガス専大部７は不活性ガス供給流路１８を
介して図外の不活性ガス供給装置に接続されており、不
活性ガス供給流路１８には前記制御装置１６により制？
ＩＢされる流量：Ｊ４Ｗ１弁１９が設置されている。前
記ガス排出部６は先端部が排気箱２０に貴人しており、
この排気箱２０は不活性ガス流入部２１と排気ガス流出
部２２とを有している。
前記不活性ガス流入部２１は図外の管路を介して前記不
活性ガス供給装置に接続されており、前記排気ガス流出
部２２は排気流路２３を介して排気処理Ｑ置２４に接続
されている。なお２５は光フフイバ母材スート２が脱水
ガラス化されてできた光フアイバ母材である。
活性ガス供給装置に接続されており、前記排気ガス流出
部２２は排気流路２３を介して排気処理Ｑ置２４に接続
されている。なお２５は光フフイバ母材スート２が脱水
ガラス化されてできた光フアイバ母材である。
次に作用を説明する。まず第１の蓋体８及び第２の蓋体
９を取外しておき、先端部に光フアイバ母材スート２を
形成した種棒３を先端側を下向きにして図外のチャック
装置に装着する。そして光フフイバ母材スート２部分が
焼結室１２の上端部に位置するように種棒３を下降させ
、第１の蓋体８を排気筒体５の下端フランジ部に載置し
、第２の蓋体９を排気筒体５の上端７ランジ部に載ｉす
る。この状態で焼結室１２にＨｅガス及び脱水剤として
の０１２ガスを供給し、ヒータ４で焼結室１２を加熱し
て、種棒３を軸芯回りに回転させながら徐々に下降させ
ると、光フアイバ母材スート２が先端側から徐々に脱水
ガラス化されて体積が減少し、光フアイバ母材２５にな
る。このとき、焼結室１２に供給されたガスは、種棒３
と第１の蓋体８との間隙から排気室１３に流入し、ガス
排出部６を通って排気される。そして、焼結室１２の内
圧が圧力検出器１５により検出され、圧力検出器１５の
信号が制御装Ｅ１６に供給されて、それにより制御装置
１６は流過調節弁１９を制御する。即ち、焼結室１２の
内圧が設定器１７で設定した設定値よりも大きい場合、
制御装置１６は流量調節弁１９を絞って排気室１３への
Ｈｅ或はＡｒ等或はこれらを混合した不活性ガスの流入
量を減少させ、逆に焼結室１２の内圧が設定器１７で設
定した設定値よりも小さい場合、制御装置１６は流量調
節弁１９を更に開放して排気室１３への不活性ガスの流
入量を増加させる。これにより排気室１３の内圧が制御
され、焼結室１２から種棒３と第１の蓋体８との間隙を
通って排気室１３に流入する排気ガスの流はが変化して
、焼結室１２の内圧が一定に保たれる。一方、ガス排出
部６から排気箱２０の内部に°流入した排気ガスと不活
性ガスとの混合排気ガスは、不活性ガス流入部２１から
供給されるＨ Ｇ或はＡｒ等或はこれらの混合ガスから
なる不活性ガスとともに排気ガス流出部２２から吸引排
気される。
９を取外しておき、先端部に光フアイバ母材スート２を
形成した種棒３を先端側を下向きにして図外のチャック
装置に装着する。そして光フフイバ母材スート２部分が
焼結室１２の上端部に位置するように種棒３を下降させ
、第１の蓋体８を排気筒体５の下端フランジ部に載置し
、第２の蓋体９を排気筒体５の上端７ランジ部に載ｉす
る。この状態で焼結室１２にＨｅガス及び脱水剤として
の０１２ガスを供給し、ヒータ４で焼結室１２を加熱し
て、種棒３を軸芯回りに回転させながら徐々に下降させ
ると、光フアイバ母材スート２が先端側から徐々に脱水
ガラス化されて体積が減少し、光フアイバ母材２５にな
る。このとき、焼結室１２に供給されたガスは、種棒３
と第１の蓋体８との間隙から排気室１３に流入し、ガス
排出部６を通って排気される。そして、焼結室１２の内
圧が圧力検出器１５により検出され、圧力検出器１５の
信号が制御装Ｅ１６に供給されて、それにより制御装置
１６は流過調節弁１９を制御する。即ち、焼結室１２の
内圧が設定器１７で設定した設定値よりも大きい場合、
制御装置１６は流量調節弁１９を絞って排気室１３への
Ｈｅ或はＡｒ等或はこれらを混合した不活性ガスの流入
量を減少させ、逆に焼結室１２の内圧が設定器１７で設
定した設定値よりも小さい場合、制御装置１６は流量調
節弁１９を更に開放して排気室１３への不活性ガスの流
入量を増加させる。これにより排気室１３の内圧が制御
され、焼結室１２から種棒３と第１の蓋体８との間隙を
通って排気室１３に流入する排気ガスの流はが変化して
、焼結室１２の内圧が一定に保たれる。一方、ガス排出
部６から排気箱２０の内部に°流入した排気ガスと不活
性ガスとの混合排気ガスは、不活性ガス流入部２１から
供給されるＨ Ｇ或はＡｒ等或はこれらの混合ガスから
なる不活性ガスとともに排気ガス流出部２２から吸引排
気される。
このように、焼結室１２の内圧を検出してそれに応じて
排気室１３に供給する不活性ガスの流量を制御している
ので、焼結室１２の内圧を常に一定に保つことができる
。しかも排気室１３に不活性ガスを供給しているので、
排気室１３の排気ガスは不活性ガスによりガス排出部６
から排気箱２０側へ押出され、排気室１３には不活性ガ
スが充満しているので、たとえ焼結室１２の内圧が変動
して焼結室１２に排気室１３からガスが逆流しても、焼
結室１２に空気或は金属イオン等の不純物が侵入するこ
とばはとんとない。しかも本実施例では排気箱２０を設
け、この内部にも不活性ガス流入部２１から不活性ガス
を供給しているので、排気室１３及び排気箱２０の内部
には不活性ガスが充満しており、焼結室１２への不純物
の侵入をより確実に防止できる。この排気箱２０は、排
気流路２３を構成する管路内の金属イオン等の不純物が
焼結室１２に侵入するのを防止するのに特に有効である
。 ″ 上記実施例の装置を用いて、焼結室１２にＨｅ及びＣ１
２ガスを毎分１０リツトル供給し、排気１１３にＨｅガ
スを毎分１０リツトル供給し、不活性ガス流入部２１を
閉塞して、焼結室１２の内圧の±Ｏ−２ｓ Ｈ２０の変
化に対して排気室１３に供給するＨｅガスの供給量を毎
分±５リットルの割合で変化させるように制御したとこ
ろ、焼結室１２の内圧は、−１，２ａ＊Ｈ２０±０．２
ｓｗ Ｈ２０の範囲で完全に安定した。
排気室１３に供給する不活性ガスの流量を制御している
ので、焼結室１２の内圧を常に一定に保つことができる
。しかも排気室１３に不活性ガスを供給しているので、
排気室１３の排気ガスは不活性ガスによりガス排出部６
から排気箱２０側へ押出され、排気室１３には不活性ガ
スが充満しているので、たとえ焼結室１２の内圧が変動
して焼結室１２に排気室１３からガスが逆流しても、焼
結室１２に空気或は金属イオン等の不純物が侵入するこ
とばはとんとない。しかも本実施例では排気箱２０を設
け、この内部にも不活性ガス流入部２１から不活性ガス
を供給しているので、排気室１３及び排気箱２０の内部
には不活性ガスが充満しており、焼結室１２への不純物
の侵入をより確実に防止できる。この排気箱２０は、排
気流路２３を構成する管路内の金属イオン等の不純物が
焼結室１２に侵入するのを防止するのに特に有効である
。 ″ 上記実施例の装置を用いて、焼結室１２にＨｅ及びＣ１
２ガスを毎分１０リツトル供給し、排気１１３にＨｅガ
スを毎分１０リツトル供給し、不活性ガス流入部２１を
閉塞して、焼結室１２の内圧の±Ｏ−２ｓ Ｈ２０の変
化に対して排気室１３に供給するＨｅガスの供給量を毎
分±５リットルの割合で変化させるように制御したとこ
ろ、焼結室１２の内圧は、−１，２ａ＊Ｈ２０±０．２
ｓｗ Ｈ２０の範囲で完全に安定した。
また、焼結室１２にＨｅ及びＣ１゜ガスを毎分１０リツ
トル供給し、排気室１３に）ｌｅガスを毎分２０リツト
ル供給し、不活性ガス流入部２１を閉塞して、焼結室１
２の内圧の±０．２ｔｘｔｘ Ｈ２０の変化に対して排
気室１３に供給するＨｅガスの供給量を毎分±５リット
ルの割合で変化させるように制御したところ、焼結室１
２の内圧は、＋０．４ａｓ＋Ｈｏ±０．２ｍｓ Ｈ２０
の範囲で完全に安定した。
トル供給し、排気室１３に）ｌｅガスを毎分２０リツト
ル供給し、不活性ガス流入部２１を閉塞して、焼結室１
２の内圧の±０．２ｔｘｔｘ Ｈ２０の変化に対して排
気室１３に供給するＨｅガスの供給量を毎分±５リット
ルの割合で変化させるように制御したところ、焼結室１
２の内圧は、＋０．４ａｓ＋Ｈｏ±０．２ｍｓ Ｈ２０
の範囲で完全に安定した。
また、焼結室１２にＨｅ及びＣ１□ガスを毎分１０リツ
トル供給し、排気室１３にＨｅガスを毎分２０リツトル
供給し、不活性ガス流入部２１から排気箱２０内に不活
性ガスを毎分１０リツトル供給して、焼結室１２の内圧
の±０．２ａ＊Ｈ２０の変化に対して排気室１３に供給
する１−１８ガスの供給量を毎分±５リットルの割合で
変化させるように制御したところ、焼結室１２の内圧は
、＋１．５ｓｍＨｏ±０．２ａ＊ Ｈ２０の範囲で完全
に安定した。
トル供給し、排気室１３にＨｅガスを毎分２０リツトル
供給し、不活性ガス流入部２１から排気箱２０内に不活
性ガスを毎分１０リツトル供給して、焼結室１２の内圧
の±０．２ａ＊Ｈ２０の変化に対して排気室１３に供給
する１−１８ガスの供給量を毎分±５リットルの割合で
変化させるように制御したところ、焼結室１２の内圧は
、＋１．５ｓｍＨｏ±０．２ａ＊ Ｈ２０の範囲で完全
に安定した。
（別の実施例）
上記実施例においては、設定器１７により焼結室１２の
内圧の基準値を設定できるように構成したが、焼結室１
２の内圧の基準値が常に一定で変化させる必要のない場
合には、設定器１７は設けなくてもよい。
内圧の基準値を設定できるように構成したが、焼結室１
２の内圧の基準値が常に一定で変化させる必要のない場
合には、設定器１７は設けなくてもよい。
また上記実施例においては、排気箱２０を設けて焼結室
１２への不純物の侵入を確実に防止できるようにしてい
るが、この排気１ｉ２０は必ずしも設ける必要はない。
１２への不純物の侵入を確実に防止できるようにしてい
るが、この排気１ｉ２０は必ずしも設ける必要はない。
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば、焼結室の内圧を圧
力検出器で検出してそれに応じて制御装置により流量調
節弁を制御することにより排気室に供給する不活性ガス
の流量を制御しているので、焼結室の内圧を常に一定に
保つことができる。しかも不活性ガス供給流路を介して
排気室に不活性ガスを供給しているので、排気室の排気
ガスは不活性ガスにより排気流路側へ押出され、排気室
には不活性ガスが充満しているので、たとえ焼結室の内
圧が変動して焼結室に排気室からガスが逆流しても、焼
結室に空気或は金属イオン等の不純物が侵入することは
ほとんどない。以上のことから、焼結室の内圧の変動に
起因する脱水ガラス化工程における脱水効果の変動や屈
折率調整用のドーパントの飛散量の変動がなく、非常に
優れた特性の光ファイバを得ることのできる光フアイバ
母材を安定して製造できる。
力検出器で検出してそれに応じて制御装置により流量調
節弁を制御することにより排気室に供給する不活性ガス
の流量を制御しているので、焼結室の内圧を常に一定に
保つことができる。しかも不活性ガス供給流路を介して
排気室に不活性ガスを供給しているので、排気室の排気
ガスは不活性ガスにより排気流路側へ押出され、排気室
には不活性ガスが充満しているので、たとえ焼結室の内
圧が変動して焼結室に排気室からガスが逆流しても、焼
結室に空気或は金属イオン等の不純物が侵入することは
ほとんどない。以上のことから、焼結室の内圧の変動に
起因する脱水ガラス化工程における脱水効果の変動や屈
折率調整用のドーパントの飛散量の変動がなく、非常に
優れた特性の光ファイバを得ることのできる光フアイバ
母材を安定して製造できる。
第１図は本発明の一実施例における光フアイバ母材製造
装置の概略構成図、第２図は従来の光フアイバ母材製造
装置の概略構成図である。 １・・・炉心管、３・・・種棒、５・・・排気筒体、８
・・・第１の蓋体、９・・・第２の蓋体、１０．１１・
・・透孔、１２・・・焼結室、１３・・・排気室、１５
・・・圧力検出器、１６・・・制御装置、１８・・・不
活性ガス供給流路、１９・・・流量調節弁、２３・・・
排気流路、２４・・・排気処理装置 特許出願人 三菱電線工業株式会社 ｌＩＪ・ ；１ 代理人 弁理士 大食忠孝 シ、テ、、１１ｏ・−・ノ
２゛ 第１図 牛 ｅ ７・・・炉心Ｖｔ Ｃ／、 １３
・・・祷気！３・・・種棒 ７
５・・・圧力検出器５・−ｎＦ気＋ｔｒ＋ｓ
７６・−８Ｆ１１１１ｉｉ１８・・・第７
の蓋体 ７８・・・不活性ゲ
ス４Ａ船弓１路９・・・第２の量体
７９・・・流量１１節弁１０．１１・・・通孔
２３・・・排気ｉ路７２・・焼！４”ｌ
２４・・・↑奔気処理装置ｌｚ
装置の概略構成図、第２図は従来の光フアイバ母材製造
装置の概略構成図である。 １・・・炉心管、３・・・種棒、５・・・排気筒体、８
・・・第１の蓋体、９・・・第２の蓋体、１０．１１・
・・透孔、１２・・・焼結室、１３・・・排気室、１５
・・・圧力検出器、１６・・・制御装置、１８・・・不
活性ガス供給流路、１９・・・流量調節弁、２３・・・
排気流路、２４・・・排気処理装置 特許出願人 三菱電線工業株式会社 ｌＩＪ・ ；１ 代理人 弁理士 大食忠孝 シ、テ、、１１ｏ・−・ノ
２゛ 第１図 牛 ｅ ７・・・炉心Ｖｔ Ｃ／、 １３
・・・祷気！３・・・種棒 ７
５・・・圧力検出器５・−ｎＦ気＋ｔｒ＋ｓ
７６・−８Ｆ１１１１ｉｉ１８・・・第７
の蓋体 ７８・・・不活性ゲ
ス４Ａ船弓１路９・・・第２の量体
７９・・・流量１１節弁１０．１１・・・通孔
２３・・・排気ｉ路７２・・焼！４”ｌ
２４・・・↑奔気処理装置ｌｚ
Claims (1)
- 焼結炉の焼結室を形成する炉心管の上側に連結されて排
気室を形成する排気筒体と、種棒が貫通する透孔を有し
且つ前記焼結室と排気室とを区画する第１の蓋体と、前
記種棒が貫通する透孔を有し且つ前記排気室と外部とを
区画する第２の蓋体と、前記排気室に不活性ガスを供給
する不活性ガス供給流路と、この不活性ガス供給流路に
配置された流量調節弁と、前記焼結室の圧力を検出する
圧力検出器と、この圧力検出器からの信号により前記焼
結室の圧力に応じて前記流量調節弁を制御する制御装置
と、前記排気室と排気処理装置とを連通させる排気流路
とを設け、前記焼結室の圧力が増加したときには前記排
気室に供給する不活性ガスの量を減少させ、前記焼結室
の圧力が減少したときには前記排気室に供給する不活性
ガスの量を増加させる構成としたことを特徴とする光フ
ァイバ母材製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30605786A JPS63159231A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 光フアイバ母材製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30605786A JPS63159231A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 光フアイバ母材製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63159231A true JPS63159231A (ja) | 1988-07-02 |
Family
ID=17952527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30605786A Pending JPS63159231A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 光フアイバ母材製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63159231A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000264650A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-26 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | エキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法および縦型加熱炉 |
-
1986
- 1986-12-22 JP JP30605786A patent/JPS63159231A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000264650A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-26 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | エキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法および縦型加熱炉 |
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