JPS63159809A - カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタの製造方法Info
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- JPS63159809A JPS63159809A JP61309543A JP30954386A JPS63159809A JP S63159809 A JPS63159809 A JP S63159809A JP 61309543 A JP61309543 A JP 61309543A JP 30954386 A JP30954386 A JP 30954386A JP S63159809 A JPS63159809 A JP S63159809A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は固体撮像素子や液晶表示素子などに用いられ
るカラーフィルタの製造方法に関するものである。
るカラーフィルタの製造方法に関するものである。
［従来の技術］
従来カラーフィルタの製造方法として、固体撮像素子や
ガラスなどの基板にゼラチンなどの被染色樹脂上にフォ
トレジストで防染マスクを形成後、染料で上記被染色樹
脂を部分的に染め分ける方法が知られている（特公昭５
３−２４８、特開昭５７−１３９７１２）。
ガラスなどの基板にゼラチンなどの被染色樹脂上にフォ
トレジストで防染マスクを形成後、染料で上記被染色樹
脂を部分的に染め分ける方法が知られている（特公昭５
３−２４８、特開昭５７−１３９７１２）。
［発明が解決しようとする問題点コ
上述の従来方法においては、ゼラチンなどの被染色樹脂
上に直接フォトレジストを塗布するため、被染色樹脂と
フォトレジストの密着が悪かったり、あるいは両材料が
たがいに影響しあって、フォトレジストが本来もってい
る解像度（数μｍ）とは程遠い１００μｍ程度の解像度
の悪いパターンしかできなかった。しかもレジストベー
ク温度や露光量のわずかの工程条件のばらつきやレジス
ト塗布後の放置時間などによってバターニングの具合が
影響されやすく、少留りも低かった。
上に直接フォトレジストを塗布するため、被染色樹脂と
フォトレジストの密着が悪かったり、あるいは両材料が
たがいに影響しあって、フォトレジストが本来もってい
る解像度（数μｍ）とは程遠い１００μｍ程度の解像度
の悪いパターンしかできなかった。しかもレジストベー
ク温度や露光量のわずかの工程条件のばらつきやレジス
ト塗布後の放置時間などによってバターニングの具合が
影響されやすく、少留りも低かった。
［問題点を解決するための手段］
この発明は上記従来技術の欠点を解決するためのもので
、基板の上に被染色樹脂層と、フォトレジストとの隔離
層とを形成し、この隔離層の上にフォトレジストによる
マスクパターンを形成し、隔離層をエツチングして窓開
けし、被染色樹脂層を選択的に染色するようにしたもの
である。
、基板の上に被染色樹脂層と、フォトレジストとの隔離
層とを形成し、この隔離層の上にフォトレジストによる
マスクパターンを形成し、隔離層をエツチングして窓開
けし、被染色樹脂層を選択的に染色するようにしたもの
である。
［実施例］
第１図においてガラスなどの基板１の上にゼラチンなど
の被染色樹脂層２をスピンコードにより１μｍ程度の厚
さに設け、その上にこの被染色樹脂の溶剤に対して安定
であり、がつエツチングができる材料で隔離層３をスパ
ッタにより０．１μｍ程の厚さに設ける。この隔離層３
の材料としては具体的にはクロムＣｒ、アルミニュウム
Ａ１などの金属のほか酸化イツトリウムＹＯ，酸化イン
ジウムＩ ｎ ２０ ａなどの透明材料でもよい。
の被染色樹脂層２をスピンコードにより１μｍ程度の厚
さに設け、その上にこの被染色樹脂の溶剤に対して安定
であり、がつエツチングができる材料で隔離層３をスパ
ッタにより０．１μｍ程の厚さに設ける。この隔離層３
の材料としては具体的にはクロムＣｒ、アルミニュウム
Ａ１などの金属のほか酸化イツトリウムＹＯ，酸化イン
ジウムＩ ｎ ２０ ａなどの透明材料でもよい。
固体撮像索子上にカラーフィルタを形成する場合のよう
に基板上のパターンとカラーフィルタの位置を合わす必
要がある場合は酸化イツトリウムのような透明な隔離層
のほうが好ましい。
に基板上のパターンとカラーフィルタの位置を合わす必
要がある場合は酸化イツトリウムのような透明な隔離層
のほうが好ましい。
つぎに隔離層３の上にポジ型フォトレジスト４をスピン
コードにより１μｍ程度設ける。そしてフォトマスク５
を用いて露光する。（第２図）。
コードにより１μｍ程度設ける。そしてフォトマスク５
を用いて露光する。（第２図）。
上記レジスト４を現像する（第３図）。
窓開けした部分の隔離層３をエツチングにより、除去し
、その部分の被染色樹脂Ｆｒ！Ｉ２を所定の色、たとえ
ば赤色に染色して赤色染色部Ｒを設ける（第４図）。
、その部分の被染色樹脂Ｆｒ！Ｉ２を所定の色、たとえ
ば赤色に染色して赤色染色部Ｒを設ける（第４図）。
再びポジ型レジスト４を塗布してマスク５をずらして露
光する（第５図）。
光する（第５図）。
そしてこれを現像する（第６図）。
露出した隔離層３の部分をエツチングにより除去した後
、被染色樹脂層２を２色目の色、たとえば緑色に染色し
て緑色染色部Ｇを設ける（第７図）再びその上にポジ型
フォトレジスト４を塗布して、フォトマスク５をずらし
て露光する（第８図）。 レジスト４を現像して、隔離
層３をエツチングして、窓開けした部分の被染色樹脂層
２を３番目の色、たとえば青色に染色して青色染色部Ｂ
を設ける（第９図）。
、被染色樹脂層２を２色目の色、たとえば緑色に染色し
て緑色染色部Ｇを設ける（第７図）再びその上にポジ型
フォトレジスト４を塗布して、フォトマスク５をずらし
て露光する（第８図）。 レジスト４を現像して、隔離
層３をエツチングして、窓開けした部分の被染色樹脂層
２を３番目の色、たとえば青色に染色して青色染色部Ｂ
を設ける（第９図）。
最後にフォトレジスト４を剥離して、その上にポリアミ
ド、ポリイミドなどの透明保護膜６をコートシた（第１
０図）。
ド、ポリイミドなどの透明保護膜６をコートシた（第１
０図）。
上記実施例では１色目を染色後、ポジ型フォトレジスト
４をあらためて塗布しているが、染色後、タンニン酸お
よび酒石酸アン、チモニュムカリウム水溶液などにより
防染処理をすることにより、フォトレジストを新たに塗
布しないで１回目に塗布したレジストに２色目、３色目
のための露光、現像をして２色目、３色目を染めるよう
にしてもよい。
４をあらためて塗布しているが、染色後、タンニン酸お
よび酒石酸アン、チモニュムカリウム水溶液などにより
防染処理をすることにより、フォトレジストを新たに塗
布しないで１回目に塗布したレジストに２色目、３色目
のための露光、現像をして２色目、３色目を染めるよう
にしてもよい。
また上記隔離層３をクロムＣｒ、アルミニュウムＡ１な
どの遮光性膜で形成することにより、いわゆるブラック
ストライプを従来のように別工程で製造しなくてもカラ
ーフィルタの製造と同時に形成できる。すなわち、第１
０図において各染色部Ｒ，Ｇ、Ｂの間の隔離層３の部分
はブラックストライプとして機能させることができる。
どの遮光性膜で形成することにより、いわゆるブラック
ストライプを従来のように別工程で製造しなくてもカラ
ーフィルタの製造と同時に形成できる。すなわち、第１
０図において各染色部Ｒ，Ｇ、Ｂの間の隔離層３の部分
はブラックストライプとして機能させることができる。
［発明の効果］
この発明によるカラーフィルタの製造方法によれば、フ
ォトレジストの解像度を有効に生がせるので、微細パタ
ーンが精度よく、高歩留で製造できる。また、隔離層を
遮光性材料とすることにより、カラーフィルタの製造と
同時にブラックス！・ライブを形成することができるの
で、ブラックストライプ用のフォトマスクが不要となり
、安価に製造することができる。
ォトレジストの解像度を有効に生がせるので、微細パタ
ーンが精度よく、高歩留で製造できる。また、隔離層を
遮光性材料とすることにより、カラーフィルタの製造と
同時にブラックス！・ライブを形成することができるの
で、ブラックストライプ用のフォトマスクが不要となり
、安価に製造することができる。
図面はこの発明の実施例を示し、第１図〜第１０図は製
造工程順に示す断面説明図である。 １・争・基板 ２・・・被染色樹脂層 ３・・・隔離層 ４・・φフォトレジスト Ｒ・・・赤色染色部 Ｇ・・・緑色染色部 Ｂ・・・青色染色部 以上
造工程順に示す断面説明図である。 １・争・基板 ２・・・被染色樹脂層 ３・・・隔離層 ４・・φフォトレジスト Ｒ・・・赤色染色部 Ｇ・・・緑色染色部 Ｂ・・・青色染色部 以上
Claims (3)
- （１）基板上に被染色樹脂層と、その上に上記被染色樹
脂層をフォトレジストと隔離する隔離層を設け、ついで
上記隔離層の上にフォトレジストによりマスクパターン
を形成し、露出した部分の隔離層をエッチングにより除
去した後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染色して染
色部を形成するカラーフィルタの製造方法 - （２）基板上に被染色樹脂層と、その上に上記被染色樹
脂層をフォトレジストと隔離する隔離層を設け、ついで
上記隔離層の上にフォトレジストによりマスクパターン
を形成し、露出した部分の隔離層をエッチングにより除
去した後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染色して染
色部を形成し、上記フォトレジストによるマスクパター
ンの形成から染色部の形成までの工程を繰返して複数の
異なる色の染色部をパターン形成することを特徴とする
カラーフィルタの製造方法。 - （３）上記隔離層を遮光性材料とし、上記染色部を所定
の間隔をおいてパターン形成し、エッチングされずに残
った隔離層によりブラックストライプを形成した特許請
求の範囲第２項のカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30954386A JPH0713681B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30954386A JPH0713681B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6091439A Division JPH0798406A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63159809A true JPS63159809A (ja) | 1988-07-02 |
| JPH0713681B2 JPH0713681B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=17994282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30954386A Expired - Lifetime JPH0713681B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713681B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61285402A (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-16 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | カラ−フイルタ−およびその製造方法 |
-
1986
- 1986-12-24 JP JP30954386A patent/JPH0713681B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61285402A (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-16 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | カラ−フイルタ−およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0713681B2 (ja) | 1995-02-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |