JPS62131202A - カラ−フイルタの形成方法 - Google Patents
カラ−フイルタの形成方法Info
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- JPS62131202A JPS62131202A JP60271861A JP27186185A JPS62131202A JP S62131202 A JPS62131202 A JP S62131202A JP 60271861 A JP60271861 A JP 60271861A JP 27186185 A JP27186185 A JP 27186185A JP S62131202 A JPS62131202 A JP S62131202A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラーフィルタの形成方法に関するものであ
る。
る。
従来の技術
従来のカラーフィルタの形成方法は、例えば特公昭５２
−１７３７６号公報に記載されるような形成方法が広く
採用されている。
−１７３７６号公報に記載されるような形成方法が広く
採用されている。
以下に、図面を参照しながら従来のカラーフィルタの形
成方法について説明する。第２図は従来のカラーフィル
タの形成方法を段階的に示すものである。
成方法について説明する。第２図は従来のカラーフィル
タの形成方法を段階的に示すものである。
パイレックスガラス等の透明基板１上にカゼイン、ゼラ
チン等に重クロム酸アンモニウムを添７ＪＦ］し感光性
をもたせたネガ型染色性感光、夜を均一に塗布し、乾燥
させて感光性を有する染色性有機１１り２を形成する。
チン等に重クロム酸アンモニウムを添７ＪＦ］し感光性
をもたせたネガ型染色性感光、夜を均一に塗布し、乾燥
させて感光性を有する染色性有機１１り２を形成する。
次に、染色に必要な部分だけを露光できるよう酸化クロ
ム膜による黒部３を配したフォトマスク４を介して図示
矢印Ｌ１のように感光性を有する染色性有機膜２を選択
露光する。（第２図−ａ） 次に、選択露光を施した染色性有機膜２を現像。
ム膜による黒部３を配したフォトマスク４を介して図示
矢印Ｌ１のように感光性を有する染色性有機膜２を選択
露光する。（第２図−ａ） 次に、選択露光を施した染色性有機膜２を現像。
リンス、乾燥させて成膜する。その後、必要とする分光
特性を有する酸性染料でもって染色を施１〜、染色パタ
ーン５を形成する。その上面に、無色透明で非染色性で
あり感光性を有した樹脂、たとえば感光性アクリル系樹
脂を均一に塗布し、乾燥させ、無色透明で感光性を有す
る非染色性閘脂膜６を形成する。そののち、フォトマス
ク７を介して染色パターンを必要とする範囲もしくは全
面を図示矢印Ｌ２のように露光を行なう。（第２図−ｂ
）次に、露光を施した非染色性樹脂膜６を現像。
特性を有する酸性染料でもって染色を施１〜、染色パタ
ーン５を形成する。その上面に、無色透明で非染色性で
あり感光性を有した樹脂、たとえば感光性アクリル系樹
脂を均一に塗布し、乾燥させ、無色透明で感光性を有す
る非染色性閘脂膜６を形成する。そののち、フォトマス
ク７を介して染色パターンを必要とする範囲もしくは全
面を図示矢印Ｌ２のように露光を行なう。（第２図−ｂ
）次に、露光を施した非染色性樹脂膜６を現像。
リンス、乾燥させて第２色目染色時にすでに染色された
第１色目染色パターンが新たに染色されないように中間
膜８とする。その上面に前記と同様のネガ型染色性感光
液を均一に塗布し、乾燥させて感光性を有する染色性有
機膜９を形成する。そののち、第２色目の染色パターン
の形成に必要な部分だけを露光できるよう酸化クロム膜
による黒部１０を配したフォトマスク１１を介して図示
矢印Ｌ３のように感光性を有する染色性有機膜９を選択
露光する。（第２図−〇） 次に、選択露光の施した第２色目の染色性有機膜９を現
像、リンス、乾燥させて成膜する。そののち、第２色目
に必要とする分光特性を有する酸性染料でもって染色を
施し、染色パターン１２を形成する。（第２図−ｄ） 以下、同様に中間膜形成工程、染色パターン形成工程を
必要な色数分だけ繰り返して、カラーフィルタを形成す
る。
第１色目染色パターンが新たに染色されないように中間
膜８とする。その上面に前記と同様のネガ型染色性感光
液を均一に塗布し、乾燥させて感光性を有する染色性有
機膜９を形成する。そののち、第２色目の染色パターン
の形成に必要な部分だけを露光できるよう酸化クロム膜
による黒部１０を配したフォトマスク１１を介して図示
矢印Ｌ３のように感光性を有する染色性有機膜９を選択
露光する。（第２図−〇） 次に、選択露光の施した第２色目の染色性有機膜９を現
像、リンス、乾燥させて成膜する。そののち、第２色目
に必要とする分光特性を有する酸性染料でもって染色を
施し、染色パターン１２を形成する。（第２図−ｄ） 以下、同様に中間膜形成工程、染色パターン形成工程を
必要な色数分だけ繰り返して、カラーフィルタを形成す
る。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記のような構成では、図２−ｄに例示
したような斜め光１３が入射することがあり、カラーフ
ィルタを通した光とこの斜め光が混じることがある。こ
の原因は、透明基板と染色パターンとの間に中間膜が存
在するからで、この影響は、色数が増え、特に上層の染
色パターンで大きくなる。したがって、この斜め光の入
射を防ぐことが重要々課題となっていた。
したような斜め光１３が入射することがあり、カラーフ
ィルタを通した光とこの斜め光が混じることがある。こ
の原因は、透明基板と染色パターンとの間に中間膜が存
在するからで、この影響は、色数が増え、特に上層の染
色パターンで大きくなる。したがって、この斜め光の入
射を防ぐことが重要々課題となっていた。
本発明はこれらの欠点を解決するためになされたもので
、課題であった斜め光の入射を減少させ実用に足るカラ
ーフィルタの形成方法を提供するものである。
、課題であった斜め光の入射を減少させ実用に足るカラ
ーフィルタの形成方法を提供するものである。
間厘点を解決するための手段
本発明のカラーフィルタの形成方法は、既染色部をポジ
型レジストでマスクし、かつ次に染色すべき染色性有機
膜形成部の上記レジストを除去した上で、ネガ型染色性
感光液を塗布し、染色性有機膜形成部の上記レジスト除
去部のみ選択露光し、現像、染色を施こすことより構成
されている。
型レジストでマスクし、かつ次に染色すべき染色性有機
膜形成部の上記レジストを除去した上で、ネガ型染色性
感光液を塗布し、染色性有機膜形成部の上記レジスト除
去部のみ選択露光し、現像、染色を施こすことより構成
されている。
作用
この構成において、既染色部は、その後の染色工程によ
って染色されることなく、まだ、全ての染色パターンが
同一平面上に形成することができる。
って染色されることなく、まだ、全ての染色パターンが
同一平面上に形成することができる。
実施例
以下に、本発明の一実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第１図は、本発明の一実施例のカラーフィルタの形成方
法を段階的に示すものである。
法を段階的に示すものである。
パイレックスガラス等の透明基板１０ｏ上にカゼイン、
ゼラチン等に重クロム酸アンモニウムを添加し感光性を
もたせたネガ型染色性感光液を均一に塗布、乾燥させ感
光性を有する染色性有機膜１０１を形成する。次に、染
色に必要な部分だけを露光できるよう酸化クロム膜によ
る黒部１０２を配したフォトマスク１０３を介して図示
矢印β１のように感光性を有する染色性有機膜１０１を
選択露光する。（第１図−ａ） 次に、選択露光を施した染色性有機膜１０１を現像、リ
ンス、乾燥させて成膜する。その後、必要とする分光特
性を有する酸性染料でもって染色を施し、染色パターン
１０４を形成する。形成後、その上面にポジ型レジスト
を均一に塗布し、乾燥させポジ型レジスト膜１０５を形
成する。次に、第２色目の染色パターン形成に必要な部
分だけを露光できるよう酸化クロム膜による黒部１０６
を配したフォトマスク１０７を介して図示矢印７！２の
ようにポジ型レジスト膜１０５を選択露光する。
ゼラチン等に重クロム酸アンモニウムを添加し感光性を
もたせたネガ型染色性感光液を均一に塗布、乾燥させ感
光性を有する染色性有機膜１０１を形成する。次に、染
色に必要な部分だけを露光できるよう酸化クロム膜によ
る黒部１０２を配したフォトマスク１０３を介して図示
矢印β１のように感光性を有する染色性有機膜１０１を
選択露光する。（第１図−ａ） 次に、選択露光を施した染色性有機膜１０１を現像、リ
ンス、乾燥させて成膜する。その後、必要とする分光特
性を有する酸性染料でもって染色を施し、染色パターン
１０４を形成する。形成後、その上面にポジ型レジスト
を均一に塗布し、乾燥させポジ型レジスト膜１０５を形
成する。次に、第２色目の染色パターン形成に必要な部
分だけを露光できるよう酸化クロム膜による黒部１０６
を配したフォトマスク１０７を介して図示矢印７！２の
ようにポジ型レジスト膜１０５を選択露光する。
（第１図−ｂ）
選択露光を施したポジ型レジスト膜１０５を現像、リン
スし、第２色目の染色パターン形成部のポジ型レジスト
膜を除去する。その上面に前記と同様のネガ型染色性感
光液を均一に塗布し、乾燥させ感光性を有する染色性有
機膜１Ｏａを形成する。次に、先に用いた第２色目の染
色パターン形成に必要な部分だけを露光できるよう酸化
クロム膜による黒部１０６を配したフォトマスク１０７
を介して図示矢印β３のように感光性を有する染色性打
機膜１０８を選択露光すＳ。（第１図−〇）次に、選択
露光を施した染色性有機膜１０８を現像、リンス、乾燥
させて成膜する。その後、第２色目に必要とする分光特
性を有する酸性染料でもって染色を施し、染色パターン
１０９を形成する。（第１図−ｄ） 以下、同様に、ポジ型レジスト膜形成工程、染色パター
ン形成工程を必要な色数分だけ繰返し、最後に、ポジ型
レジストは、全面露光し、現像。
スし、第２色目の染色パターン形成部のポジ型レジスト
膜を除去する。その上面に前記と同様のネガ型染色性感
光液を均一に塗布し、乾燥させ感光性を有する染色性有
機膜１Ｏａを形成する。次に、先に用いた第２色目の染
色パターン形成に必要な部分だけを露光できるよう酸化
クロム膜による黒部１０６を配したフォトマスク１０７
を介して図示矢印β３のように感光性を有する染色性打
機膜１０８を選択露光すＳ。（第１図−〇）次に、選択
露光を施した染色性有機膜１０８を現像、リンス、乾燥
させて成膜する。その後、第２色目に必要とする分光特
性を有する酸性染料でもって染色を施し、染色パターン
１０９を形成する。（第１図−ｄ） 以下、同様に、ポジ型レジスト膜形成工程、染色パター
ン形成工程を必要な色数分だけ繰返し、最後に、ポジ型
レジストは、全面露光し、現像。
リンスを施すことにより容易に除去することができる。
なお、本実施例では、パイレックスガラス等の透明基板
を用いたが、固体撮像素子を基板として用いてもさしつ
かえない。
を用いたが、固体撮像素子を基板として用いてもさしつ
かえない。
発明の効果
以上のように、本発明は、中間膜を省くことができ、各
染色パターンが同一平面上にあることから斜め光の入射
による影響を抑えることができる。
染色パターンが同一平面上にあることから斜め光の入射
による影響を抑えることができる。
このように本発明は、カラーフィルタの形成方法に匈え
る効果は犬なるものがある。
る効果は犬なるものがある。
第１図は本発明の一実施例のカラーフィルタの形成方法
を段階的に示した断面図、第２図は従来のカラーフィル
タの形成方法を段階的に示しだ断面図である。 １００・・・・・・パイレックスガラス等の透明基板、
１０１．１０８・・・・感光性を有する染色性有機膜、
１０２ 、１０６−＝−・黒部、１０３ 、１ ｏ７−
印７オトマスク、１０４．１０９・・・・・・染色パタ
ーン、１０５・・・・・・ポジ型しンスト膜。
を段階的に示した断面図、第２図は従来のカラーフィル
タの形成方法を段階的に示しだ断面図である。 １００・・・・・・パイレックスガラス等の透明基板、
１０１．１０８・・・・感光性を有する染色性有機膜、
１０２ 、１０６−＝−・黒部、１０３ 、１ ｏ７−
印７オトマスク、１０４．１０９・・・・・・染色パタ
ーン、１０５・・・・・・ポジ型しンスト膜。
Claims (1)
- 第１の染色部をポジ型レジストで選択的にマスクする工
程と、全面にネガ型染色性感光液を塗布して、染色性有
機膜を形成する工程と、前記染色性有機膜の前記第１の
染色部と異なる所定の領域を選択露光し、現像、染色を
施して第２の染色部を形成する工程とを含むことを特徴
とするカラーフィルタの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60271861A JPS62131202A (ja) | 1985-12-03 | 1985-12-03 | カラ−フイルタの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60271861A JPS62131202A (ja) | 1985-12-03 | 1985-12-03 | カラ−フイルタの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62131202A true JPS62131202A (ja) | 1987-06-13 |
Family
ID=17505911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60271861A Pending JPS62131202A (ja) | 1985-12-03 | 1985-12-03 | カラ−フイルタの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62131202A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004214665A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Hynix Semiconductor Inc | Ｃｍｏｓイメージセンサの製造方法 |
-
1985
- 1985-12-03 JP JP60271861A patent/JPS62131202A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004214665A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Hynix Semiconductor Inc | Ｃｍｏｓイメージセンサの製造方法 |
| JP2012044211A (ja) * | 2002-12-27 | 2012-03-01 | Intellectual Venturesii Llc | Ｃｍｏｓイメージセンサの製造方法 |
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