JPS63161005A - ポリマ− - Google Patents
ポリマ−Info
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- JPS63161005A JPS63161005A JP61308017A JP30801786A JPS63161005A JP S63161005 A JPS63161005 A JP S63161005A JP 61308017 A JP61308017 A JP 61308017A JP 30801786 A JP30801786 A JP 30801786A JP S63161005 A JPS63161005 A JP S63161005A
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- polymer
- mmol
- acid
- formula
- reaction
- Prior art date
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133365—Cells in which the active layer comprises a liquid crystalline polymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なポリマーに関するものである。
さらに詳しくいえば、本発明はオプトエレクトロニクス
分野、特に電卓、時計などの表示素子、電子光学シャ・
ツタ−1電子光学絞り、光変調器、光通信光路切換スイ
ッチ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変
レンズなどの種々の電子光学デバイスとして有用な、常
温付近でも強誘電性を示す上に、外的因子に対する応答
速度が速くて動画表示が可能であり、かつ大画面や屈曲
画面の表示素子として有利に使用しうるポリマーに関す
るものである。
分野、特に電卓、時計などの表示素子、電子光学シャ・
ツタ−1電子光学絞り、光変調器、光通信光路切換スイ
ッチ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変
レンズなどの種々の電子光学デバイスとして有用な、常
温付近でも強誘電性を示す上に、外的因子に対する応答
速度が速くて動画表示が可能であり、かつ大画面や屈曲
画面の表示素子として有利に使用しうるポリマーに関す
るものである。
従来、低分子液晶を用いた表示素子は電卓、時計などの
デジタル表示に広く使用されている。これらの利用分野
では、通常、従来の低分子液晶は間隔をミクロンオーダ
ーで制御した2枚のガラス基板の間にはさんで使用され
ている。しかしながら、このような間隙の調整は大型画
面および曲面画面では実現が不可能であった。この難点
を解決する1つの手段として、液晶を高分子化し、それ
自体を成形可能ならしめることが試みられている(J、
Polym、Sci、Polym、Lett、、Ed、
13,243 (1975)、Polym、 Bul
1. 、309.6 (1982) 、特開昭55−2
1479号公報など)。
デジタル表示に広く使用されている。これらの利用分野
では、通常、従来の低分子液晶は間隔をミクロンオーダ
ーで制御した2枚のガラス基板の間にはさんで使用され
ている。しかしながら、このような間隙の調整は大型画
面および曲面画面では実現が不可能であった。この難点
を解決する1つの手段として、液晶を高分子化し、それ
自体を成形可能ならしめることが試みられている(J、
Polym、Sci、Polym、Lett、、Ed、
13,243 (1975)、Polym、 Bul
1. 、309.6 (1982) 、特開昭55−2
1479号公報など)。
しかしながら、これらの液晶ポリマーにおいては、電界
など外的因子の変化に対するその透過光量変化等の応答
速度が一般に遅く、未だ満足しうるちのは得られていな
い。
など外的因子の変化に対するその透過光量変化等の応答
速度が一般に遅く、未だ満足しうるちのは得られていな
い。
また、前記公開公報に示されている液晶ポリマーは、ポ
リマー自体は室温では液晶としての性質を示さず、ガラ
ス転移温度以上で透明化温度未満の温度範囲で加熱して
液晶化しなければならないという欠点を有している。
リマー自体は室温では液晶としての性質を示さず、ガラ
ス転移温度以上で透明化温度未満の温度範囲で加熱して
液晶化しなければならないという欠点を有している。
本発明は、常温付近でも強誘電性を示す上に、外的因子
に対する応答が速く動画表示が可能であり、かつ大画面
、屈曲画面の表示素子として有利に使用できる液晶性を
有するポリマーを提供しようとするものである。
に対する応答が速く動画表示が可能であり、かつ大画面
、屈曲画面の表示素子として有利に使用できる液晶性を
有するポリマーを提供しようとするものである。
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有
するポリエチレン型ポリマーが常温付近で強誘電性を示
すことを見い出し、本発明を完成するに至った。
するポリエチレン型ポリマーが常温付近で強誘電性を示
すことを見い出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記一般式からなる繰り返し単位
を有するポリマーを提供するものである。
を有するポリマーを提供するものである。
−(CH2Cl−+−
C00米CHth;−Coo −R。
(式中、kは1〜30の整数であり、
あり
R2は−COOR3、−0Rz、または−R3であり、
l−13 6は −fcHz+−rCH→CHz←C1l zであ
り、mは0〜5の整数であり、 nは1〜5の整数である。) 本発明のポリマーの数平均分子量は、好ましくは3,0
00〜400,000、さらに好ましくは5,000〜
400.000である。3,000未満であると該ポリ
マーのフィルム、塗膜としての成形性に支障を生じる場
合があり、一方、4oo、oooを越えると応答速度が
遅いなどの好ましくない効果の現れることがある。そし
て、数平均分子量の特に好ましい範囲はR,の種類、k
の値、R3の光学純度などに依存するので一概に規定で
きないが、5,000から200,000である。
l−13 6は −fcHz+−rCH→CHz←C1l zであ
り、mは0〜5の整数であり、 nは1〜5の整数である。) 本発明のポリマーの数平均分子量は、好ましくは3,0
00〜400,000、さらに好ましくは5,000〜
400.000である。3,000未満であると該ポリ
マーのフィルム、塗膜としての成形性に支障を生じる場
合があり、一方、4oo、oooを越えると応答速度が
遅いなどの好ましくない効果の現れることがある。そし
て、数平均分子量の特に好ましい範囲はR,の種類、k
の値、R3の光学純度などに依存するので一概に規定で
きないが、5,000から200,000である。
以下に、本発明のポリマーの一般的な合成方法を示す。
本発明のポリマーは、下記一般式
%式%
(ここで、k、R+、Rz、R3、m、およびnは先に
規定したと同じ意味を有する。) で示される七ツマ−を公知の方法で重合することにより
得ることができる。
規定したと同じ意味を有する。) で示される七ツマ−を公知の方法で重合することにより
得ることができる。
これらの七ツマ−は例えば次にようにして得ることがで
きる。
きる。
(I) (n)
CH2−CHCOCl + 80(CHz)i+c
Oo)I(V) CHz=CHCOO(CHz)mcOOH−−C1,・
CHCOO(CHz)IlcOcl (VI)(VI
) (IV)上記反応式で示
されるように、4−ヒドロキシ安息香酸とカーボベンゾ
キシクロリドとを水酸化ナトリウムの存在下で、水等の
適当な溶媒中で反応させることにより、4−ヒドロキシ
安息香酸の水酸基をカーボベンゾキシル基で保護する。
Oo)I(V) CHz=CHCOO(CHz)mcOOH−−C1,・
CHCOO(CHz)IlcOcl (VI)(VI
) (IV)上記反応式で示
されるように、4−ヒドロキシ安息香酸とカーボベンゾ
キシクロリドとを水酸化ナトリウムの存在下で、水等の
適当な溶媒中で反応させることにより、4−ヒドロキシ
安息香酸の水酸基をカーボベンゾキシル基で保護する。
得られる4−カーボベンゾキシオキシ安息香酸と五塩化
リン等のハロゲン化剤とをエーテル等の適当な溶媒中で
反応させ、酸ハライド(1)を得る。この酸ハライド(
1)とヒドロキシ体(II)とをトリエチルアミン等の
脱ハロゲン化水素剤の存在下、THF (テトラヒドロ
フラン)等の適当な溶媒中で反応させ、エステル体(I
[r)を得る。次いでエステル体(II[)をパラジウ
ムカーボン等の触媒の存在下、水素ガス雰囲気下で酢酸
エチル等の適当な溶媒中で反応させ、保護基であるカー
ボベンゾキシル基を脱離させ、ヒドロキシエステル体(
■)を得る。
リン等のハロゲン化剤とをエーテル等の適当な溶媒中で
反応させ、酸ハライド(1)を得る。この酸ハライド(
1)とヒドロキシ体(II)とをトリエチルアミン等の
脱ハロゲン化水素剤の存在下、THF (テトラヒドロ
フラン)等の適当な溶媒中で反応させ、エステル体(I
[r)を得る。次いでエステル体(II[)をパラジウ
ムカーボン等の触媒の存在下、水素ガス雰囲気下で酢酸
エチル等の適当な溶媒中で反応させ、保護基であるカー
ボベンゾキシル基を脱離させ、ヒドロキシエステル体(
■)を得る。
アクリル酸クロライドとヒドロキシ酸(V)とをトリエ
チルアミン等の脱ハロゲン化水素剤の存在下、THF等
の適当な溶媒中で反応させ、エステル体を得る。このエ
ステル体をトルエン等の適当な溶媒中で塩化チオニル等
のハロゲン化剤の存在下に反応させ、酸ハライド(Vl
)を得る。
チルアミン等の脱ハロゲン化水素剤の存在下、THF等
の適当な溶媒中で反応させ、エステル体を得る。このエ
ステル体をトルエン等の適当な溶媒中で塩化チオニル等
のハロゲン化剤の存在下に反応させ、酸ハライド(Vl
)を得る。
先に得られたヒドロキシエステル体(TV)と上記酸ハ
ライド(Vl)とをトリエチルアミン等の存在下、TH
F等の適当な溶媒中で反応させ、目的とする七ツマ−を
得る。
ライド(Vl)とをトリエチルアミン等の存在下、TH
F等の適当な溶媒中で反応させ、目的とする七ツマ−を
得る。
ここで、上記ヒドロキシ体(If ) HO@R−は
、下記の如くして合成される。
、下記の如くして合成される。
(■) (■)
上記の反応式に示す如く、4−ヒドロキシ安息香酸と光
学活性アルコール(■)とを、ベンゼン、トルエン等の
適当な溶媒中で、濃硫酸等のエステル化触媒の存在下に
、所望の温度で反応させることにより、このヒドロキシ
エステル体(■)を得る。
学活性アルコール(■)とを、ベンゼン、トルエン等の
適当な溶媒中で、濃硫酸等のエステル化触媒の存在下に
、所望の温度で反応させることにより、このヒドロキシ
エステル体(■)を得る。
光学活性アルコール(■)としては、例えば(R)−2
−メチルブタノール、(S)−2−メチルブタノール、
(R)−2−メチルペンタノール、(S)−2−メチル
ペンタノール、(R)−3−メチルペンタノール、(S
)−3−メチルペンタノール、(R)−4−メチルヘキ
サノール、(S)−4−メチルヘキサノール、(R)−
1−メチルヘプタツール、(S)−1−メチルヘプタツ
ール、(R)−6−メチルオクタツール、(S)−6−
メチルオクタツール、L−(−) −2=ペンタノール
などが用いられ、好ましくは(S) −(−)−2−メ
チルブタノールおよびL−(−)−2−ペンタノールが
用いられる。
−メチルブタノール、(S)−2−メチルブタノール、
(R)−2−メチルペンタノール、(S)−2−メチル
ペンタノール、(R)−3−メチルペンタノール、(S
)−3−メチルペンタノール、(R)−4−メチルヘキ
サノール、(S)−4−メチルヘキサノール、(R)−
1−メチルヘプタツール、(S)−1−メチルヘプタツ
ール、(R)−6−メチルオクタツール、(S)−6−
メチルオクタツール、L−(−) −2=ペンタノール
などが用いられ、好ましくは(S) −(−)−2−メ
チルブタノールおよびL−(−)−2−ペンタノールが
用いられる。
R301(−R,Br
(■)
(IX)
上記の反応式で示されるように、前記光学活性アルコー
ル〔■〕をハロゲン化し、これに71イドロキノンを反
応させてこのヒドロキシエーテル体(IX)を得ること
ができる。
ル〔■〕をハロゲン化し、これに71イドロキノンを反
応させてこのヒドロキシエーテル体(IX)を得ること
ができる。
(X)
上記反応式で示されるように、アニソールよりこのヒド
ロキシ体(X)を得ることができる。
ロキシ体(X)を得ることができる。
本発明に用いられる上記ヒドロキシ酸(V)110 (
CH2) mcOOII としては、例えばグリコー
ル酸、3−ヒドロキシプロパン酸、4−ヒドロキシデカ
ン酸、5−ヒドロキシペンクン酸、6−ヒドロキシヘキ
サン酸、7−ヒドロキシヘプタン酸、8−ヒドロキシオ
クタン酸、9−ヒドロキシノナン酸、10−ヒドロキシ
デカン酸、11−ヒドロキシウンデカン酸、12−ヒド
ロキシドデカン酸、14−ヒドロキシテトラデカン酸、
15−ヒドロキシペンタデカン酸、16−ヒドロキシウ
ンデカン酸、20−ヒドロキシエイコサン酸等が挙げら
れる。これらのヒドロキシ酸のうち、12−ヒドロキシ
ドデカン酸および16−ヒドロキシヘキサデカン酸が特
に好ましい。
CH2) mcOOII としては、例えばグリコー
ル酸、3−ヒドロキシプロパン酸、4−ヒドロキシデカ
ン酸、5−ヒドロキシペンクン酸、6−ヒドロキシヘキ
サン酸、7−ヒドロキシヘプタン酸、8−ヒドロキシオ
クタン酸、9−ヒドロキシノナン酸、10−ヒドロキシ
デカン酸、11−ヒドロキシウンデカン酸、12−ヒド
ロキシドデカン酸、14−ヒドロキシテトラデカン酸、
15−ヒドロキシペンタデカン酸、16−ヒドロキシウ
ンデカン酸、20−ヒドロキシエイコサン酸等が挙げら
れる。これらのヒドロキシ酸のうち、12−ヒドロキシ
ドデカン酸および16−ヒドロキシヘキサデカン酸が特
に好ましい。
の合成
(1) (X I)
(Vl)
上記反応式に示されるように、(1)のR8がは同様の
反応を行うことにより、目的とする上記モノマーを得る
ことができる。
反応を行うことにより、目的とする上記モノマーを得る
ことができる。
ここで、上記ヒドロキシ体(XI)は下記の如くして得
ることができる。
ることができる。
上記のヒドロキシエステル体(■)
n o @ c o ORzの合成において、4−ヒド
ロキシ安息香酸の代わりに4′−ヒドロキシビフェニル
−4−カルボン酸を用いること以外は同様の反応を行う
ことにより、目的とするヒドロキシエステル合成におい
て、ハイドロキノンの代わりにビフェノールを用いるこ
と以外は同様の反応を行うことにより、目的とするヒド
ロキシエーテル体(X■)を得ることができる。
ロキシ安息香酸の代わりに4′−ヒドロキシビフェニル
−4−カルボン酸を用いること以外は同様の反応を行う
ことにより、目的とするヒドロキシエステル合成におい
て、ハイドロキノンの代わりにビフェノールを用いるこ
と以外は同様の反応を行うことにより、目的とするヒド
ロキシエーテル体(X■)を得ることができる。
いて、アニソールの代わりに4−メトキシビフェニルを
用いること以外は同様の反応を行うことにより、目的と
するヒドロキシ体(X rV)を得ることができる。
用いること以外は同様の反応を行うことにより、目的と
するヒドロキシ体(X rV)を得ることができる。
(3)R+が(羽GCOO@Rzであるモノマーの合成
(Vl)
上記反応式で示されるように、(1)のR1がいて、4
−ヒドロキシ安息香酸の代わりに4′−ヒドロキシビフ
ェニル−4−カルボン酸を用いること以外は同様の反応
を行うことにより、目的とするモノマーを得ることがで
きる。
−ヒドロキシ安息香酸の代わりに4′−ヒドロキシビフ
ェニル−4−カルボン酸を用いること以外は同様の反応
を行うことにより、目的とするモノマーを得ることがで
きる。
(VT) (XI)−〇!1□=
Cl1COO(CHz)kcoo(X及R2上記反応式
で示されるように、(1)のR3がを用いること以外は
同様の反応を行うことにより、目的とするモノマーを得
ることができる。
Cl1COO(CHz)kcoo(X及R2上記反応式
で示されるように、(1)のR3がを用いること以外は
同様の反応を行うことにより、目的とするモノマーを得
ることができる。
次に、このようにして得られた、一種または二種以上の
モノマーを重合して、本発明の液晶ポリマーを合成する
が、この際重合方法として公知の方法、例えば熱ラジカ
ル重合、開始剤を用いるラジカル重合、紫外線や放射線
を用いるラジカル重合、ブチルリチウムなどを開始剤と
するアニオン重合などを採用することができる。
モノマーを重合して、本発明の液晶ポリマーを合成する
が、この際重合方法として公知の方法、例えば熱ラジカ
ル重合、開始剤を用いるラジカル重合、紫外線や放射線
を用いるラジカル重合、ブチルリチウムなどを開始剤と
するアニオン重合などを採用することができる。
ラジカル重合の開始剤として、各種のものが知られてい
るが、過酸化ベンゾイル、過酢酸、過酸化ラウロイル、
アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)などの中温型
開始剤が好適に用いられる。
るが、過酸化ベンゾイル、過酢酸、過酸化ラウロイル、
アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)などの中温型
開始剤が好適に用いられる。
重合方法としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重合
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよい。
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよい。
重合温度は、重合方法とくに開始剤の種類に依存し一様
ではないが、通常、30〜90℃が適当である。
ではないが、通常、30〜90℃が適当である。
重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、通
常1〜20時間である。
常1〜20時間である。
分子量の調節は、公知の分子量調節剤の添加および/ま
たはモノマーに対する開始剤の濃度の調節によって行う
ことができる。
たはモノマーに対する開始剤の濃度の調節によって行う
ことができる。
塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを十
分に混合し、その混合物を酸素の不存在下に2枚のガラ
ス等の基板の間に導入し、加熱することによって、ポリ
マーを基板間に密着した状態で直接に固定化することも
できる。
分に混合し、その混合物を酸素の不存在下に2枚のガラ
ス等の基板の間に導入し、加熱することによって、ポリ
マーを基板間に密着した状態で直接に固定化することも
できる。
スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、公
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもジクロロ
メタン、テトラヒドロフランまたはベンゼン、トルエン
、キシレンなどの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもジクロロ
メタン、テトラヒドロフランまたはベンゼン、トルエン
、キシレンなどの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。
このようにして得られたポリマーは、公知の成膜法、例
えばキャスティング法、Tダイ法、インフレーション法
、カレンダー法、延伸法などによってフィルムに成形し
て用いることができる。フィルム状のポリマーは、2枚
の通常のガラス基板はもとより、大型のガラス基板、曲
面状のガラス基板、ポリエステルフィルムなどの間には
さんで液晶ディスプレー、電子光学シャッター、電子光
学絞りなどの種々のオプトエレクトロニクスの分野に利
用することができる。また、適当な溶媒に溶解したポリ
マー溶液をガラス基板などの基板面に塗布し、溶媒を蒸
発させることによって、直接基板面上に密着した状態で
フィルム化することもできる。
えばキャスティング法、Tダイ法、インフレーション法
、カレンダー法、延伸法などによってフィルムに成形し
て用いることができる。フィルム状のポリマーは、2枚
の通常のガラス基板はもとより、大型のガラス基板、曲
面状のガラス基板、ポリエステルフィルムなどの間には
さんで液晶ディスプレー、電子光学シャッター、電子光
学絞りなどの種々のオプトエレクトロニクスの分野に利
用することができる。また、適当な溶媒に溶解したポリ
マー溶液をガラス基板などの基板面に塗布し、溶媒を蒸
発させることによって、直接基板面上に密着した状態で
フィルム化することもできる。
本発明のポリマーは、その転移温度の測定からカイラル
スメクチックC相液晶状態が、常温付近を含む広い温度
領域で実現することが確認された。
スメクチックC相液晶状態が、常温付近を含む広い温度
領域で実現することが確認された。
また常温付近における応答時間も0.04〜0.06秒
と速いことが確認された。
と速いことが確認された。
本発明のポリマーにおいては、スメクチック相液晶の性
質と、成形容易であるという典型的なポリマーの性質と
が結合しているので、インテグレーテンドオプティクス
、オプトエレクトロニクス、情報記憶の分野に数多くの
応用可能性がある。例えば、種々の形状のディジタル表
示ディスプレイなどの液晶ディスプレイ、電子光学シャ
ッター、光通信用光路切換スイッチなどの電子光学スイ
ッチ、電子光学絞り、メモリー素子、光変調器、液晶光
プリンターヘッド、焦点距離可変レンズなどの種々の電
子光学デバイスとして使用することができる。
質と、成形容易であるという典型的なポリマーの性質と
が結合しているので、インテグレーテンドオプティクス
、オプトエレクトロニクス、情報記憶の分野に数多くの
応用可能性がある。例えば、種々の形状のディジタル表
示ディスプレイなどの液晶ディスプレイ、電子光学シャ
ッター、光通信用光路切換スイッチなどの電子光学スイ
ッチ、電子光学絞り、メモリー素子、光変調器、液晶光
プリンターヘッド、焦点距離可変レンズなどの種々の電
子光学デバイスとして使用することができる。
なお、必要に応じて、前記ポリマー同志の混合、他のポ
リマーとの混合、安定剤、可塑剤などを含めた種々の無
機、有機および金属類等の添加物の添加など、当業界に
おいてよく知られている数多くの処理方法により、改善
することができる。
リマーとの混合、安定剤、可塑剤などを含めた種々の無
機、有機および金属類等の添加物の添加など、当業界に
おいてよく知られている数多くの処理方法により、改善
することができる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の範囲
はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。
はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、得られたポリマーの構造は、NMR1■R3元素
分析により確認し、また相転移温度の測定および相のl
+1!認は、それぞれDSCおよび偏光顕微鏡により行
った。第1図に実施例1において得られたポリマーの’
H−N M Rスペクトルを表すチャートを、第2図
には実施例2において得られたポリマーの’H−NMR
スペクトルを表すチャートを、第3図には実施例3にお
いて得られたポリマーの’H−NMRスペクトルを表す
チャートを、第4図には実施例4において得られたポリ
マーの’H−NMRスペクトルを表すチャートを示した
。これら’H−NMRスペクトルの測定は、得られたポ
リマー30mgを溶媒4mlに溶解し、室温において6
0MHzで行った。
分析により確認し、また相転移温度の測定および相のl
+1!認は、それぞれDSCおよび偏光顕微鏡により行
った。第1図に実施例1において得られたポリマーの’
H−N M Rスペクトルを表すチャートを、第2図
には実施例2において得られたポリマーの’H−NMR
スペクトルを表すチャートを、第3図には実施例3にお
いて得られたポリマーの’H−NMRスペクトルを表す
チャートを、第4図には実施例4において得られたポリ
マーの’H−NMRスペクトルを表すチャートを示した
。これら’H−NMRスペクトルの測定は、得られたポ
リマー30mgを溶媒4mlに溶解し、室温において6
0MHzで行った。
さらに、電界応答速度は次のようにして測定した。
雪 応竺゛束庁の測
20X10mmのITO基板2枚の間にポリマーをはさ
み、スペーサーで厚さを25μmに調整し、交流電場E
=2X 106V/mをかけ、その際の透過光量の変化
(0−90%)の応答時間を測定した。
み、スペーサーで厚さを25μmに調整し、交流電場E
=2X 106V/mをかけ、その際の透過光量の変化
(0−90%)の応答時間を測定した。
相状態は次の略号を用いて示した。(Cry:結晶、I
SO二等方性液体、SmA:スメクチックA相液晶状態
、SmC“ :カイラルスメクチックC相液晶状a)。
SO二等方性液体、SmA:スメクチックA相液晶状態
、SmC“ :カイラルスメクチックC相液晶状a)。
なお、相転移挙動を示す式における数字は、相変化温度
を℃で表したものである。
を℃で表したものである。
実施例1
4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸93ミリ
モル(19,9g)および(S)−(−)−2−メチル
ブタノール4ロアミリモル(41,1g)を濃硫i12
m lの存在下、ベンゼン150m1中で25時間脱水
反応させた。反応液を濃縮後、トルエンーヘキチン混合
溶媒により再結晶し、目的とするヒドロキシエステル体
19.0 gを得た。
モル(19,9g)および(S)−(−)−2−メチル
ブタノール4ロアミリモル(41,1g)を濃硫i12
m lの存在下、ベンゼン150m1中で25時間脱水
反応させた。反応液を濃縮後、トルエンーヘキチン混合
溶媒により再結晶し、目的とするヒドロキシエステル体
19.0 gを得た。
(収率98%)
■4−カーボベンゾキシオキシ安息香酸の人4−ヒドロ
キシ安息香酸55ミリモル(7,4g)および水酸化ナ
トリウム65ミリモル(2,6g)の水200m18?
(iに、氷温下でカーボベンゾキシクロリド65ミリモ
ル(11,1g)を滴下した。反応液を24時間攪拌し
た後、沈殿物を洗浄、ろ過、乾燥し、カラムクロマトグ
ラフィーにて精製し、目的とするエステル体14.8g
を得た。
キシ安息香酸55ミリモル(7,4g)および水酸化ナ
トリウム65ミリモル(2,6g)の水200m18?
(iに、氷温下でカーボベンゾキシクロリド65ミリモ
ル(11,1g)を滴下した。反応液を24時間攪拌し
た後、沈殿物を洗浄、ろ過、乾燥し、カラムクロマトグ
ラフィーにて精製し、目的とするエステル体14.8g
を得た。
(収率99%)
■4−カーボベンゾキシ′7′−香酸クロリドの合■で
得られたエステル体27ミリモル(7,3g)および五
塩化リン27ミリモル(5,6g)のエーテル50 m
l溶液を、室温で24時間攪拌した。反応後、脱エー
テルを行い、得られた結晶をヘキサンにて再結晶し、目
的とする酸塩化物4.5gを得た。(収率57%) ■で得られた4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボ
ン酸2−メチルブチルエステル16ミリモル(14,5
g)およびトリエチルアミン16ミリモル(1,6g)
のTHF20ml溶液を氷温下で攪拌しながら、この溶
液中に■で得られた酸塩化物のTHF溶液を滴下した。
得られたエステル体27ミリモル(7,3g)および五
塩化リン27ミリモル(5,6g)のエーテル50 m
l溶液を、室温で24時間攪拌した。反応後、脱エー
テルを行い、得られた結晶をヘキサンにて再結晶し、目
的とする酸塩化物4.5gを得た。(収率57%) ■で得られた4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボ
ン酸2−メチルブチルエステル16ミリモル(14,5
g)およびトリエチルアミン16ミリモル(1,6g)
のTHF20ml溶液を氷温下で攪拌しながら、この溶
液中に■で得られた酸塩化物のTHF溶液を滴下した。
温度を徐々に室温に戻し、8時間攪拌した。反応液をエ
ーテル抽出し、抽出液を乾燥、濃縮した後、カラムクロ
マトグラフィーにて精製し、目的とするエステル体5゜
9gを得た。(収率69%) ■で得られたエステル体8ミリモル(4,3g)および
パラジウムカーボン(5%触媒)0.4gの酢酸エチル
40ml溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応させた。
ーテル抽出し、抽出液を乾燥、濃縮した後、カラムクロ
マトグラフィーにて精製し、目的とするエステル体5゜
9gを得た。(収率69%) ■で得られたエステル体8ミリモル(4,3g)および
パラジウムカーボン(5%触媒)0.4gの酢酸エチル
40ml溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応させた。
反応後、メンブランフィルタ−にてパラジウムカーボン
をろ別し、ろ液を濃縮した後カラムクロマトグラフィー
にて精製し、目的とするヒドロキシエステル体3.1g
を得た。(収率96%) ■16−アクリロイロキシヘキサデカンにのへ16−ヒ
トロキシヘキサデカン酸46ミリモル(12,5g)お
よびトリエチルアミン55ミリモル(5,6g)のTt
(F100mn溶液に、氷温下でアクリル酸クロリド5
5ミリモル(5,0g)を滴下した。温度を徐々に室温
に戻し、8時間攪拌した。反応後、反応液を濃縮し、カ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とするエステ
ル体5゜1gを得た。(収率34%) ■で得られたエステル体10ミリモル(3,3g)のト
ルエン溶液を攪拌し、塩化チオニル1.5′mlを滴下
した。温度80℃で1時間攪拌した後、脱溶媒を行い、
目的とする酸塩化物3.4gを得た。
をろ別し、ろ液を濃縮した後カラムクロマトグラフィー
にて精製し、目的とするヒドロキシエステル体3.1g
を得た。(収率96%) ■16−アクリロイロキシヘキサデカンにのへ16−ヒ
トロキシヘキサデカン酸46ミリモル(12,5g)お
よびトリエチルアミン55ミリモル(5,6g)のTt
(F100mn溶液に、氷温下でアクリル酸クロリド5
5ミリモル(5,0g)を滴下した。温度を徐々に室温
に戻し、8時間攪拌した。反応後、反応液を濃縮し、カ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とするエステ
ル体5゜1gを得た。(収率34%) ■で得られたエステル体10ミリモル(3,3g)のト
ルエン溶液を攪拌し、塩化チオニル1.5′mlを滴下
した。温度80℃で1時間攪拌した後、脱溶媒を行い、
目的とする酸塩化物3.4gを得た。
(収率99%)
■立虜
■で得られたヒドロキシエステル体8ミリモル(3,2
g>およびトリエチルアミン18ミ9モル(1,0g)
のTHF50mA溶液を氷温下で攪拌し、この溶液中に
■で得られた酸塩化物のTHF溶液を滴下した。温度を
徐々に室温に戻し、6時間攪拌した。反応後、エーテル
抽出を行い、抽出液を乾燥、tM縮した後、カラムクロ
マトグラフィーにて精製し、目的とする下記の構造を有
するモノマー5.7gを得た。(〔α〕B3=+z、t
o。
g>およびトリエチルアミン18ミ9モル(1,0g)
のTHF50mA溶液を氷温下で攪拌し、この溶液中に
■で得られた酸塩化物のTHF溶液を滴下した。温度を
徐々に室温に戻し、6時間攪拌した。反応後、エーテル
抽出を行い、抽出液を乾燥、tM縮した後、カラムクロ
マトグラフィーにて精製し、目的とする下記の構造を有
するモノマー5.7gを得た。(〔α〕B3=+z、t
o。
(CHC13)、収率56%)
CIl□=CHCOO(CHz)+ −COO@C00
(X羽− C00CH□CIICzHs 脣 ■ポリマーの合成(ラジカル重合) ガラスアンプルに■で得られたモノマー0.6g、Al
BN2.1mgおよび乾燥4 m lを入れ、凍結脱気
した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間反応さ
せた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後、高速
液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表される繰
り返し単位を有する目的とするポリマー(Mn=6.
OOO) 0.41 gを得た。(転化率68%) 〔相転移挙動〕 〔電界応答時間〕 0.05秒(93℃) 実施例2 4−ヒドロキシ安息香酸0.2モル(27,1g)およ
び(S)−(−)−2−メチルブタノール0゜3モル(
26,4g)を濃硫酸2mlの存在下、トルエン200
ml中で25時間脱水反応せしめた。
(X羽− C00CH□CIICzHs 脣 ■ポリマーの合成(ラジカル重合) ガラスアンプルに■で得られたモノマー0.6g、Al
BN2.1mgおよび乾燥4 m lを入れ、凍結脱気
した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間反応さ
せた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後、高速
液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表される繰
り返し単位を有する目的とするポリマー(Mn=6.
OOO) 0.41 gを得た。(転化率68%) 〔相転移挙動〕 〔電界応答時間〕 0.05秒(93℃) 実施例2 4−ヒドロキシ安息香酸0.2モル(27,1g)およ
び(S)−(−)−2−メチルブタノール0゜3モル(
26,4g)を濃硫酸2mlの存在下、トルエン200
ml中で25時間脱水反応せしめた。
反応液を:a縮した後、カラムクロマトグラフィーにて
精製し、目的とするヒドロキシエステル体40.4gを
得た。(収率97%) ■4−(4’−カーボベンゾキシオキシベンゾイ■で得
られた4−ヒドロキシ安息香酸2−メチルブチルエステ
ル16ミリモル(3,3g)およびトリエチルアミン1
8ミリモル(1,8g)のTHF40ml溶液を氷温下
で攪拌し、実施例1の■で得られた4−カーボベンゾキ
シオキシ安息香酸クロリド18ミリモル(5,2g)の
THF溶液を滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時
間攪拌した。反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾
燥、濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて精製し
、目的とするエステル体4.7gを得た。
精製し、目的とするヒドロキシエステル体40.4gを
得た。(収率97%) ■4−(4’−カーボベンゾキシオキシベンゾイ■で得
られた4−ヒドロキシ安息香酸2−メチルブチルエステ
ル16ミリモル(3,3g)およびトリエチルアミン1
8ミリモル(1,8g)のTHF40ml溶液を氷温下
で攪拌し、実施例1の■で得られた4−カーボベンゾキ
シオキシ安息香酸クロリド18ミリモル(5,2g)の
THF溶液を滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時
間攪拌した。反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾
燥、濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて精製し
、目的とするエステル体4.7gを得た。
(収率63%)
■で得られたエステル体10ミリモル(4,6g)およ
びパラジウムカーボン(5%触媒)0.5gの酢酸エチ
ル溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応させた。反応後
、メンブランフィルタ−にてパラジウムカーボンをろ別
し、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて
精製し、目的するヒドロキシエステル体2.1gを得た
。(収率64%) ■12−アクリロイロキシドデカン の合12−ヒドロ
キシドデカン酸46ミリモル(9゜9g)およびトリエ
チルアミン55ミリモル(5゜6g)のTHF 100
mj!溶液に、氷温下でアクリル酸クロライド55ミリ
モル(5,0g)を滴下した。温度を徐々に室温に戻し
、8時間攪拌した。
びパラジウムカーボン(5%触媒)0.5gの酢酸エチ
ル溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応させた。反応後
、メンブランフィルタ−にてパラジウムカーボンをろ別
し、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて
精製し、目的するヒドロキシエステル体2.1gを得た
。(収率64%) ■12−アクリロイロキシドデカン の合12−ヒドロ
キシドデカン酸46ミリモル(9゜9g)およびトリエ
チルアミン55ミリモル(5゜6g)のTHF 100
mj!溶液に、氷温下でアクリル酸クロライド55ミリ
モル(5,0g)を滴下した。温度を徐々に室温に戻し
、8時間攪拌した。
反応後、反応液を1縮し、カラムクロマトグラフィーに
て精製し、目的とするエステル体4.8gを得た。(収
率39%) ■で得られたエステル体10ミリモル(2,7g)のト
ルエン溶液を攪拌し、塩化チオニル1.5mgを滴下し
た。温度80℃で1時間攪拌した後、脱溶媒を行い、目
的とする酸塩化物2.9gを得た。
て精製し、目的とするエステル体4.8gを得た。(収
率39%) ■で得られたエステル体10ミリモル(2,7g)のト
ルエン溶液を攪拌し、塩化チオニル1.5mgを滴下し
た。温度80℃で1時間攪拌した後、脱溶媒を行い、目
的とする酸塩化物2.9gを得た。
(収率99%)
■4− (4’−(12−アクリロイロキシドデカ■で
得られたヒドロキシエステル体6ミリモル(2,0g)
およびトリエチルアミン8ミリモル(0,8g)のT
HF 40 m l溶液を氷温下で攪拌し、■で得られ
た酸塩化物のTHF溶液を滴下した。温度を徐々に室温
に戻し、6時間攪拌した。
得られたヒドロキシエステル体6ミリモル(2,0g)
およびトリエチルアミン8ミリモル(0,8g)のT
HF 40 m l溶液を氷温下で攪拌し、■で得られ
た酸塩化物のTHF溶液を滴下した。温度を徐々に室温
に戻し、6時間攪拌した。
反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、濃縮した
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下式の樽造
を有する目的とする七ツマ−1,5gを得た。(〔α〕
2♂=+1.58° (CHCL3)、収率42%) ■ポリマーの合成(ラジカル重合) ガラスアンプルに■で得られたモノマー0.6g、Al
BN2.1mgおよび乾燥4 m lを入れ、凍結脱気
した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間反応さ
せた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後、高速
液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表される繰
り返し単位を有する目的とするポリ? −(Mn−5,
OOO) 0.46 gを得た。(転化率77%) 〔相転移挙動〕 SmC” 〔電界応答時間〕 0.04秒(43℃) 実施例3 4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸55ミリ
モル(11,8g)および水酸化ナトリウム65ミリモ
ル(2,6g)の水800ml!溶液を氷温下で攪拌し
ながら、この溶液中にカーボベンゾキシクロリド65ミ
リモル(11,1g)を滴下した。24時間攪拌した後
、沈殿物をろ過、乾燥し、カラムクロマトグラフィーに
て精製し、目的とするエステル体17.0 gを得た。
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下式の樽造
を有する目的とする七ツマ−1,5gを得た。(〔α〕
2♂=+1.58° (CHCL3)、収率42%) ■ポリマーの合成(ラジカル重合) ガラスアンプルに■で得られたモノマー0.6g、Al
BN2.1mgおよび乾燥4 m lを入れ、凍結脱気
した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間反応さ
せた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後、高速
液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表される繰
り返し単位を有する目的とするポリ? −(Mn−5,
OOO) 0.46 gを得た。(転化率77%) 〔相転移挙動〕 SmC” 〔電界応答時間〕 0.04秒(43℃) 実施例3 4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸55ミリ
モル(11,8g)および水酸化ナトリウム65ミリモ
ル(2,6g)の水800ml!溶液を氷温下で攪拌し
ながら、この溶液中にカーボベンゾキシクロリド65ミ
リモル(11,1g)を滴下した。24時間攪拌した後
、沈殿物をろ過、乾燥し、カラムクロマトグラフィーに
て精製し、目的とするエステル体17.0 gを得た。
(収率89%)
■で得られたエステル体27ミリモル(9,9g)およ
び五塩化リン27ミリモル(5,6g)のエーテル2
Q 0mN溶液を室温で24時間攪拌した。反応後、脱
エーテルを行い、目的とする酸塩化物9.4gを得た。
び五塩化リン27ミリモル(5,6g)のエーテル2
Q 0mN溶液を室温で24時間攪拌した。反応後、脱
エーテルを行い、目的とする酸塩化物9.4gを得た。
(収率95%)
実施例2の■で得られた4−ヒドロキシ安息香酸2−メ
チルブチルエステル16ミリモル(3,3g)およびト
リエチルアミン18ミリモル(1,8g)のTHF40
ml溶液を氷温下で攪拌しながら、この溶液に■で得ら
れた酸塩化物16ミリモル(5,9g)のTHF溶液を
滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪拌した。
チルブチルエステル16ミリモル(3,3g)およびト
リエチルアミン18ミリモル(1,8g)のTHF40
ml溶液を氷温下で攪拌しながら、この溶液に■で得ら
れた酸塩化物16ミリモル(5,9g)のTHF溶液を
滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪拌した。
反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、濃縮した
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とする
エステル体5.3gを得た。(収率61%)■で得られ
たエステル体8ミリモル(4,3g)およびパラジウム
カーボン0.5g(5%触媒)の酢酸エチル39ml溶
液を水素ガス雰囲気下で4時間反応せしめた。反応後、
メンブランフィルタ−にてパラジウムカーボンをろ別し
、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて精
製し、目的とするヒドロキシエステル体2.9gを得た
。
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とする
エステル体5.3gを得た。(収率61%)■で得られ
たエステル体8ミリモル(4,3g)およびパラジウム
カーボン0.5g(5%触媒)の酢酸エチル39ml溶
液を水素ガス雰囲気下で4時間反応せしめた。反応後、
メンブランフィルタ−にてパラジウムカーボンをろ別し
、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて精
製し、目的とするヒドロキシエステル体2.9gを得た
。
(収率90%)
■で得られたヒドロキシエステル体7ミリモル<2.8
g)およびトリエチルアミン10ミリモル(1g)のT
HF40mj!溶液を氷温下で攪拌しながら、この溶液
に実施例2の■で得られた酸塩化物10ミリモル(2,
9g)のTHF溶液を滴下した。温度を徐々に室温に戻
し、8時間攪拌した。
g)およびトリエチルアミン10ミリモル(1g)のT
HF40mj!溶液を氷温下で攪拌しながら、この溶液
に実施例2の■で得られた酸塩化物10ミリモル(2,
9g)のTHF溶液を滴下した。温度を徐々に室温に戻
し、8時間攪拌した。
反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、濃縮した
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下式の構造
を有する目的とするモノマー2.9gを得た。(〔α〕
2♂=+2.20” (CHC13)、収率62%) CH。
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下式の構造
を有する目的とするモノマー2.9gを得た。(〔α〕
2♂=+2.20” (CHC13)、収率62%) CH。
−COOCHzCHCJs
井
■ポリマーの合成(ラジカル重合)
ガラスアンプルに■で得られたモノマー0.6g。
AlBN2.1mgおよび乾燥THF4mlを入れ、凍
結脱気した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間
反応させた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後
、高速液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表さ
れる繰り返し単位を有する目的とするポリマー(Mn=
6. OOO) 0.35gを得た。(転化率58%
) 〔相転移挙動〕 [電界応答時間〕 0.05秒(95℃) 実施例4 L−(−)−2−ペンタノール0.1モル(8,8g)
およびトリエチルアミン0.1モル(10,1g)のT
HF溶液を氷温下で攪拌し、この溶液中に、実施例1の
■で得られた4−カーボベンゾキシオキシ安息香酸クロ
リド0.12モル(34,9g)のTHF溶液を滴下し
た。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪拌した。反応後
、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、tlAml、、
カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とするエス
テル体6゜2gを得た。(収率18%) ■で得られたエステル体10ミリモル(3,4g)およ
びパラジウムカーボン(5%触媒)0.5gの酢酸エチ
ル40m1溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応せしめ
た。反応後、メンブランフィルタ−にてパラジウムカー
ボンをろ別し、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラ
フィーにて精製し、目的とするヒドロキシエステル体1
.8gを得た。(収率86%) ■で得られたヒドロキシエステル体8ミリモル(1,7
g)およびトリエチルアミン10ミリモル(1,0g)
のTHF溶液を氷温下で攪拌し、この溶液に実施例3の
■で得られた酸塩化物10ミリモル(3,7g)のTH
F溶液を滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪
拌した。反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、
濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目
的とするエステル体2.2gを得た。(収率52%)■
4−(4〃−ヒドロキシビフェニル−4′−カルボニル
オキシ)安息香酸1−メチルブチルエステルの合成 ■で得られたエステル体4ミリモル(2,2g)および
パラジウムカーボン(5%触媒)0.2gの酢酸エチル
39mj!溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応せしめ
た。反応後、メジプランフィルターにてパラジウムカー
ボンをろ別し、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラ
フィーにて精製し、目的とするヒドロキシエステル体1
.6gを得た。
結脱気した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間
反応させた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後
、高速液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表さ
れる繰り返し単位を有する目的とするポリマー(Mn=
6. OOO) 0.35gを得た。(転化率58%
) 〔相転移挙動〕 [電界応答時間〕 0.05秒(95℃) 実施例4 L−(−)−2−ペンタノール0.1モル(8,8g)
およびトリエチルアミン0.1モル(10,1g)のT
HF溶液を氷温下で攪拌し、この溶液中に、実施例1の
■で得られた4−カーボベンゾキシオキシ安息香酸クロ
リド0.12モル(34,9g)のTHF溶液を滴下し
た。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪拌した。反応後
、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、tlAml、、
カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的とするエス
テル体6゜2gを得た。(収率18%) ■で得られたエステル体10ミリモル(3,4g)およ
びパラジウムカーボン(5%触媒)0.5gの酢酸エチ
ル40m1溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応せしめ
た。反応後、メンブランフィルタ−にてパラジウムカー
ボンをろ別し、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラ
フィーにて精製し、目的とするヒドロキシエステル体1
.8gを得た。(収率86%) ■で得られたヒドロキシエステル体8ミリモル(1,7
g)およびトリエチルアミン10ミリモル(1,0g)
のTHF溶液を氷温下で攪拌し、この溶液に実施例3の
■で得られた酸塩化物10ミリモル(3,7g)のTH
F溶液を滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪
拌した。反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、
濃縮した後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目
的とするエステル体2.2gを得た。(収率52%)■
4−(4〃−ヒドロキシビフェニル−4′−カルボニル
オキシ)安息香酸1−メチルブチルエステルの合成 ■で得られたエステル体4ミリモル(2,2g)および
パラジウムカーボン(5%触媒)0.2gの酢酸エチル
39mj!溶液を水素ガス雰囲気下で4時間反応せしめ
た。反応後、メジプランフィルターにてパラジウムカー
ボンをろ別し、ろ液を濃縮した後、カラムクロマトグラ
フィーにて精製し、目的とするヒドロキシエステル体1
.6gを得た。
(収率96%)
■で得られたヒドロキシエステル体3ミリモル(1,2
g)およびトリエチルアミン5ミリモル(0,5g)の
THF溶液を氷温下で攪拌しながら、実施例2の■で得
られた酸塩化物5ミリモル(1゜4g)のTHF溶液を
滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪拌した。
g)およびトリエチルアミン5ミリモル(0,5g)の
THF溶液を氷温下で攪拌しながら、実施例2の■で得
られた酸塩化物5ミリモル(1゜4g)のTHF溶液を
滴下した。温度を徐々に室温に戻し、8時間攪拌した。
反応後、エーテル抽出を行い、抽出液を乾燥、濃縮した
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下式の構造
を有する目的とする七ツマ−1,3gを得た。(〔α〕
2♂=−12,8° (CHCl、) 、収率64%)
CIl□=CHCOO(CH2)+ 、coo(X◇c
oo■Hz 鴬 −COOCHCJt 腎 ■ポリマーの合成(ラジカル重合) ガラスアンプルに■で得られたモノマー0.6g、Al
BN2.1mgおよび乾燥THF4mlを入れ、凍結脱
気した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間反応
させた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後、高
速液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表される
繰り返し単位、を有する目的とするポリ? −(Mn=
7. OOO) 0.40gを得た。(転化率67%
) 〔相転移挙動〕 〔電界応答時間〕 0.06秒(95℃) 〔発明の効果〕 本発明のポリマーは、常温付近でも強誘電性を示す上に
、外的因子に対する応答速度が速くて動画表示が可能で
あり、かつ大画面や屈曲画面の表示素子としても有利に
使用することができ、オプトエレクトロニクス分野にお
ける種々の電子光学デバイスとして有用であり、その工
業的価値は極めて大である。
後、カラムクロマトグラフィーにて精製し、下式の構造
を有する目的とする七ツマ−1,3gを得た。(〔α〕
2♂=−12,8° (CHCl、) 、収率64%)
CIl□=CHCOO(CH2)+ 、coo(X◇c
oo■Hz 鴬 −COOCHCJt 腎 ■ポリマーの合成(ラジカル重合) ガラスアンプルに■で得られたモノマー0.6g、Al
BN2.1mgおよび乾燥THF4mlを入れ、凍結脱
気した後、アンプルの口を封じ、60℃で16時間反応
させた。アンプルの口を切り、反応物を濃縮した後、高
速液体クロマトグラフィーにて精製し、下式で表される
繰り返し単位、を有する目的とするポリ? −(Mn=
7. OOO) 0.40gを得た。(転化率67%
) 〔相転移挙動〕 〔電界応答時間〕 0.06秒(95℃) 〔発明の効果〕 本発明のポリマーは、常温付近でも強誘電性を示す上に
、外的因子に対する応答速度が速くて動画表示が可能で
あり、かつ大画面や屈曲画面の表示素子としても有利に
使用することができ、オプトエレクトロニクス分野にお
ける種々の電子光学デバイスとして有用であり、その工
業的価値は極めて大である。
第1図は実施例1において得られたポリマーの’H−N
MRスペクトルを表すチャートであり1、第2図は実施
例2において得られたポリマーの1H−NMRスペクト
ルを表すチャートであり、第3図は実施例3において得
られたポリマーの1)(−NMRスペクトルを表すチャ
ートであり、第4図は実施例4において得られたポリマ
ーのIH−NMRスペクトルを表すチャートである。
MRスペクトルを表すチャートであり1、第2図は実施
例2において得られたポリマーの1H−NMRスペクト
ルを表すチャートであり、第3図は実施例3において得
られたポリマーの1)(−NMRスペクトルを表すチャ
ートであり、第4図は実施例4において得られたポリマ
ーのIH−NMRスペクトルを表すチャートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式からなる繰り返し単位を有するポリマー
。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、kは1〜30の整数であり、 R_1は▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 または ▲数式、化学式、表等があります▼であり、 R_2は−COOR_3、−OR_3、または−R_3
であり、R_3は▲数式、化学式、表等があります▼で
あり、 mは0〜5の整数であり、 nは1〜5の整数である。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61308017A JPS63161005A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | ポリマ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61308017A JPS63161005A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | ポリマ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63161005A true JPS63161005A (ja) | 1988-07-04 |
Family
ID=17975881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61308017A Pending JPS63161005A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | ポリマ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63161005A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5026807A (en) * | 1988-10-31 | 1991-06-25 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Novel ester group-containing (meth)acrylic acid ester, novel (co)polymer thereof, composition comprising the (co)polymer and composition comprising the ester group containing (meth)acrylic acid ester |
| EP0435350A2 (en) | 1989-12-29 | 1991-07-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymeric liquid-crystalline compound, liquid-crystal composition containing it, and liquid-crystal device |
| US5130050A (en) * | 1989-10-27 | 1992-07-14 | Showa Shell Sekiyo Kabushiki Kaisha | Liquid crystal compound |
| US5252251A (en) * | 1988-12-30 | 1993-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Mesomorphic polymer, monomeric mesomorphic compounds, liquid crystal composition and liquid crystal device |
| US5614125A (en) * | 1989-08-08 | 1997-03-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymeric liquid-crystal compound, polymeric liquid-crystal composition, and polymeric liquid-crystal device |
| US5637253A (en) * | 1991-04-18 | 1997-06-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Chiral smectic liquid crystal compound, chain polymeric liquid crystal copolymer compound, their polymeric liquid crystal composition, a polymeric liquid crystal device which uses them, and apparatus and method which uses the same |
| US5690858A (en) * | 1992-11-25 | 1997-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Mesomorphic compound, liquid crystal composition and liquid crystal device |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP61308017A patent/JPS63161005A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5026807A (en) * | 1988-10-31 | 1991-06-25 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Novel ester group-containing (meth)acrylic acid ester, novel (co)polymer thereof, composition comprising the (co)polymer and composition comprising the ester group containing (meth)acrylic acid ester |
| US5252251A (en) * | 1988-12-30 | 1993-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Mesomorphic polymer, monomeric mesomorphic compounds, liquid crystal composition and liquid crystal device |
| US5614125A (en) * | 1989-08-08 | 1997-03-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymeric liquid-crystal compound, polymeric liquid-crystal composition, and polymeric liquid-crystal device |
| US5130050A (en) * | 1989-10-27 | 1992-07-14 | Showa Shell Sekiyo Kabushiki Kaisha | Liquid crystal compound |
| EP0435350A2 (en) | 1989-12-29 | 1991-07-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymeric liquid-crystalline compound, liquid-crystal composition containing it, and liquid-crystal device |
| US5185097A (en) * | 1989-12-29 | 1993-02-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymeric liquid-crystalline compound, liquid-crystal composition containing it, and liquid-crystal drive |
| US5637253A (en) * | 1991-04-18 | 1997-06-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Chiral smectic liquid crystal compound, chain polymeric liquid crystal copolymer compound, their polymeric liquid crystal composition, a polymeric liquid crystal device which uses them, and apparatus and method which uses the same |
| US5690858A (en) * | 1992-11-25 | 1997-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Mesomorphic compound, liquid crystal composition and liquid crystal device |
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