JPS63161160A - 蒸発源用るつぼ - Google Patents
蒸発源用るつぼInfo
- Publication number
- JPS63161160A JPS63161160A JP30641086A JP30641086A JPS63161160A JP S63161160 A JPS63161160 A JP S63161160A JP 30641086 A JP30641086 A JP 30641086A JP 30641086 A JP30641086 A JP 30641086A JP S63161160 A JPS63161160 A JP S63161160A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- layer
- inner layer
- outer layer
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は蒸発源用るつぼに係υ、特に、高品質の薄膜を
安定して成膜できるるつぼ構造に関する。
安定して成膜できるるつぼ構造に関する。
従来、物質を加熱蒸発させて薄膜形成を行う真容蒸着、
クラスタイオンビーム蒸着等においては、物質の容器と
してるつぼを用いるのが一般的であり、このるつぼの代
表的なものとしては、特開昭59−197565号公報
に記載されている0この方法は、るつぼ本体を、着脱可
能な複数層とし、(1)各層を、るつぼ材質として最も
一般的な黒鉛で形成する0又は(2)最内層を、るつぼ
内に収容する物質と反応しにくい材質で形成する、とい
うものである0〔発明が解決しようとする問題点3 本方法の眼目は、着脱可能な複数層にすれば、内層が破
壊しても外層にまで及ぶことがないという点にあるが、
(1)の方法では、例えばアルミニウム、ニッケル、シ
リコン等の物質を蒸着する場合、黒鉛と反応を起こし、
生成膜中に不純物が混入するという欠点がある。又、(
2)によれば上記欠点は防げるが、独立の構造体である
ので、ある程度の厚みが必要で、又、外層との間には必
ず空隙がある為、加熱効率が悪くなる。例えば、(2)
の代表的な構造としては、外層が黒鉛、内層としてはボ
ロンナイトライドが考えられるが、るつぼの加熱方式と
して電子衝撃式を用い友場合、外層の黒鉛のみが直接加
熱され、内層のボロンナイトライド(導電性が極めて小
さい)は、黒鉛からの熱を受けてしか加熱されない。し
たがって、上記理由により加熱効率が悪くなり成膜速度
の低下等の悪影響が出てくる。本発明の目的は、かかる
欠点を解消し、高品質な薄膜を加熱効率良く、安定して
取膜できるるつぼ構造を提供することKある。
クラスタイオンビーム蒸着等においては、物質の容器と
してるつぼを用いるのが一般的であり、このるつぼの代
表的なものとしては、特開昭59−197565号公報
に記載されている0この方法は、るつぼ本体を、着脱可
能な複数層とし、(1)各層を、るつぼ材質として最も
一般的な黒鉛で形成する0又は(2)最内層を、るつぼ
内に収容する物質と反応しにくい材質で形成する、とい
うものである0〔発明が解決しようとする問題点3 本方法の眼目は、着脱可能な複数層にすれば、内層が破
壊しても外層にまで及ぶことがないという点にあるが、
(1)の方法では、例えばアルミニウム、ニッケル、シ
リコン等の物質を蒸着する場合、黒鉛と反応を起こし、
生成膜中に不純物が混入するという欠点がある。又、(
2)によれば上記欠点は防げるが、独立の構造体である
ので、ある程度の厚みが必要で、又、外層との間には必
ず空隙がある為、加熱効率が悪くなる。例えば、(2)
の代表的な構造としては、外層が黒鉛、内層としてはボ
ロンナイトライドが考えられるが、るつぼの加熱方式と
して電子衝撃式を用い友場合、外層の黒鉛のみが直接加
熱され、内層のボロンナイトライド(導電性が極めて小
さい)は、黒鉛からの熱を受けてしか加熱されない。し
たがって、上記理由により加熱効率が悪くなり成膜速度
の低下等の悪影響が出てくる。本発明の目的は、かかる
欠点を解消し、高品質な薄膜を加熱効率良く、安定して
取膜できるるつぼ構造を提供することKある。
上記目的は、るつぼを多層構造として、最内層以外は着
脱可能とし、′j&内層は、るつぼ内に収容する蒸着物
質と反応しにくい材質を、直外層の内側に薄い膜として
形成することにより達成される。
脱可能とし、′j&内層は、るつぼ内に収容する蒸着物
質と反応しにくい材質を、直外層の内側に薄い膜として
形成することにより達成される。
最内層以外の6膚を着脱可能とすることにより破壊が最
外層まで及ぶことがなく、最内層を薄膜形成することに
より、高品質の薄膜を所定基板上に加熱効率よく安定し
て成膜することが出来る。
外層まで及ぶことがなく、最内層を薄膜形成することに
より、高品質の薄膜を所定基板上に加熱効率よく安定し
て成膜することが出来る。
以下、本発明の一実施例を図によって説明する。
図は、本発明の一実施例するクラスタイオンビーム蒸着
用るつぼの構造を示す縦断面図である。1はるつぼ外層
、2は内層、3は最内層、4は外層ぶた、5は内層ぶ几
、6はノズル、7は蒸着物質である。外層1及び外層ぶ
友4と、内層2及び内層ぶ九5は互いに着脱可能な構造
で、例えば黒鉛などの同一材質で形成されており、最内
層3は、内層2及び内層ぶた5の内側に蒸着物と反応し
にくい材質(例えばボロンナイトライド)が、プラズマ
化学蒸着法などによシ薄換として形成されている。
用るつぼの構造を示す縦断面図である。1はるつぼ外層
、2は内層、3は最内層、4は外層ぶた、5は内層ぶ几
、6はノズル、7は蒸着物質である。外層1及び外層ぶ
友4と、内層2及び内層ぶ九5は互いに着脱可能な構造
で、例えば黒鉛などの同一材質で形成されており、最内
層3は、内層2及び内層ぶた5の内側に蒸着物と反応し
にくい材質(例えばボロンナイトライド)が、プラズマ
化学蒸着法などによシ薄換として形成されている。
このような構造とすることにより、るっほを加熱して蒸
着物質7を溶融してノズル6から噴出させて成膜を行う
際、内層部が破壊しても外層部にまで影響が及ばないと
いう従来技術の長所をいかしつつ、最内層3にょシ蒸着
物7への不純物混入が抑えられ、更に外層 及び内層2
が同じ材質であシ最内層3が極く薄い膜として内層2の
内側に密着しているので、電子衝撃等による加熱効率も
極めて良い。
着物質7を溶融してノズル6から噴出させて成膜を行う
際、内層部が破壊しても外層部にまで影響が及ばないと
いう従来技術の長所をいかしつつ、最内層3にょシ蒸着
物7への不純物混入が抑えられ、更に外層 及び内層2
が同じ材質であシ最内層3が極く薄い膜として内層2の
内側に密着しているので、電子衝撃等による加熱効率も
極めて良い。
尚、本実施例では3層構造であるが、4層以上でも良く
、またクラスタイオンビーム蒸着以外のるつぼにも適用
できることは自明である。
、またクラスタイオンビーム蒸着以外のるつぼにも適用
できることは自明である。
以上の如く、本発明によればるつぼ内層の破筬が外層に
及ぶことがなく、同時に蒸着物への不純物混入も少なく
るつぼ加熱効率も良くなるので、高品質の薄膜が安定し
て成膜できる効果がある。
及ぶことがなく、同時に蒸着物への不純物混入も少なく
るつぼ加熱効率も良くなるので、高品質の薄膜が安定し
て成膜できる効果がある。
図は、本発明の一実施例のクラスタイオンビーム蒸着用
るつぼの構造を示す縦断面図である。 l・・・るつぼ外層、2・・・るつぼ内層、3・・・る
つは最内層、4・・・外層ぶ几、5・・・内層ぶた、6
・・・ノズル、7・・・蒸着物質。 1名ら(゛J゛外1 2 名らtar内層 3 名ら(°江′′景内1 手 タトA、”>”tミ 5 内層、31だ 6 ノズル 7エ1物貰
るつぼの構造を示す縦断面図である。 l・・・るつぼ外層、2・・・るつぼ内層、3・・・る
つは最内層、4・・・外層ぶ几、5・・・内層ぶた、6
・・・ノズル、7・・・蒸着物質。 1名ら(゛J゛外1 2 名らtar内層 3 名ら(°江′′景内1 手 タトA、”>”tミ 5 内層、31だ 6 ノズル 7エ1物貰
Claims (1)
- 1、るつぼ本体を多層構造として、最内層以外は着脱可
能とすることを特徴とする蒸発源用るつぼ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30641086A JPS63161160A (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | 蒸発源用るつぼ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30641086A JPS63161160A (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | 蒸発源用るつぼ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63161160A true JPS63161160A (ja) | 1988-07-04 |
Family
ID=17956679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30641086A Pending JPS63161160A (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | 蒸発源用るつぼ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63161160A (ja) |
-
1986
- 1986-12-24 JP JP30641086A patent/JPS63161160A/ja active Pending
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