JPS6316582A - 気密ガラス端子 - Google Patents
気密ガラス端子Info
- Publication number
- JPS6316582A JPS6316582A JP16063686A JP16063686A JPS6316582A JP S6316582 A JPS6316582 A JP S6316582A JP 16063686 A JP16063686 A JP 16063686A JP 16063686 A JP16063686 A JP 16063686A JP S6316582 A JPS6316582 A JP S6316582A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- copper
- glass
- outer ring
- nickel plating
- Prior art date
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は気密ガラス端子に関するものである。
(従来の技術)
半導体レーザー素子を搭載する半導体レーザー装置用気
密ガラス端子は、第4図(a)に−例を示すように、鉄
または鉄を成分に含む金属から成る金属外環10上に、
銅、銅合金、銅−タングステン焼結合金(以下Cu−W
という)などの銅または銅を成分に含む金属から成るヒ
ートシンク12を銀ろう付けして固定し、その上に電解
ニッケルめっきと金めっきを施している。
密ガラス端子は、第4図(a)に−例を示すように、鉄
または鉄を成分に含む金属から成る金属外環10上に、
銅、銅合金、銅−タングステン焼結合金(以下Cu−W
という)などの銅または銅を成分に含む金属から成るヒ
ートシンク12を銀ろう付けして固定し、その上に電解
ニッケルめっきと金めっきを施している。
ヒートシンク12の側壁には、半導体レーザー素子が搭
載される。
載される。
なお14は金属外環10にガラス16により絶縁して植
立したリード線、18はアースリード線である。
立したリード線、18はアースリード線である。
またトランジスタ装置等における気密ガラス端子は、第
4図(b)に−例を示すような構造になっている(めっ
きは図示せず)。
4図(b)に−例を示すような構造になっている(めっ
きは図示せず)。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで上記従来の気密ガラス端子は次のような問題点
を抱えている。
を抱えている。
すなわち金属素材としてCu−一を用いるものは、ろう
付は等の加熱工程を経た後、その表面に施す電解ニッケ
ルめっきの密着性が悪く、高温時にフフレ等が生じる問
題点がある。この原因としては、Cu−一表面の銅が極
めて酸化しやすく、酸化物が電解ニッケルめっき皮膜中
に熱拡散することにより密着不良が生じること、Cu−
Wが焼結合金であり、表面が緻密でないためピンホール
などのない均一な電解ニッケルめっき皮膜の形成が困難
なこと等が挙げられる。また、銀ろう付は部では、銀ろ
うがCu−一表面の酸化物を巻き込みやすく、当該酸化
物により観ろう表面へのめっきの密着不良が生じると共
に、銀ろうが均一に流れないため、肌荒れするなど銀ろ
う付けの接合状態が悪く、ろう付は不良が生じるという
問題点もある。
付は等の加熱工程を経た後、その表面に施す電解ニッケ
ルめっきの密着性が悪く、高温時にフフレ等が生じる問
題点がある。この原因としては、Cu−一表面の銅が極
めて酸化しやすく、酸化物が電解ニッケルめっき皮膜中
に熱拡散することにより密着不良が生じること、Cu−
Wが焼結合金であり、表面が緻密でないためピンホール
などのない均一な電解ニッケルめっき皮膜の形成が困難
なこと等が挙げられる。また、銀ろう付は部では、銀ろ
うがCu−一表面の酸化物を巻き込みやすく、当該酸化
物により観ろう表面へのめっきの密着不良が生じると共
に、銀ろうが均一に流れないため、肌荒れするなど銀ろ
う付けの接合状態が悪く、ろう付は不良が生じるという
問題点もある。
さらには、金属素材として、銅および銅を含む金属を用
いた場合の共通の問題であるが、リード線14.16の
金属外環10へのガラス封着時(約1000℃)および
ヒートシンク12の銀ろう付は時(約800℃)の高温
下の際、カーボン治具へ銅が付着したり封着ガラス内へ
銅が拡散(ガラス溶融時)して絶縁特性が低下するとい
う問題点もある。
いた場合の共通の問題であるが、リード線14.16の
金属外環10へのガラス封着時(約1000℃)および
ヒートシンク12の銀ろう付は時(約800℃)の高温
下の際、カーボン治具へ銅が付着したり封着ガラス内へ
銅が拡散(ガラス溶融時)して絶縁特性が低下するとい
う問題点もある。
そこで本発明は上記の問題点を一挙に解消すべくなされ
たものであり、その目的とするところは、めっきの密着
度が良好でフクレ等の不良やろう付は不良を生じさせる
ことがなく、またカーボン治具への銅の付着や、封着ガ
ラス中へ銅が拡散するおそれのない気密ガラス端子を提
供するにある。
たものであり、その目的とするところは、めっきの密着
度が良好でフクレ等の不良やろう付は不良を生じさせる
ことがなく、またカーボン治具への銅の付着や、封着ガ
ラス中へ銅が拡散するおそれのない気密ガラス端子を提
供するにある。
(発明の概要)
上記問題点を解消するため、本発明は次の構成を備える
。
。
すなわち、金属外環にガラスを用いて絶縁して植立した
リード線を有する気密ガラス端子において、銅−タング
ステン焼結合金(Cu−W)から成る金属部位に下地バ
リヤー層として無電解ニッケルめっきを施したことを特
徴とする。
リード線を有する気密ガラス端子において、銅−タング
ステン焼結合金(Cu−W)から成る金属部位に下地バ
リヤー層として無電解ニッケルめっきを施したことを特
徴とする。
(作用)
無電解ニッケルめっきは極めて緻密でかつ硬度が高く、
その下地のCu−の銅などがろう付けなどの高温時に無
電解ニッケルめっき中に拡散せず、この無電解ニッケル
めっき上に施されるめっきの密着性が良好となる。
その下地のCu−の銅などがろう付けなどの高温時に無
電解ニッケルめっき中に拡散せず、この無電解ニッケル
めっき上に施されるめっきの密着性が良好となる。
またCu−Wでヒートシンクや金属外環を形成し、これ
に無電解エフ。ケルめっきを施し、これをカーボン治具
中に組み込んでリード線のガラス封着を行う際、銅がカ
ーボン治具に付着したり、銅が封着ガラス中に拡散する
ことがない。
に無電解エフ。ケルめっきを施し、これをカーボン治具
中に組み込んでリード線のガラス封着を行う際、銅がカ
ーボン治具に付着したり、銅が封着ガラス中に拡散する
ことがない。
さらに、無電解ニッケルめっきが銀ろうとよく濡れ、ヒ
ートシンクの銀ろう付けが良好に行われ、銀ろう表面へ
のめっきの密着不良も生じない。
ートシンクの銀ろう付けが良好に行われ、銀ろう表面へ
のめっきの密着不良も生じない。
(実施例)
以下には本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
第1図は半導体レーザ装置用の気密ガラス端子8をヒー
トシンクと金属外環を異なる面で切断した部分断面図を
示す。第4図に示すものと同一部材は同一符合をもって
示し、その説明は省略する。
トシンクと金属外環を異なる面で切断した部分断面図を
示す。第4図に示すものと同一部材は同一符合をもって
示し、その説明は省略する。
なお金属外環10は鉄または鉄を成分に含む金属より成
る。ヒートシンク12はCu−Wを用いている。
る。ヒートシンク12はCu−Wを用いている。
本実施例においてはヒートシンク12上にヒートシンク
単体時に無電解ニッケルめっき20を施し、この無電解
ニッケルめっき20を施したヒートシンク12を銀ろう
22を用いて金属外環10上に固定している。そして金
属外環10およびヒートシンク12、また各リード線1
4.18上に必要な電解ニッケルめっき24さらにその
上に金めつき26を施すのである。
単体時に無電解ニッケルめっき20を施し、この無電解
ニッケルめっき20を施したヒートシンク12を銀ろう
22を用いて金属外環10上に固定している。そして金
属外環10およびヒートシンク12、また各リード線1
4.18上に必要な電解ニッケルめっき24さらにその
上に金めつき26を施すのである。
無電解ニッケルめっき20は極めて緻密でかつ硬度も高
い。したがってCu−Wの銅の拡散が抑えられ、上に施
されるめっき24.26の密着度が良好となり、高温時
のフクレ等のめっきの密着不良がなくなる。また無電解
ニッケルめっき20は銀ろう22の濡れ性が良好なので
、ろう付は不良が生じない。
い。したがってCu−Wの銅の拡散が抑えられ、上に施
されるめっき24.26の密着度が良好となり、高温時
のフクレ等のめっきの密着不良がなくなる。また無電解
ニッケルめっき20は銀ろう22の濡れ性が良好なので
、ろう付は不良が生じない。
第2図はさらに他の実施例を示している。
本実施例においては金属外環10にCu−Wを用いてい
る。本実施例においては金泥外環10単体時に金属外環
10上に無電解ニッケルめっき20を施す。そしてカー
ボン治具28中にこの無電解ニッケルめっき20を施し
た金属外環10、ガラス16およびリード線14とを組
み込み、約1ooo℃で通常のごとくガラス封着するの
である。この場合にCu−から成る金属外環10は緻密
で硬度の高い無電解ニッケルめっき20で覆われている
から、カーボン治具28に銅が付着したり、封着ガラス
内に銅が拡散したりすることがない。
る。本実施例においては金泥外環10単体時に金属外環
10上に無電解ニッケルめっき20を施す。そしてカー
ボン治具28中にこの無電解ニッケルめっき20を施し
た金属外環10、ガラス16およびリード線14とを組
み込み、約1ooo℃で通常のごとくガラス封着するの
である。この場合にCu−から成る金属外環10は緻密
で硬度の高い無電解ニッケルめっき20で覆われている
から、カーボン治具28に銅が付着したり、封着ガラス
内に銅が拡散したりすることがない。
この後ヒートシンクを要するものであれば、前記と同様
に無電解ニッケルめっきを施したヒートシンクを銀ろう
付けし、さらにその上に必要なめっきを施せばよい。
に無電解ニッケルめっきを施したヒートシンクを銀ろう
付けし、さらにその上に必要なめっきを施せばよい。
第3図はさらに他の実施例を示す。 本実施例において
は、Cu−Wから成る金属外環10に無電解ニッケルめ
っき20を施し、さらにその上に鉄−ニッケル合金めっ
き30を施している。そしてガラスとの密着性を向上さ
せるために鉄−ニッケル合金めっき30上に酸化膜を形
成した後、金属外環lO、ガラス16およびリード線1
4とをカーボン治具28中に組み込み、ガラス封着を行
っている。
は、Cu−Wから成る金属外環10に無電解ニッケルめ
っき20を施し、さらにその上に鉄−ニッケル合金めっ
き30を施している。そしてガラスとの密着性を向上さ
せるために鉄−ニッケル合金めっき30上に酸化膜を形
成した後、金属外環lO、ガラス16およびリード線1
4とをカーボン治具28中に組み込み、ガラス封着を行
っている。
本実施例においても緻密、かつ硬度の高い無電解ニッケ
ルめっき20がバリヤーとして作用するので、銅がカー
ボン治具28に付着したり、ガラス中に拡散するのが抑
止される。
ルめっき20がバリヤーとして作用するので、銅がカー
ボン治具28に付着したり、ガラス中に拡散するのが抑
止される。
なお、Cu−一の表面に施す無電解ニッケルめっきの下
地に、電解ニッケルストライクめっきなどの下地めっき
を施しても、無電解ニッケルめっきが下地のバリヤー層
として機能するため、めっきの密着不良、ろう付は不良
等の問題は生じない。
地に、電解ニッケルストライクめっきなどの下地めっき
を施しても、無電解ニッケルめっきが下地のバリヤー層
として機能するため、めっきの密着不良、ろう付は不良
等の問題は生じない。
(発明の効果)
以上のように本発明によれば、無電解ニッケルめっきが
極めて緻密でかつ硬度が高いので、その下地のCu−や
下地めっきなどの下地金属が無電解ニッケルめっき中に
拡散せず、この無電解ニッケルめっき上に施されるめっ
きの密着性が良好となる。
極めて緻密でかつ硬度が高いので、その下地のCu−や
下地めっきなどの下地金属が無電解ニッケルめっき中に
拡散せず、この無電解ニッケルめっき上に施されるめっ
きの密着性が良好となる。
またCu−から成る金属部位に無電解ニッケルめっきを
施し、これをカーボン治具中に組み込んでリード線のガ
ラス封着を行う際、銅がカーボン治具に付着したり、銅
が封着ガラス中に拡散することがない。
施し、これをカーボン治具中に組み込んでリード線のガ
ラス封着を行う際、銅がカーボン治具に付着したり、銅
が封着ガラス中に拡散することがない。
さらに、無電解ニッケルめっきは銀ろうの濡れ性が良好
で、ヒートシンクの銀ろう付けが好適に行える。
で、ヒートシンクの銀ろう付けが好適に行える。
以上本発明につき好適な実施例を挙げて種々説明したが
、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るのは
もちろんのことである。
、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るのは
もちろんのことである。
第1図は本発明に係る気密ガラス端子の良好な一実施例
を示す部分断面図、第2図および第3図はそれぞれリー
ド線のガラス封着を示す説明図である。 第4図は従来の気密ガラス端子の説明図である。 10・・・金属外環、 12・・・ヒートシンク、1
4・・・リード線、 16・・・ガラス、18・・・
アースリード線、 20・・・無電解ニッケルめっき、
22・・・銀ろう、24・・・電解ニッケルめっき
、 26・・・金めつき、 28・・・カーボン治具、
30・・・鉄−ニッケル合金めっき。 図 面 第1図 第 2 図 第 3 図第
4 (aン 図 (b)
を示す部分断面図、第2図および第3図はそれぞれリー
ド線のガラス封着を示す説明図である。 第4図は従来の気密ガラス端子の説明図である。 10・・・金属外環、 12・・・ヒートシンク、1
4・・・リード線、 16・・・ガラス、18・・・
アースリード線、 20・・・無電解ニッケルめっき、
22・・・銀ろう、24・・・電解ニッケルめっき
、 26・・・金めつき、 28・・・カーボン治具、
30・・・鉄−ニッケル合金めっき。 図 面 第1図 第 2 図 第 3 図第
4 (aン 図 (b)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属外環にガラスを用いて絶縁して植立したリード
線を有する気密ガラス端子において、銅−タングステン
焼結合金から成る金属部位に下地バリヤー層として無電
解ニッケルめっきを施したことを特徴とする気密ガラス
端子。 2、銅−タングステン焼結合金から成る金属部位が金属
外環である特許請求の範囲第1項記載の気密ガラス端子
。 3、銅−タングステン焼結合金から成る金属部位がヒー
トシンクである特許請求の範囲第1項記載の気密ガラス
端子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16063686A JPS6316582A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 気密ガラス端子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16063686A JPS6316582A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 気密ガラス端子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6316582A true JPS6316582A (ja) | 1988-01-23 |
| JPH0332182B2 JPH0332182B2 (ja) | 1991-05-10 |
Family
ID=15719212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16063686A Granted JPS6316582A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 気密ガラス端子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6316582A (ja) |
-
1986
- 1986-07-08 JP JP16063686A patent/JPS6316582A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0332182B2 (ja) | 1991-05-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |