JPS6316972A - プラスト用砥粒 - Google Patents
プラスト用砥粒Info
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- JPS6316972A JPS6316972A JP15671886A JP15671886A JPS6316972A JP S6316972 A JPS6316972 A JP S6316972A JP 15671886 A JP15671886 A JP 15671886A JP 15671886 A JP15671886 A JP 15671886A JP S6316972 A JPS6316972 A JP S6316972A
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- Japan
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- grains
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- abrasive
- raw material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C11/00—Selection of abrasive materials or additives for abrasive blasts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/003—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods using material which dissolves or changes phase after the treatment, e.g. ice, CO2
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、被処理物体に噴射衝突させることにより該物
体の表面処理を行うブラスト用砥粒に関するものである
。
体の表面処理を行うブラスト用砥粒に関するものである
。
（従来の技術）
従来のこの種プラスト用砥粒としては、サンドブラスト
等の一般的なブラスト法において用いる、砂、金属２合
成樹脂９種子類等の微粒状の固体物質と、近年提案され
ているアイスブラスト法において用いる、水を液体窒素
等の冷媒に噴霧滴下して得た微細な氷粒とが知られてい
る。
等の一般的なブラスト法において用いる、砂、金属２合
成樹脂９種子類等の微粒状の固体物質と、近年提案され
ているアイスブラスト法において用いる、水を液体窒素
等の冷媒に噴霧滴下して得た微細な氷粒とが知られてい
る。
（発明が解決しようとする問題点）
ブラストを実施する際に砂等の固体物質からなる砥粒を
用いた場合には、大量の粉塵の飛散浮面を生じたり、被
処理物体表面に無視し離い量の砥粒残渣の付着を見るの
を避は難く、これをブラスト後に除去する必要がある難
点を残していた。
用いた場合には、大量の粉塵の飛散浮面を生じたり、被
処理物体表面に無視し離い量の砥粒残渣の付着を見るの
を避は難く、これをブラスト後に除去する必要がある難
点を残していた。
一方、氷粒を砥粒として用いた場合には、ブラスト後氷
粒は融解して水となるから、上記の如き難点は全く生ず
ることなくブラスト処理を行いつる。
粒は融解して水となるから、上記の如き難点は全く生ず
ることなくブラスト処理を行いつる。
しかし、その反面、プラストの効果そのものに粒ではそ
の比重が１以下であることから比較的小さいととを免れ
ず氷粒を用いたアイスプラストによっては充分な力をも
ってするプラスト効果は期待し得す、プラスト処理の適
用範囲が、サンドブラスト等による場合に比して実質的
に小さな力を力えるのが適切な場合のみに制限されざる
を得々いのが実情である。
の比重が１以下であることから比較的小さいととを免れ
ず氷粒を用いたアイスプラストによっては充分な力をも
ってするプラスト効果は期待し得す、プラスト処理の適
用範囲が、サンドブラスト等による場合に比して実質的
に小さな力を力えるのが適切な場合のみに制限されざる
を得々いのが実情である。
本発明は、この点に着目して、前記したサンドブラスト
等の難点を避は且つ成る程度力を要するプラストに於て
も充分その効果を発揮しうる新規なプラスト用砥粒を提
供することを目的とする。
等の難点を避は且つ成る程度力を要するプラストに於て
も充分その効果を発揮しうる新規なプラスト用砥粒を提
供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明のプラスト用砥粒は、上記目的を達成する必要が
あり、密度が１．２以上、凍結固化の容易さの点で凝固
点が一５０℃より上にあり、且つ汚染除去に適しまた入
手容易々物質につき鋭意検討した結果、我々はテトラク
ロロジフルオロエタンＣＧ（Ｊ２Ｆ １）テトラクロロ
ジフルオロエタン〔ＣＣｌｈＦ ）、トリクロロトリフ
ルオロエタン（ＣＣｌ２Ｆ−ＣｃｌＦ２ ’：Ｊ、オク
タプルオロシクロプタン（ＣＦ２−ＣＦ２１：］、四塩
化炭素〔ＣＣｌ４〕、テトラクロ０Ｆ２−ＣＦ２エタン
（ ＣｌＣＨ２ ＣＨ２ ０１） 、グリセリン（
ＣＩｂ （ Ｏｒ月ＣＤ’ （ ＯＨ ） ＣＩ（２０
Ｈ ：］ よりなる群から選ばれた少くとも１種の化
合物（但し、グリセリンと他の物質との組合せを除く）
を微粒状に凍結固化させてなるものをプラスト用砥粒と
して使用すると、この目的に好適であることを見出して
本発明に到達した。
あり、密度が１．２以上、凍結固化の容易さの点で凝固
点が一５０℃より上にあり、且つ汚染除去に適しまた入
手容易々物質につき鋭意検討した結果、我々はテトラク
ロロジフルオロエタンＣＧ（Ｊ２Ｆ １）テトラクロロ
ジフルオロエタン〔ＣＣｌｈＦ ）、トリクロロトリフ
ルオロエタン（ＣＣｌ２Ｆ−ＣｃｌＦ２ ’：Ｊ、オク
タプルオロシクロプタン（ＣＦ２−ＣＦ２１：］、四塩
化炭素〔ＣＣｌ４〕、テトラクロ０Ｆ２−ＣＦ２エタン
（ ＣｌＣＨ２ ＣＨ２ ０１） 、グリセリン（
ＣＩｂ （ Ｏｒ月ＣＤ’ （ ＯＨ ） ＣＩ（２０
Ｈ ：］ よりなる群から選ばれた少くとも１種の化
合物（但し、グリセリンと他の物質との組合せを除く）
を微粒状に凍結固化させてなるものをプラスト用砥粒と
して使用すると、この目的に好適であることを見出して
本発明に到達した。
本発明に於てプラスト用砥粒を作るために凍結固化させ
る化合物（以下「砥粒原料」という）の物性について第
１表に示す。
る化合物（以下「砥粒原料」という）の物性について第
１表に示す。
（臥下徹白）
第１表
（作用）
かかる構成によれば、砥粒はプラスト後融解した後揮発
若しくは昇華して気体となり完全に逸散させることがで
きるので、耐着等のトラブルを避けることができる。場
合によっては、揮発性の高い他の有機溶剤で砥粒原料を
洗い流した後の高揮発性溶剤を揮発させることにより一
層よい結果を得ることができる。
若しくは昇華して気体となり完全に逸散させることがで
きるので、耐着等のトラブルを避けることができる。場
合によっては、揮発性の高い他の有機溶剤で砥粒原料を
洗い流した後の高揮発性溶剤を揮発させることにより一
層よい結果を得ることができる。
またこれ等の高比重の砥粒原料の凍結粒が、氷粒に比し
て被処理物表面に衝突したときに大きな力を及ぼしてプ
ラスト効果を向−トさせることは勿論である。
て被処理物表面に衝突したときに大きな力を及ぼしてプ
ラスト効果を向−トさせることは勿論である。
（実施例）
以下、その実施例を第１図について詳説する。
固化させて得たものであり、プラスト装置３のプラスト
ガン３ａから被処理物４に噴射衝突させることによねそ
の表面処理を行いうるものである。
ガン３ａから被処理物４に噴射衝突させることによねそ
の表面処理を行いうるものである。
砥粒原料１としては、
■ プラスト後における二次的な障害を生じさせないた
めに、常温では液体若しくは気体であり、有害物質でな
いこと、 ■ 高度且つ良好なプラスト効果を発揮させるために、
水に比して比重が大きく、被処理物４に対して不活性な
物質であること、 ■ 液体窒素等の冷媒５と熱交換により良好に凍結固化
させるために、凝固点（融点）が冷媒５の温度より高い
物質であること、 の条件を満足するものを使用する。具体的には、テトラ
クロロジフルオロエタン、トリクロロ） ＩＪフルオロ
エタン、オクタフルオロシクロブタン、四塩化炭素、テ
トラクロロエチレン、１，１．１− ） ＩＪ クロロ
エタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，２ジクロ
ロエタン又はグリセリンを単独で砥粒原料として使用す
るか、或いはこれらの物質を例えば第２表に示く如く２
種又は３種以上混合したものを使用する。なお、砥粒原
料として混合物を使用する場合、その混合比は特に制限
されず自由に設定することが可能である。ただし、−Ｌ
配した９種の物質のうち、グリセリンはこれμ外の物質
と混合し難く分離し易いものであるところから、他の物
質との混合物として使用することを避ける。
めに、常温では液体若しくは気体であり、有害物質でな
いこと、 ■ 高度且つ良好なプラスト効果を発揮させるために、
水に比して比重が大きく、被処理物４に対して不活性な
物質であること、 ■ 液体窒素等の冷媒５と熱交換により良好に凍結固化
させるために、凝固点（融点）が冷媒５の温度より高い
物質であること、 の条件を満足するものを使用する。具体的には、テトラ
クロロジフルオロエタン、トリクロロ） ＩＪフルオロ
エタン、オクタフルオロシクロブタン、四塩化炭素、テ
トラクロロエチレン、１，１．１− ） ＩＪ クロロ
エタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，２ジクロ
ロエタン又はグリセリンを単独で砥粒原料として使用す
るか、或いはこれらの物質を例えば第２表に示く如く２
種又は３種以上混合したものを使用する。なお、砥粒原
料として混合物を使用する場合、その混合比は特に制限
されず自由に設定することが可能である。ただし、−Ｌ
配した９種の物質のうち、グリセリンはこれμ外の物質
と混合し難く分離し易いものであるところから、他の物
質との混合物として使用することを避ける。
（以Ｔ先色）
第 ２ 表
前記凍結粒製造装置ｌは、下部側に所定量の液体窒素等
の冷媒５を貯蔵すると共に上部に噴霧器６を配設した凍
結粒製造容器７と、該容器７内の冷媒５中から凍結粒を
取出すだめのスクリューコンベア等の凍結粒取出し機構
８と、砥粒原料１を貯蔵する貯蔵タンク９と、該タンク
９を収容する温調室１０とからなる。
の冷媒５を貯蔵すると共に上部に噴霧器６を配設した凍
結粒製造容器７と、該容器７内の冷媒５中から凍結粒を
取出すだめのスクリューコンベア等の凍結粒取出し機構
８と、砥粒原料１を貯蔵する貯蔵タンク９と、該タンク
９を収容する温調室１０とからなる。
素ガス等の噴霧ガスを導入するための導入管１２を接続
させてあり、砥粒原料１を噴霧ガスと混合させた上で噴
霧器６から冷媒５の液面に向けて微粒状に噴霧滴下させ
るようにしである。捷だ凍結粒製造容器７には、温調室
１ｏに連らなる導入管１３ ａを分岐接続せる排気管１
３を接続させてあり、容器器内における冷媒５の蒸発ガ
スたる冷媒ガスを排気させると共に、その一部を温調室
ｌｏ内に導入して貯蔵タンク９内の砥粒原料１を冷却さ
せうるようになっている。さらに、温調室１ｏには、温
度検出器１４によって制御させた電磁弁１５を備えた排
気管１６を接続しており、温調室１０内に導入管１３
ａから導入した冷媒ガスによる冷却度合を調節しうるよ
うにしである。すなわち、貯蔵タンク９内の砥粒原料１
の温度が所望の設定温度より高い場合には、温度検出器
１４がこれを検出して電磁弁１５を開制御して、温調室
１０内における冷媒ガスによる冷却度合を高め、また砥
粒原料の温度が冷媒ガスに去ｐ よる冷炉により上記設定温度より低くなった場合には、
温度検出器１４により電磁弁１５を閉制御すると共に温
度検出器１４の設定温度以下になれば加熱器２４に電流
が流れ加熱する様にしである。
させてあり、砥粒原料１を噴霧ガスと混合させた上で噴
霧器６から冷媒５の液面に向けて微粒状に噴霧滴下させ
るようにしである。捷だ凍結粒製造容器７には、温調室
１ｏに連らなる導入管１３ ａを分岐接続せる排気管１
３を接続させてあり、容器器内における冷媒５の蒸発ガ
スたる冷媒ガスを排気させると共に、その一部を温調室
ｌｏ内に導入して貯蔵タンク９内の砥粒原料１を冷却さ
せうるようになっている。さらに、温調室１ｏには、温
度検出器１４によって制御させた電磁弁１５を備えた排
気管１６を接続しており、温調室１０内に導入管１３
ａから導入した冷媒ガスによる冷却度合を調節しうるよ
うにしである。すなわち、貯蔵タンク９内の砥粒原料１
の温度が所望の設定温度より高い場合には、温度検出器
１４がこれを検出して電磁弁１５を開制御して、温調室
１０内における冷媒ガスによる冷却度合を高め、また砥
粒原料の温度が冷媒ガスに去ｐ よる冷炉により上記設定温度より低くなった場合には、
温度検出器１４により電磁弁１５を閉制御すると共に温
度検出器１４の設定温度以下になれば加熱器２４に電流
が流れ加熱する様にしである。
温度検出器１４の設定温度以−＾れば、加熱器２４は断
となる。
となる。
又砥粒原料配送管１１に温度検出器２５を設は設定温度
以下に砥粒原料配送管１１が冷却された場合、砥粒原料
配送管用加熱器２６及び噴霧器用加熱器２７の温度を制
御する様に電流を流し砥粒原料配送管１１及び噴霧器６
の温度を一定に保つ。
以下に砥粒原料配送管１１が冷却された場合、砥粒原料
配送管用加熱器２６及び噴霧器用加熱器２７の温度を制
御する様に電流を流し砥粒原料配送管１１及び噴霧器６
の温度を一定に保つ。
貯蔵タンク９内の砥粒原料１の温度つまり噴霧器６から
噴霧される砥粒原料ｌの温度を所望の一定温度に維持し
うるように工夫しである。なお、第１図において、１７
は冷媒５の供給管であり、１８は砥粒原料１の供給管で
ある。
噴霧される砥粒原料ｌの温度を所望の一定温度に維持し
うるように工夫しである。なお、第１図において、１７
は冷媒５の供給管であり、１８は砥粒原料１の供給管で
ある。
したがって、この凍結粒製造装置によれば、砥粒原料１
を噴霧器６から脅粒状に噴霧滴下させると、この砥粒原
料１の噴霧微粒子１ａ・・・は冷媒５と熱交換されて凍
結固化して、ブラスト用砥粒つまり微細な凍結粒１【）
が得られるのである。なお、凍結粒１ｂ・・・は冷媒５
中を沈降して、取出し機構８により冷媒中５から容器７
外へ取出すことができる。
を噴霧器６から脅粒状に噴霧滴下させると、この砥粒原
料１の噴霧微粒子１ａ・・・は冷媒５と熱交換されて凍
結固化して、ブラスト用砥粒つまり微細な凍結粒１【）
が得られるのである。なお、凍結粒１ｂ・・・は冷媒５
中を沈降して、取出し機構８により冷媒中５から容器７
外へ取出すことができる。
ところで、凍結粒１ｂの粒径は、噴霧器６の噴霧孔径及
び噴霧ガス圧等により適宜て設定することができ、固体
物質からなる砥粒では到底得ることのできないような微
細な粒径の凍結粒ＩＦ１を得ることが可能である。
び噴霧ガス圧等により適宜て設定することができ、固体
物質からなる砥粒では到底得ることのできないような微
細な粒径の凍結粒ＩＦ１を得ることが可能である。
物４に直対向させて配設し、取出し機構８により取出さ
れた凍結粒１ｂ・・・を保冷状態でプラストガン３ａに
供給させる凍結粒供給機構２０を設けて、プラストガン
３ａに適宜圧に加圧された圧縮空気等のドライブガス２
１を導入させることによって、前記供給機構２０により
供給された凍結粒１ｂ・・・をプラストガン３ａから被
処理物４に噴射衝突させ、もって被処理物４のプラスト
処理を処理容器１９内で行わしめらるようになっている
。
れた凍結粒１ｂ・・・を保冷状態でプラストガン３ａに
供給させる凍結粒供給機構２０を設けて、プラストガン
３ａに適宜圧に加圧された圧縮空気等のドライブガス２
１を導入させることによって、前記供給機構２０により
供給された凍結粒１ｂ・・・をプラストガン３ａから被
処理物４に噴射衝突させ、もって被処理物４のプラスト
処理を処理容器１９内で行わしめらるようになっている
。
かかるプラスト処理によれば、砥粒としての凍結粒１ｈ
が、水に比して高比重（１，２〜１，６程度）の砥粒原
料１を凍結固化させてなるものであるから、砂等の固体
物質からなる砥粒を用いたと同様に、つまり氷Ｖを用い
た場合に比してはるかにジ 大きいプラスト効果を発揮させ彰る。しかも、凍結粒１
１］はブラスト後融解して液体若しくは気体１ｃとなる
ことから、冒頭に述べた如き二次的な障害は生じない。
が、水に比して高比重（１，２〜１，６程度）の砥粒原
料１を凍結固化させてなるものであるから、砂等の固体
物質からなる砥粒を用いたと同様に、つまり氷Ｖを用い
た場合に比してはるかにジ 大きいプラスト効果を発揮させ彰る。しかも、凍結粒１
１］はブラスト後融解して液体若しくは気体１ｃとなる
ことから、冒頭に述べた如き二次的な障害は生じない。
さらに、砥粒たる凍結粒１ｂは、砂等の固体物質を粒状
にして砥粒となしたものと異なって、前述する如く極め
て微細な粒径のものとなし得ることから、半導体等にお
ける超精密な表面処理をも好適に行わしめることが可能
となる。
にして砥粒となしたものと異なって、前述する如く極め
て微細な粒径のものとなし得ることから、半導体等にお
ける超精密な表面処理をも好適に行わしめることが可能
となる。
本発明者が前記実施例の凍結粒１ｈを用いて半導体例え
ばＩＣモールドのパリ取り、プリント基板のパリ取りや
精密機器例えば真空蒸着装置部品の研兜、クリーニング
等を行ったところ、従来の砂粒や氷粒を用いた場合に比
して極めて良い結果を得た。
ばＩＣモールドのパリ取り、プリント基板のパリ取りや
精密機器例えば真空蒸着装置部品の研兜、クリーニング
等を行ったところ、従来の砂粒や氷粒を用いた場合に比
して極めて良い結果を得た。
蝮
なお、砥粒原料１は一ノに高価なものであるから、凍結
粒１ｈ・・・の融解液ＩＣはこれを一月処理回収させる
ようにしておくことが好ましい。
粒１ｈ・・・の融解液ＩＣはこれを一月処理回収させる
ようにしておくことが好ましい。
（発明の効果）
本発明のブラスト用砥粒によれば、砥粒が水より高比重
の液状物質からなる凍結粒であるから、砂等の固体物質
からなる砥粒を用いた場合のような二次的な障害を生じ
ることなく、シかも氷粒を砥粒を用いた場合と異なって
砂等の砥粒による場合と変り々いプラス効果を発揮させ
ることができ、広範な分野における良好なプラスト処理
を可能とする。
の液状物質からなる凍結粒であるから、砂等の固体物質
からなる砥粒を用いた場合のような二次的な障害を生じ
ることなく、シかも氷粒を砥粒を用いた場合と異なって
砂等の砥粒による場合と変り々いプラス効果を発揮させ
ることができ、広範な分野における良好なプラスト処理
を可能とする。
さらに、このように二次的々障害を生じず、高度なプラ
スト効果を発揮させ得ることと、極めて微細な粒径のも
のに凍結固化させておくことができるものであることか
ら、従来のプラスト処理では不可能であった半導体、原
子力、精密機械等の分野における超精密な表面処理をも
可能とし、プラスト処理の適用範囲を大巾に拡大しうる
。
スト効果を発揮させ得ることと、極めて微細な粒径のも
のに凍結固化させておくことができるものであることか
ら、従来のプラスト処理では不可能であった半導体、原
子力、精密機械等の分野における超精密な表面処理をも
可能とし、プラスト処理の適用範囲を大巾に拡大しうる
。
第１図は本発明に係るプラスト用砥粒を製造し且つプラ
ストするだめの装置の一例を示す概略の縦断側面図であ
る。 １・・・砥粒原料物質、ＩＩ）・・・凍結粒（プラスト
用砥粒）。
ストするだめの装置の一例を示す概略の縦断側面図であ
る。 １・・・砥粒原料物質、ＩＩ）・・・凍結粒（プラスト
用砥粒）。
Claims (1)
- （１）テトラクロロジフルオロエタン〔ＣＣｌ＿２Ｆ−
ＣＣｌ＿２Ｆ〕、トリクロロトリフルオロエタン〔ＣＣ
ｌ＿２Ｆ−ＣＣｌＦ＿２〕、オクタフルオロシクロブタ
ン〔▲数式、化学式、表等があります▼〕、四塩化炭素
〔ＣＣｌ＿４〕、テトラクロロエチレン〔ＣＣｌ＿２＝
ＣＣｌ＿２〕、１、１、１−トリクロロエタン〔ＣＨ＿
３ＣＣｌ＿３〕、１、１、２−トリクロロエタン〔Ｃｌ
＿２ＣＨＣＨ＿２Ｃｌ〕、１、２ジクロロエタン〔Ｃｌ
ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｃｌ〕、グリセリン〔ＣＨ＿２（ＯＨ
）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＿２ＯＨ〕よりなる群から選ばれた
少くとも１種の化合物（但し、グリセリンと他の物質と
の組合せを除く）を微粒状に凍結固化させてなることを
特徴とするブラスト用砥粒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15671886A JPS6316972A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | プラスト用砥粒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15671886A JPS6316972A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | プラスト用砥粒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6316972A true JPS6316972A (ja) | 1988-01-23 |
| JPH0460790B2 JPH0460790B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=15633820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15671886A Granted JPS6316972A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | プラスト用砥粒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6316972A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160024465A (ko) * | 2014-08-26 | 2016-03-07 | 주식회사 케이씨텍 | 연마 슬러리 조성물 |
-
1986
- 1986-07-03 JP JP15671886A patent/JPS6316972A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160024465A (ko) * | 2014-08-26 | 2016-03-07 | 주식회사 케이씨텍 | 연마 슬러리 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0460790B2 (ja) | 1992-09-29 |
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