JPS63170206A - 高純度二酸化炭素の回収方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、エチレンオキシド製造プロセスから高純度二
酸化炭素を回収する方法に関するものである。

詳しくは二酸化炭素吸収塔で二酸化炭素含有ガスをアル
カリ性溶液と接触せしめて二酸化炭素を吸収し、二酸化
炭素放散塔で二酸化炭素含有アルカリ性溶液を加熱して
二酸化炭素を放散せしめる工程から得られた放散二酸化
炭素含有ガスの熱エネルギーを回収し、高純度二酸化炭
素を回収する方法に関する。さらに詳しくはエチレンを
分子状酸素源として酸素を用いて、銀触媒の存在下、接
触気相酸化してエチレンオキシドを製造するいわゆるエ
チレンの酸素酸化法において、エチレンと分子状酸素と
の副反応で生成する二酸化炭素を含有するガスから高純
度二酸化炭素を製造する方法に関する。エチレンを銀触
媒の存在下、分子状酸素含有ガスと接触気相酸化して生
成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガスをエチ
レンオキシド吸収塔へ導入し吸収液と向流接触させ、エ
チレンオキシド吸収塔頂部よりのガスはエチレン酸化反
応工程へ循環し、エチレンオキシドを含むエチレンオキ
シド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エ
チレンオキシド放散塔頂からエチレンオキシドを放散せ
しめ、エチレンオキシドおよび水を含む留出物を凝縮さ
せ、未凝縮ガスは脱水塔へ供給し、脱水塔で水分を分離
し、重質分分離塔で重質分を分離し、ついでエチレンオ
キシド精留塔でエチレンオキシドを精留する工程におい
て、軽質分分ｌ１ｌｔ塔の加熱エネルギーを低減させる
エチレンオキシドのＭｌ！方法および二酸化炭素の回収
方法に関するものである。

（従来の技術） エチレンオキシドは一般につぎのようにして精製される
。エチレンと分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触気
相酸化して生成するエチレンオキシドを含む反応生成ガ
スをエチレンオキシド吸収塔へ導びき水を主とする吸収
液と向流接触させエチレンオキシド水溶液として回収し
、ついでエチレンオキシド放散塔へ送りエチレンオキシ
ド放散塔底部を加熱蒸気で加熱することによってエチレ
ンオキシドを水溶液から放散させ、エチレンオキシド放
散塔底部より、実質的にエチレンオキシドを含まない水
溶液は吸収液として循環使用し、エチレンオキシド放散
塔頂部より放散されるエチレンオキシド、水、二酸化炭
素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン、）
の他ホルムアルデヒド等の低沸点不純物およびアセトア
ルデｂド、酢酸等の高沸点不純物を含む放散物を脱水工
程、重質分分離工程および重質分分離工程の各々を経て
精製しエチレンオキシドを製造することができる。

つぎにエチレンオキシドの製造プロセスにおいて、循環
ガス中から高純度の二酸化炭素を製造する方法について
説明する。

エチレンと分子状酸素とを銀糸触媒上で反応せしめると
、 で示される主反応でエチレンオキシドが生成し、このほ
かに、 Ｃ２Ｈ４＋３０２→２Ｃ０２＋２Ｈ２０・・・・・・（
２）で示される副反応により二酸化炭素および水が生成
することが知られている。そしてエチレンを分子状酸素
により銀触媒の存在下、接触気相酸化してエチレンオキ
シドを製造する方法において、エチレンオキシドの収率
を高めるため、エチレンの反応率を小さくし、前記反応
式（１）で示される主反応が起る方法、すなわちエチレ
ンの反応率を小さくし、エチレンオキシドの選択率を大
きくする方法が採用され、未反応エチレンは反応帯へ再
循環されているのが一般的である。

このような未反応エチレンを反応帯へ循環させる方法に
おいて、前記反応式（１）で生成する主反応生成物のエ
チレンオキシドおよび反応式（２）で生成する副反応生
成物の二酸化炭素、水並びに循環工程中に多分に導入さ
れる希釈ガス（メタン、エタン、窒素、炭酸ガス）の不
活性ガスを分離しなければ、一定のガス組成で反応を遂
行することが不可能に陥いる。

この反応生成ガス流からエチレンオキシド、二酸化炭素
、水並びに不活性ガスを分離する方法として、次のエチ
レンの空気酸化法特公昭４６−２４００４号公報および
エチレンの空気酸化法特公昭３８−１９１０３号公報、
特公昭３８−２１０６３号公報、特公昭４４−３０２４
４号公報の代表的なプロセスが知られている。

エチレンを分子状酸素により銀触媒の存在下、接触気相
酸化して、エチレンオキシドを製造する方法において、
分子状酸素の供給源として、酸素を用いるエチレンの酸
素酸化法においては、エチレンオキシドを含む反応生成
ガスをエチレンオキシド吸収塔に導びき水を主とする吸
収液と向流接触させ反応生成ガス中のエチレンオキシド
を吸収液に吸収せしめて回収し、吸収液と吸収されなか
った未反応のエチレン、酸素および二酸化炭素、窒素、
アルゴン、メタン、エタン等からなる希釈ガスから、エ
チレンと分子状酸素との副反応で生成した二酸化炭素を
分離した後、反応帯へ、リサイクルし、そして反応に使
用されたエチレンおよび酸素ならびに反応帯と吸収工程
とのプロセスでわずかに漏出したガス分を補充すること
により反応原料ガス組成を調製し反応に共することであ
る。

従来、前記酸素法における二酸化炭素の分離法として、
エチレンオキシド吸収塔頂よりのガスの一部は反応帯ヘ
リサイクルし、残部を二酸化炭素ガス吸収塔へ導き、ア
ルカリ性吸収液たとえば熱炭酸カリ水溶液と向流接触さ
せて二酸化炭素ガスをアルカリ性吸収液に吸収せしめ、
ついで二酸化炭素ガスを含有するアルカリ性吸収液を二
酸化炭素ガス放散塔へ導き、二酸化炭素ガス放散塔底部
を加熱することにより二酸化炭素ガスを放散分離し、二
酸化炭素ガス放散塔頂より実質的に二酸化炭素を放散分
離した炭酸カリ水溶液は再び二酸化炭素吸収塔の吸収液
として使用する方法が採用されている。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、このようなエチレンオキシドの精製方法
は重質分分離塔における加熱蒸気量を多量に消費する問
題があった０本発明はこれらの重質分分離工程における
省エネルギーについて研究した結果、二酸化炭素放散塔
頂部から放散される蒸気のエネルギーの有効利用に着眼
し本発明を完成した。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有
ガスと接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを含
有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し
吸収液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よ
りのガスの一部はエチレン酸化反応工程へ循環し、残部
を二酸化炭素吸収塔へ導き、アルカリ性吸収液と向流接
触させて二酸化炭素をアルカリ性吸収液に吸収せしめ、
ついでアルカリ性吸収液を二酸化炭素放散塔へ導き、二
酸化炭素放散塔底部を加熱することにより二酸化炭素を
放散分離し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド
吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレ
ンオキシド放散塔頂からエチレンオキシドを放散せしめ
、エチレンオキシドおよび水を含む留出物を凝縮させ、
未凝縮ガスは脱水塔へ供給し、水分を分離し、ついで重
質分分離塔で重質分を分離し、ついでエチレンオキシド
精留塔でエチレンオキシドを精留する工程にお０て、二
酸化炭素吸収塔で吸収された二酸化炭素含有吸収液を二
酸化炭素放散塔の気液接触部上へ供給し、該気液接触部
の上部で発生する放散ガスは分離し、該気液接触部以下
で発生する放散物を重質分分離塔の加熱源に使用した後
、二酸化炭素を回収することを特徴とする高純度二酸化
炭素の回収方法に関するものである。

本発明において二酸化炭素は、二酸化炭素吸収塔で吸収
された二酸化炭素含有吸収液が最初に供給される気液接
触部より下に設けられたの気相部より放散される放散物
を重質分分離塔の加熱源に使用することによって本発明
の目的が達成される。

本発明の二酸化炭素含有とアルカリ性吸収液を接触させ
る際に使用するアルカリ性吸収液としては、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、モノエタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン
等のアルカノールアミン類、ジグリコールアミン類、グ
リコ−ルエーテル類およびこれらの水溶液が使用される
。

本発明の二酸化炭素放散塔において吸収液を二酸化炭素
放散塔に供給する吸収液供給管の下部において気液接触
を実施する手段としては、棚段塔型式および充填塔型式
がある。棚段塔型式の蒸留塔の棚段としては種々あるが
バブルキャップトレイ、ユニフラックストレイ、ターボ
グリッドトレイ、リップトレイ、フレキシトレイ、シー
ブトレイ、パラストトレイ等が挙げられる。また、充填
塔型式の放散塔の充填物としては、ラシｂリング、ポー
ルリング、サドル型リング、スパイラルリング、マクマ
ホンバッキング、インターロックスメタルバッキング（
ツートン社）、カスケードミニリング（トッドウェル社
）、−理論段数あたりＩＱｍｍＨｇ以下の圧力損失を有
する充填物、織物または編物構造の金網積層板等が挙げ
られる。

特に二酸化炭素放散塔としては、棚段塔型式および充填
塔型式の二酸化炭素放散塔が使用され、複数個の棚およ
び／または充填物を備えた塔が好ましい。

本発明において気液接触部より下に設けられたの気相部
より放散される放散ガスを取得する方法としては、二酸
化炭素放散塔おいて吸収液を二酸化炭素放散塔に供給す
る吸収液供給管の下部に設けられたトレイとトレイの間
の気相部、充填層の気相部、充填層と充填層の間の気相
部が挙げられる。

好ましくは少なくとも一理論段数以上に相当するトレイ
または充填層より放散二酸化炭素を取得することができ
る。

一方、本発明において二酸化炭素放散塔中段から取得し
た二酸化炭素には、水蒸気が同伴しており、高い熱エネ
ルギーを保有している。この熱エネルギーを有するガス
をエチレンオキシド精製工程の重質分分離塔の加熱器に
導入し、重質分分離塔の加熱源としとて使用することに
より二酸化炭素放散塔蒸気の熱回収を行なうことができ
るものである。

本発明においてエチレンオキシド吸収塔へ供給される吸
収液の温度は５〜４０℃、好ましくは１０〜３５℃であ
り、吸収液の組成はＰＨが５〜１２、好ましくは６〜１
１、エチレングリコール濃度が１〜４０重景％置部まし
くは５〜３０重量％、消泡剤濃度がＯ，ｉｐｐｍ以上、
好ましくは１〜１００　ｐ　ｐ　、ｍ、残り水の範囲に
制御される。吸収液中のエチレングリコール濃度を一定
に保持するためエチレンオキシド吸収塔とエチレンオキ
シド放散塔とを循環する吸収液の一部をエチレンオキシ
ド放散塔底部から抜き出し副生エチレングリコール濃縮
塔へ送り、必要により新鮮な水が導入され制御される。

ＰＨの調節は、たとえばカリウム、ナトリウムのような
アルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の吸収液に溶解する
化合物を添加することにより行うのが好ましく、添加剤
は具体的には水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムが
好ましい。

消泡剤は、エチレンオキシド、副生エチレングリコール
等に不活性であり、吸収液の消泡効果を有するものであ
ればいかなる消泡剤でも使用でき、代表的な例としては
水溶性シリコンエマルジョンが吸収液への分散性、希釈
安定性、熱安定性が優れているので効果的である。

エチレンオキシド吸収塔の操作条件は、反応生成ガス中
のエチレンオキシド濃度が０．５〜５容量％、好ましく
は１．０〜４容量％であり、エチレンオキシド吸収塔の
操作圧は２〜４０Ｋｇ／ａｉＧ、好ましくは１０〜３０
Ｋｇ／ａＪＧである。

エチレンオキシド放散塔の操作条件は、エチレンオキシ
ド放散塔頂圧力ｏ、ｉ〜２　ｋ　ｇ／ａＪＧ、好ましく
は０．３〜０．６ｋｇ／ｄＧ、エチレンオキシド放散塔
頂温度８５〜１２０℃、エチレンオキシド放散塔底温度
１００〜１５０℃、エチレンオキシド放散塔底エチレン
オキシド濃度は３０ｐｐｍ以下、好ましくは０．５ｐｐ
ｍ以下である。

本発明の特徴は、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸
素含有ガスと接触気相酸化して生成したエチレンオキシ
ドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ
導入し吸収液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収塔
頂部よりのガスの一部はエチレン酸化反応工程へ循環し
、残部を二酸化炭素吸収塔へ導き、アルカリ性吸収液と
向流接触させて二酸化炭素をアルカリ性吸収液に吸収せ
しめ、ついでアルカリ性吸収液を二酸化炭素放散塔へ導
き、二酸化炭素放散塔底部を加熱することにより二酸化
炭素を放散分離し、エチレンオキシドを含むエチレンオ
キシド吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、
エチレンオキシド放散塔頂からエチレンオキシドを放散
せしめ、エチレンオキシドおよび水を含む留出物を凝縮
させ、未凝縮ガスは脱水塔へ供給し、水分を分離し、つ
いで重質分分離塔で重質分を分離し、ついでエチレンオ
キシド精留塔でエチレンオキシドを精留する工程におい
て、二酸化炭素吸収塔で吸収された二酸化炭素含有吸収
液を二酸化炭素放散塔の気液接触部上へ供給し、該気液
接触部の上部で発生ずる放散ガスは分離し、該気液接触
部以下で発生する放散物を重質分分離塔の加熱源に使用
した後、二酸化炭素を回収する方法が採用される。

本発明において脱水塔へ供給される供給液の温度は５〜
６０℃、好ましくは１０〜５０℃であり、供給蒸気のエ
チレンオキシド濃度は８０〜９８重量％の範囲である。

エチレンオキシドの脱水塔の操作条件は、脱水塔頂圧力
ｏ、　１〜２．０ｋｇ／ａｊＧ、好ましくは０．３〜０
．６ｋｇ／ａＪＧの範囲である。

脱水塔頂温度は１０〜４０℃、脱水塔底温度は１００〜
１５０℃、脱水塔底エチレンオキシド濃度は１１００ｐ
ｐ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下の範囲である。

本発明においてエチレンオキシド重質分分離塔へ供給さ
れる供給液の温度は０〜５０°Ｃ１好ましくは５〜３０
℃であり、 供給液の組成は大部分がエチレンオキシドで、わずかの
ホルムアルデヒド等のアルデヒド類および水を含んでい
る。

重質分分離塔の繰作条件は、軽質分分離塔項圧力１〜１
０ｋｇ／ａｊＧ好ま・シ＜は３〜７ｋｇ／ＪＧの範囲で
ある。

軽質分分離塔項温度３０〜９０℃、重質分分離塔底温度
３０〜９０℃の範囲である。

重質分分離塔底エチレンオキシド濃度は９９．５！！量
％以上、好ましくは９９．９５重量％以上の範囲である
。

本発明においてエチレンオキシド精留塔へ供給される供
給液の温度は３０〜９０’Ｃ１好ましくは５０〜７０℃
であり、供給液の組成はエチレンオキシド濃度が９９．
５重量％以上、好ましくは９９．９５重量％以上の範囲
に制御される。

エチレンオキシド精留塔の操作条件は、精留塔頂圧力１
．０〜８．０ｋｇ／ｃｊＧ好まＬ　＜　４．ｔ　１　。

２〜５　、０　ｋ　ｇ／ａｊＧ、精留塔頂温度３５〜７
５℃、精留塔底温度３５〜８０℃、精留塔底エチレンオ
キシド濃度は３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０
重量％の範囲である。

本発明においてエチレンオキシド精留塔底液はアセトア
ルデヒド、水および酢酸等の高沸点不純物からなる重質
分である。

本発明をさらに詳しく述べるために図−１に基づいて説
明する。

図−１においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管（１）を逆して、充填塔
あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔（２）の
下部へ供給し、導管（３）よりエチレンオキシド吸収塔
（２）の上部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接
触させ、反応生成ガス中の９９重量％以上のエチレンオ
キシドを回収し、エチレンオキシド吸収塔（２）の塔頂
より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活
性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデヒ
ド、酸性物質等のガスは導管（４）を通して、その一部
はライン（５）より反応器（１０）へ循環され、残部は
ライン（６）を経て圧力２〜４０　Ｋ　ｇ／ｃｄＧ、温
度８０〜１２０℃に操作された二酸化炭素吸収塔（７）
へ導かれ、二酸化炭素放散塔（１２）よりライン（１６
）を経て供給されるアルカリ性吸収液と向流接触されて
二酸化炭素の他に少量のエチレン、酸素、二酸化炭素、
不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アル
デヒド、酸性物質等のガスが吸収される。二酸化炭素吸
収塔（７）の塔頂より二酸化炭素を吸収されたガスはラ
イン（８）を経てライン（９）へ送られ、新たに補充さ
れるエチレン、希釈ガス等と混合された後、反応器（１
０）へ循環される。二酸化炭素吸収塔（７）で二酸化炭
素ガスを吸収した二酸化炭素ガス濃厚吸収液はライン（
１１）を経て圧力０．１〜５　Ｋ　ｇ　／　ａＪ　Ｇ、
温度８０〜１２０℃で操作され、塔底部にリボイラー（
１７）を設置した二酸化炭素放散塔（１２）の塔頂部に
供給される。二酸化炭素放散塔（１２）の塔頂部の供給
部において吸収液は二酸化炭素吸収塔（７）と二酸化炭
素放散塔（１２）の圧力の差によって圧力フラッシュを
起し、吸収液中の１０〜８０容量％の二酸化炭素ガスと
大部分のエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒
素、アルゴン、メタン、エタン）はライン（１３）を通
して吸収液から分離される。圧力フラッシュにより二酸
化炭素ガスの一部を分離された残りの二酸化炭素ガス吸
収液は供給液部の下方に設けた気液接触部（１４）に入
り、リボイラー（１７）より発生した蒸気および気液接
触部（１４）以下の部分から発生した二酸化炭素を主と
するガスと向流接触して吸収液中の二酸化炭素およびそ
の他のイナートガスの大部分が吸収液から分離される。

吸収液供給部の下方に設けた気液接触部（１４）の最上
部から下方、好ましくは気液接触に必要な一理論段数以
上に相当する気液接触部（１４）の下部の二酸化炭素放
散塔（１２）内部から高純度二酸化炭素を取り出しライ
ン（１５）から放散されたガスは、軽質骨分離？！（５
１）のりボイラー（７０）に導入し、加熱源として使用
された後、導管（７４）により高純度二酸化炭素が得ら
れる。

気液接触部（１４）での二酸化炭素ガス吸収液中に含ま
れる不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）は
気液接触部（１４）の下部から上昇してくる極く微量の
不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）を含む
二酸化炭素ガスと水蒸気とによって気液接触部（１４）
内で向流気液接触を起してた放散され、不活性ガス（窒
素、アルゴン、メタン、エタン）の濃度は極めて低くな
る。したがって放散後の二酸化炭素ガスを取り出せば高
純度二酸化炭素が得られる。

・二酸化炭素放散塔（１２）が充填塔の場合は充填層内
および充填層と充填層との間から、また棚段塔の場合は
トレイとトレイの間から吸収液を混入しないようにして
ガスを抜き出せば高純度二酸化炭素ガスのが得られる。

本発明の高純度二酸化炭素ガスは二酸化炭素吸収塔で吸
収された二酸化炭素の２０〜９０容量％である。

またエチレンオキシド吸収塔（２）の塔底液を導管（１
９）を通して熱交換器（２０）へ送りエチレンオキシド
放散塔底液と熱交換して温度７０〜１１０℃に高め、導
管（２１）により気液分離タンク（２２）へ送られ一部
エチレンオキシドおよび水を含む軽質分ガスが導管（２
３）により分離される。軽質分ガスをフラッシュした残
部の吸収液を導管（２４）を通して塔頂圧力０．１〜２
Ｋｇ／ｊＧ、温度８５〜１２０℃のエチレンオキシド放
散塔（２５）の上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔
（２５）の加熱器（３０）より水蒸気またはダウサム（
ダウ社商品）等の加熱媒体で導管（３１）を通して加熱
するか、または直接エチレンオキシド放散塔（２５）の
底部へ水蒸気を導入する加熱方式により加熱し、吸収液
中に含まれるエチレンオキシドの９９重量％以上を放散
せしめ、エチレンオキシド放散塔（２５）の底部よりエ
チレンオキシドを実質的に含まない温度１００〜１５０
℃の放散塔底液の一部は導管（３２）および導管（３４
）を通して熱交換器（２０）でエチレンオキシド吸収塔
（２）の塔底液と熱交換し、導管（３５）を通して、さ
らに導管（３７）に冷却水が通る冷却器（３６）により
冷却し、ついで吸収液中のエチレングリコール濃度を調
節するため新鮮な水を導管（３９）を通して導入し、必
要により、吸収液中のｐＨを調節するため水酸化カリウ
ム水溶液を添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調節するな
め消泡剤をエチレンオキシド吸収塔（２）へそれぞれ導
入することができる。

エチレンを分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレ
ンオキシド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシド
と水との加水反応で生成する副生エチレングリコールお
よびホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐなめエチ
レンオキシド放散塔（２５）の塔底より導管（３２）お
よび（３３）を通してエチレンオキシド放散塔（２５）
の底液を抜き出し、副生エチレングリコール濃縮工程に
送られる。

一方、エチレンオキシド放散塔（２５）の塔頂部より放
散されるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管（２６
）を通して、導管（２８）に冷却水が通るａｍ器（２７
）へ送り、凝縮液は導管〈２９）を通してエチレンオキ
シド放散塔（２５）の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導
管（４０）を通して脱水塔（４１）へ供給される。

脱水塔（４１）の加熱器（４８）により水蒸気またはダ
ウサム（ダウ社商品）等の加熱媒体で導管（６８）を通
して加熱するか、または直接脱水塔（４１）の下部へ水
蒸気を導入する加熱方式により加熱し、脱水塔（４１）
の塔底より導管（５０）を通してエチレンオキシドを実
質的に含まない水が抜き出される。

脱水塔（４１）の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸
気は導管（４２）を通して、導管（４４）に冷却水また
はブラインが通る凝縮器（４３）へ送り、凝縮液の一部
は導管（４６）を通して脱水塔（４１）の塔頂部へ還流
し、凝縮器（４３）の未凝縮蒸気は導管（４５）を通し
て再エチレンオキシド吸収塔（図示していない）へ供給
される。

凝縮器（４３）の凝縮液の他部は導管（４７）を通して
重質分分離塔（５１）へ供給される。

重質分分離塔（５１）の塔頂部より重質分ガスを含むエ
チレンオキシド蒸気は導管（５２）を通して凝縮器（５
３）へ送り、′１１縮液は導管（５６）を通して重質分
分離塔（５１）の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管（
５５）を通してエチレンオキシドを回収するため再エチ
レンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給される。

重質分分離塔（５１）の加熱器（７０）には二酸化炭素
放散塔く１２）の棚段または充填７１（１４）の下部か
ら導管（１５）により二酸化炭素と水蒸気の混合蒸気が
導入され加熱源とした後、導管（７１）により若干の水
蒸気を含んだ高純度二酸化炭素が得られる。

重質分分離塔（５１）の塔底液は導管（５９）を通して
エチレンオキシド精留塔（６０）へ供給される。

エチレンオキシド精留塔（６０）の加熱器（６７）によ
り水蒸気またはダウサム（ダウ社商品）等の加熱媒体で
導管（６８）を通して加熱する方式により加熱し、エチ
レンオキシド精留塔（６０）の塔底温度３５〜８５℃、
エチレンオキシド精留塔底圧力１．１〜８．２Ｋｇ／ａ
ＪＧで精留を行ない、エチレンオキシド精留塔頂より塔
頂温度２９〜８１℃、塔頂部圧力１〜８　ｋ　ｇ　／　
ａｉ　Ｇのエチレンオキシド蒸気を導管（６１）を通し
て、エチレンオキシド凝縮器（６２）へ送り、エチレン
オキシドを液化し、一部は導管（６５）を通してエチレ
ンオキシド精留塔（６０）の塔頂部へ還流液として供給
し、他部は導管（６６）を通してエチレンオキシド製品
として抜き出した。

エチレンオキシド精留塔（６０）の塔底液はアセトアル
デヒド、水、および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離
のため必要により導管（６９）を通して抜き出される。

ここで二酸化炭素放散塔（１２）より導管（１５）を通
しテ軽質１）１１ｔ”　（５１＞　）ｉｔｌ器（７０）
へ導入された二酸化炭素と水蒸気の混合蒸気は所定の熱
量を重質分分離塔（５１）に与えた後、導管（７３）に
冷却水が通る冷却器（７２）へ送られ、一部の水蒸気を
凝縮分離した後、導管（７４）により僅かの水分を含む
高純度二酸化炭素が得られる。つづいて導管（７４）か
ら脱水工程に送られ高純度二酸化炭素が得られる。

本発明をさらに詳しく述べるために従来公知のエチレン
オキシド製造プロセスにおける二酸化炭素製造方法を図
−２に基づいて説明する。

図−２においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管（１）を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔（２）の
下部へ供給し、導管（３）よりエチレンオキシド吸収塔
（２）の上部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接
触させ、反応生成ガス中の９９！量％以上のエチレンオ
キシドを回収し、エチレンオキシド吸収塔（２）の塔頂
より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活
性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデヒ
ド、酸性物質等のガスは導管（４）を通して二酸化炭素
吸収工程および／または酸化反応工程へ循環される。こ
の吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン、
酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタ
ン、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生成し
たホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒ
ド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収さ
れる。エチレンオキシド吸収塔（２）の塔底液を導管（
１９）を通して熱交換器（２０）へ送り、エチレンオキ
シド放散塔底液と熱交換して温度７０〜１１０℃に高め
、導管（２１）により気液分離タンク（２２）へ送られ
一部エチレンオキシド、水を含む不活性ガスの軽質分ガ
スが導管（２３）により分離される。軽質分ガスをフラ
ッシュした残部の吸収液を導管（２４）を通して塔頂圧
力０．１〜２Ｋｇ／ｃｊＧ、温度８５〜１２０℃のエチ
レンオキシド放散塔（２５）の上部へ供給し、エチレン
オキシド放散塔（２５）の加熱器（３０）より水蒸気ま
たはダウサム（ダウ社、熱媒体商品）等の加熱媒体で導
管（３１）を通して加熱するか、または直接エチレンオ
キシド放散塔（２５）の底部へ水蒸気を導入する加熱方
式により加熱し、吸収液中に含まれるエチレンオキシド
の９９重量％以上を放散せしめ、エチレンオキシド放散
塔（２５）の底部よりエチレンオキシドを実質的に含ま
ない温度１００〜１５０℃のエチレンオキシド放散塔底
液の一部は導管（３２）およ゛び導管（３４）を通して
熱交換器（２０）でエチレンオキシド吸収塔（２）の塔
底液と熱交換し、導管（３５）を通して、さらに導管（
３７）に冷却水が通る冷却器（３６）により冷却し、つ
いで吸収液中のエチレングリコール濃度を調節するため
新鮮な水を導管（３９）を通して導入し。

必要により、吸収液中のＰＨを調節するため水酸化カリ
ウム水溶液を添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調節する
ため消泡剤をエチレンオキシド吸収塔（２）へそれぞれ
導入することができる。エチレンを分子状酸素で酸化す
る酸化工程およびエチレンオキシド放散工程の間で吸収
液中にエチレンオキシドと水との加水反応で生成する副
生エチレングリコールおよびホルムアルデヒド等の低沸
点不純物、アセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸点不純
物の増加を防ぐためエチレンオキシド放散塔（２５）の
塔底部より導管（３２）および（３３）を通してエチレ
ンオキシド放散塔（２５）の塔底液を抜き出し、副生エ
チレングリコール濃縮工程に送られる。

一方、エチレンオキシド放散塔（２５）の塔頂部より放
散されるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管（２６
）を通して、導管（２８）に冷却水が通る凝縮器（２７
）へ送り、凝縮液は導管（２９）を通してエチレンオキ
シド放散塔（２５）の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導
管（４ｏ）を通して脱水塔（４１）へ供給される。

脱水Ｐｓ（４１＞の加熱器（４８）により水蒸気または
ダウサム（ダウ社商品）等の加熱媒体で導管（４９）を
通して加熱するか、または直接脱水塔（４１）の下部へ
水蒸気を導入する加熱方式により加熱し、脱水塔（４１
）の塔底より導管（５０）を通しそエチレンオキシドを
含まない水が抜き出される。

脱水塔（４１）の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸
気は導管（４２）を通して、導管（４４）に冷却水また
はブラインが通る凝縮器（４３）へ送り、凝縮液は導管
（４６）を通して脱水塔、（４１）の塔頂部へ還流し、
凝縮器（４３）の未凝縮蒸気は導管（４５）を通して再
エチレンオキシド吸収塔（図示していない）へ供給され
る。

ａｍ器（４３）のａ縮液の他部は導管（４７）を通して
軽質分分離塔（５１）へ供給される。

軽質分分離塔（５１）の加熱器（５７）へ水蒸気または
ダウサム（ダウ社商品）等の加熱媒体で導管（５８）を
通して加熱する方式により加熱し、軽質分分離塔（５１
）の塔頂部より軽質分を含む゛　　エチレンオキシド蒸
気は導管（５２）を通して凝縮器（５３）へ送り、凝縮
液は導管（５６）を通して軽質分分離塔（５１）の塔頂
部へ還流し、未凝縮蒸気は導管（５５）を通してエチレ
ンオキシドを回収するなめ再エチレンオキシド吸収塔（
図示してない）へ供給される。軽質分分離塔（５１）の
塔底より導管（５９）を通してエチレンオキシド精留塔
（６０）へ供給される。

エチレンオキシド精留塔（６０）の加熱器（６７）によ
り水蒸気またはダウサム（ダウ社商品）等の加熱媒体で
導管（６８）を通して加熱する方式により加熱し、エチ
レンオキシド精留塔（６０）の加熱器（６７）へ導管（
６８）より圧力２．２ｋｇ／ｃｊＧの水蒸気を供給し、
エチレンオキシド精留塔（６０）の塔底温度６２℃、エ
チレンオキシド精留塔底圧力３．７ｋｇ／’ａｊＧで精
留を行ない、エチレンオキシド精留塔頂より塔頂温度５
４℃、塔頂圧力３．５ｋｇ／ｃｊＧのエチレンオキシド
蒸気を導管（６１）を通して、凝縮器（６２）へ送りエ
チレンオキシド蒸気は液化し、液化した一部は導管（６
５）を通してエチレンオキシド精留塔（６０）の塔頂部
へ還流液として導入し、液化した他部は導管（６６）を
通してエチレンオキシド製品として抜き出される。

エチレンオキシド精留塔（６０）の凝輸器（６２）の未
凝縮蒸気は導９Ｃ６４＞を通してエチレンオキシドを回
収するため再エチレンオキシド吸収塔（図示してない）
へ供給される。

エチレンオキシド精留塔（６０）の塔底液はアセトアル
デヒド、水、および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離
のなめ必要により導管（６９）を通して抜き出される。

このプロセスにおいて、二酸化炭素放散塔（１２）の塔
頂部より水蒸気を含む二酸化炭素が導管（１３）により
、導管（７７）に水が通る凝縮器（７６）へ送られ、二
酸化炭素に同伴している水蒸気が凝縮分離された後、導
管（７９）により、不純物を含有する二酸化炭素は、二
酸化炭素精製工程に送られ不純物を除去した後、純度の
高い二酸化炭素として得られる。

（実　施　例） 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。し
かし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を規
制するものでない。

実施例　１ 図−１において、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸
素含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオ
キシドを含む反応生成ガスを導管（１）を通して、充填
塔あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔（２）
の下部へ供給し、導管（３）よりエチレンオキシド吸収
塔（２）の上部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流
接触させ、反応生成ガス中の９９重１％以上のエチレン
オキシドを回収し、エチレンオキシド吸収塔（２）の塔
頂より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不
活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデ
ヒド、酸性物質等のガスは導管（４）を通して二酸化炭
素吸収工程および／または酸化反応工程へ循環しな、こ
の吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン、
酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタ
ン、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生成し
たホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒ
ド、＃酸等の高沸点不純物もその実ｉｔが同時に吸収さ
れた。エチレンオキシド吸収塔（２）の塔底液を導管（
１９）を通して熱交換器（２０）へ送り、エチレンオキ
シド放散塔底液と熱交換して温度１０５℃に高め、導管
（２１）により気液分離タンク（２２）へ送り、一部エ
チレンオキシドおよび水を含む軽質分ガスが導管（２３
）により分離された。軽質分ガスをフラッシュした残部
の吸収液は導管（２４）を通して塔頂圧力０．４Ｋｇ／
ｃｊＧ、温度９９．６℃のエチレンオキシド放散塔（２
５）の上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔（２５）
の加熱器（３０）より水蒸気を通して加熱し、吸収液中
に含まれるエチレンオキシドの９９１１量％以上を放散
せしめ、エチレンオキシド放散塔（２５）の底部よりエ
チレンオキシドを実質的に含まない温度１１４℃のエチ
レンオキシド放散塔底液の一部は導管（３２）および導
管（３４）を通して熱交換器（２０）でエチレンオキシ
ド吸収塔（２）の塔底液と熱交換し、導管（３５）を通
して、さらに導管（３７）に冷却水が通る冷却器（３６
）により冷却し、ついで吸収液中のエチレングリコール
濃度を調節するため新鮮な水を導管（３９）を通して導
入した。

エチレンを分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレ
ンオキシド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシド
と水との加水反応で生成する副生エチレングリコールお
よびホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチ
レンオキシド放散１５　（１１）の塔底より導管（１４
）および（２２）を通してエチレンオキシド放散塔（２
５）の底液を抜き出し、副生エチレングリコール濃縮工
程に送った。

一方、エチレンオキシド放散塔（２５）の塔頂部より放
散されるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管（２６
）を通して、導管（２８）に冷却水が通る凝縮器（２７
）へ送り、凝縮液は導管（２９）を通してエチレンオキ
シド放散塔（２５）の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導
管（４０）を通して脱水塔（４１）へ供給された。

また脱水塔（４１）の加熱は直接、脱水塔（４１）の下
部へ水蒸気を導入する加熱方式により加熱し、脱水塔（
４１）の塔底より導管（５０）を通して実質的にエチレ
ンオキシドを含まない水が抜き出された。

脱水塔（４１）の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸
気は導管（４２）を通して、導管（４４）にブラインが
通る凝縮器（４３）へ送り、凝縮液の一部は導管（４６
）を通して脱水塔（４１）の塔頂部へ還流し、１１縮器
（４３）の未凝縮蒸気は導管（４５）を通して再エチレ
ンオキシド吸収塔（図示していない）へ供給した。

凝縮液の他部は導管（４７）を通して軽質分分離塔（５
１）へ供給した。

軽質分分離塔（５１）の加熱器（７０）に、二酸化炭素
放散塔（１２）の充填層（１４）の下部から導管（１５
）により二酸化炭素と水蒸気の混合蒸気を導入し、軽質
分分離塔（５１）に熱量を与え、７０℃まで混合蒸気は
温度低下した。さらに軽質分分離塔（５１）の加熱器（
７０）を出た混合蒸気は導管（７１）を通して、導管（
７３）に冷却水が通る冷却器（７２）に導き、水蒸気を
ｆ１１１１ａ分離した後、導管（７４）より高純度二酸
化炭素が得られた。導管（７４）の二酸化炭素中の不純
物濃度は乾燥二酸化炭素に対してエチレン、メタン、エ
タン等の炭化水素の合計量は０．１容ｔｐｐｍ、酸素２
容１！、ｐｐｍおよび窒素４容量ｐｐｍであった。

軽質分分離塔（４１）の塔頂部より軽質分ガスを含むエ
チレンオキシド蒸気は導管（５２）を通して凝縮器（５
３）へ送り、凝縮液は導管（５６）を通して軽質分分醍
塔（５１）の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管（５５
）を通してエチレンオキシドを回収するため再エチレン
オキシド吸収塔（図示してない）へ供給した。軽質分分
離塔（５１）の塔底液は導管（，５９）を通してエチレ
ンオキシド精留塔（６０）へ供給した。

エチレンオキシド精留塔（６０）の加熱器（６７）によ
り水蒸気で導管（６８）を通して加熱する方式により加
熱し、エチレンオキシド精留塔（６０）の塔底温度６０
℃、エチレンオキシド精留塔底圧力３．２ｋｇ／ＪＧで
精留を行ない、エチレンオキシド精留塔頂より塔頂温度
５１℃、塔頂部圧力３．０ｋｇ／ａｉＧのエチレンオキ
シド蒸気を導管（６１）を通して、エチレンオキシド凝
縮器（６２）へ送り、エチレンオキシドを液化し、一部
は導管（６５）を通してエチレンオキシド精留塔（６０
）の塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管（６６）
を通してエチレンオキシド製品として抜き出した。

エチレンオキシド凝縮器（６２）の未凝縮蒸気は導管（
６４）を通してエチレンオキシドを回収するため再エチ
レンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給した。

エチレンオキシド精留塔（６０）の塔底液はアセトアル
デヒド、水および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離の
ため必要により導管（６９）を通して抜き出された。

表−１にこのプロセスの連続操作条件を一括して表示す
る。

比較例　１ 図−２においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管（１）を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔（２）の
下部へ供給し、導管（３）よりエチレンオキシド吸収塔
（２）の上部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接
触させ、反応生成ガス中の９９重量％以上のエチレンオ
キシドを回収し、エチレンオキシド吸収塔（２）の塔頂
より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活
性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデ辷
ド、酸性物質等のガスは導管（４）を通して二酸化炭素
吸収工程および／まなは酸化反応工程へ循環した。この
吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン、酸
素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン
、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生成した
ホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒド
、酢酸等の高沸点不純物もその実＊、１が同時に吸収さ
れた。エチレンオキシド吸収塔（２）の塔底液を導管（
１９）を通して熱交換器（２０）へ送りエチレンオキシ
ド放散塔底液と熱交換して温度１０５℃に高め、導管（
２１）により気液分離タンク（２２）へ送られ一部エチ
レンオキシドを含む軽質分ガスが導管（２３）により分
離した。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収液を導
管（２４）を通して塔頂圧力０．４Ｋｇ／′−Ｇ、温度
９９．６℃のエチレンオキシド放散塔（２５）の上部へ
供給し、エチレンオキシド放散塔（２５）の加熱器（３
０）より水蒸気により加熱し、吸収液中に含まれるエチ
レンオキシドの９９重量％以上を放散せしめ、エチレン
オキシド放散塔（２５）の底部よりエチレンオキシドを
実質的に含まない温度１１４℃のエチレンオキシド放散
塔底液の一部は導管（３２）および導管（３４）を通し
て熱交換器（２０）でエチレンオキシド吸収塔（２）の
塔底液と熱交換し、導管（３５）を通して、さらに導管
（３７）に冷却水が通る冷却器（３６）により冷却し、
ついで吸収液中のエチレングリコール濃度を調節するた
め新鮮な水を導管（３９）を通して導入しな、エチレン
を分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレンオキシ
ド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと水との
加水反応で生成する副生エチレングリコールおよびホル
ムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよ
び酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチレンオキ
シド放散塔（２５）の塔底部より導管（３２）および（
３３）を通してエチレンオキシド放散塔（２５）の底液
を抜き出し、副生エチレングリコール濃縮工程に送った
。

一方、エチレンオキシド放散塔（２５）の塔頂部より放
散されるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管（２６
）を通して、導管（２８）に冷却水が通るａ２縮器（２
７）へ送り、凝縮液は導管（２９）を通してエチレンオ
キシド放散塔（２５）の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は
導管（４０）を通して脱水塔（４１）へ供給した。

また脱水塔（４１）の加熱は直接脱水塔（４１）の下部
へ水蒸気を導入する加熱方式により加熱し、脱水塔（４
１）の塔底より導管（５０）を通してエチレンオキシド
を含まない水が抜き出された。

脱水塔（４１）の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸
気は導管（４２）を通して、導管（４４）にブラインが
通るａ縮器（４３）へ送り、凝縮液の一部は導管（４６
）を通して脱水塔（４１）の塔頂部へ還流し、凝縮器（
４３）の未凝縮蒸気は導管（４５）を通して再エチレン
オキシド吸収塔（図示してない）へ供給した。

＃縮器（４３）の凝縮液の他部は導管（４７）を通して
重質分分離塔（５１）へ供給された。

重質分分離塔（５１）の加熱器（５７）により水蒸気を
導管（５８）を通して加熱する方式により加熱し、軽質
骨分１１ｊｆｆ　（５１）の塔頂部より重質分を含むエ
チレンオキシド蒸気は導管（５２）を通してＪｆ縮器（
５３）へ送り、ａｉｍ液は導管（５６）を通して重質分
分離塔（５１）の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管（
５５）を通してエチレンオキシドを回収するなめ再エチ
レンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給された。

重質分分離塔（５１）の塔底より導管（５９）を通して
エチレンオキシド精留塔（６ｏ）へ供給された。

エチレンオキシド精留塔（６０）の加熱器（６７）によ
り水蒸気を導管（６８）を通して加熱する方式により加
熱し、エチレンオキシド精留塔（６０）の加熱器（６７
）へ導管（６８）より圧力２．２ｋｇ１０ＩＩＧの水蒸
気を供給し、エチレンオキシド精留塔（６０）の塔底温
度６０℃、エチレンオキシド精留塔底圧力３．２ｋｇ／
ａＪＧ”ｔ’ｌｌ留を行ない、エチレンオキシド精留塔
頂より塔頂温度５１℃、塔頂圧力３．０ｋｇ／ａＪＧの
エチレンオキシド蒸気を導管（６１）を通して、凝縮器
（６２）へ送りエチレンオキシド蒸気は液化し、液化し
た一部は導管（６５）を通してエチレンオキシド精留塔
（６０）の塔頂部へ還流液として導入し、液化した他部
は導管（６６）を通してエチレンオキシド製品として抜
き出された。

エチレンオキシド精留塔（６０）の凝縮器（６２）の未
凝縮蒸気は導管（６４）を通してエチレンオキシドを回
収するため再エチレンオキシド吸収塔（図示してない）
へ供給された。

エチレンオキシド精留塔（６０）の塔底液はアセトアル
デヒド、水および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離の
ため必要により導管（６９）を通して抜き出された。

表−２にこのプロセスの連続操作条件を一括して表示す
る。

このプロセスにおいて、二酸化炭素放散塔（１２）の塔
頂蒸気は導管（１３）を通して、導管（７７）に冷却水
が通る凝縮器（７６）へ送られ、同伴している水蒸気は
凝縮分離し、少量の水を同伴している二酸化炭素は、導
管（７９）を通して得られた。このガスの組成は、乾燥
二酸化炭素に対してエチレン３０００容量ｐｐｍ、メタ
ン３５００容量ｐｐｍ、Ｍ素４０００容量ｐｐｍであっ
た。

（発明の効果） 本発明の方法によれば、二酸化炭素放散塔の中段より、
ガスを抜き出すことにより高純度二酸化炭素を取得する
ことが可能になり、同時にエチレンオキシド精製工程中
の重質分分離塔の加熱に要する外部からの加熱蒸気を大
幅に減少することができる効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

図−１は、本発明のエチレンオキシド精留方法の好まし
い具体例を示す一例である。 図−２は、本発明に関連する公知のエチレンキシド精留
方法を示す一例である。 （２）　　エチレンオキシド吸収塔 （２０）　　熱交換器 （７）　　二酸化炭素吸収塔 （１０）　　反応器 （１２）　　二酸化炭素放散塔 （１７）　　二酸化炭素放散塔加熱器 （２２）　　気液分離タンク （２５）　　エチレンオキシド放散塔 （３０）　　エチレンオキシド放散塔加熱器（３６）　
　吸収液冷却器 （２７）　　エチレンオキシド放散塔凝縮器（４１）　
　脱水塔 （４８）　　脱水塔加熱器 （４３）　　脱水塔ａｎｔ器 （５１）　　重質分分離塔

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガス
   と接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを含有す
   る反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収
   液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりの
   ガスの一部はエチレン酸化反応工程へ循環し、残部を二
   酸化炭素吸収塔へ導き、アルカリ性吸収液と向流接触さ
   せて二酸化炭素をアルカリ性吸収液に吸収せしめ、つい
   でアルカリ性吸収液を二酸化炭素放散塔へ導き、二酸化
   炭素放散塔底部を加熱することにより二酸化炭素を放散
   分離し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド吸収
   塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレンオ
   キシド放散塔頂からエチレンオキシドを放散せしめ、エ
   チレンオキシドおよび水を含む留出液を凝縮させ、未凝
   縮ガスは脱水塔へ供給し、水分を分離し、ついで軽質分
   分離塔で軽質分を分離し、ついでエチレンオキシド精留
   塔でエチレンオキシドを精留する工程において、二酸化
   炭素吸収塔で吸収された二酸化炭素含有吸収液を二酸化
   炭素放散塔の気液接触部上へ供給し、該気液接触部の上
   部で発生する放散ガスは分離し、該気液接触部以下で発
   生する放散物を軽質分分離塔の加熱源に使用した後、二
   酸化炭素を回収することを特徴とする高純度二酸化炭素
   の回収方法。