JPS63185038A - 半導体用プロ−ビング装置 - Google Patents

半導体用プロ−ビング装置

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JPS63185038A
JPS63185038A JP1760787A JP1760787A JPS63185038A JP S63185038 A JPS63185038 A JP S63185038A JP 1760787 A JP1760787 A JP 1760787A JP 1760787 A JP1760787 A JP 1760787A JP S63185038 A JPS63185038 A JP S63185038A
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JP
Japan
Prior art keywords
wafer
wafers
chuck
tops
same time
Prior art date
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Granted
Application number
JP1760787A
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English (en)
Other versions
JPH0575177B2 (ja
Inventor
Toshiyuki Sugai
菅井 敏幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Yamagata Ltd filed Critical NEC Yamagata Ltd
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Publication of JPS63185038A publication Critical patent/JPS63185038A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕・ 本発明は、半導体製造のウェーハ段階においてペレダト
の試験(以下P/Wチェダクという)を行なう時のウェ
ーハプロービング装置に関し、特に、1台で同時に複数
枚のウェーハのプロービングを可能とするウェーハプロ
ービング装置に関するO 〔従来の技術〕 従来、この種のプロービング装置は搬送系とアライメン
ト系(ウェーハの向きをある方向にセヴトシ、探針ズレ
のなめようにする)によって構成されておfi、P/W
チェダクの実施の時にはウェーハをチャックトップ(ウ
ェーハを真空で吸引し固定し、P/Wチェック時に移動
する台)に乗せて行なうことができる。しかし、従来の
設備では1度に1枚のウェーハしかP/Wチェダクが出
来ない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来のウェーハプロービング装置は無人化が進
み処理能力も向上してきているが、1度に1枚のウェー
ハしか処理できないために、同時に複数枚のウェーハの
P/Wチェックを実施するためには複数台のプロービン
グ装置が必要となると−う欠点がある。
〔問題点を解決するための手段〕□ 本発明のプロービング装置は、複数個のチャックトップ
又は大きなチャ嗜りトップなどと、それらを動かす連動
支持柱及びチャックトップを動かしたシ、目合わせの微
詞整を行なう動力を有し、それぞれのチャックトップに
セットするウェーハに対し個々に測定用治具を配置する
ことにし、治具のセット及び目合わせ等の作業性を考慮
し、測定用治具の移動ができるように測定治具用支持台
や回転支持体を有している。
〔実施例〕
以下本発明について図面を参照して詳細に説明する。
、第1図は本発明の一実施例で、チャダクトダブを2ケ
セ−yトした場合の主要箇所のみ示した断面図である。
チャダクトダブ5の下にチャックトップ6を配置し、そ
れぞれのチャックトップを連動支持柱10にて連結し、
ステージ移動用動力11にて同時に2つのチャ雫り)w
プを動かすことができる。又、それぞれのチャックトッ
プ上にウェーハ3.ウエーハ4をローディングし、ウェ
ーハ測定治具山。
ウェーハ測定治具(2)によシ同時に2枚のウェーハつ
まシは、2つのICを測定することができる。
測定を開始する前に目ずれのないように設定する必要が
あるが、初めに回転支持体12によって、上方にあるウ
ェーハ測定用治具(1)を回転させ、下方のウェーハ(
2)の目合わせを行ない、その後上方のウェーハtit
の目合わせを行なうことによシ実現可能である。
以上の機構によシ従来1枚のクエーノ1のP/Wチェッ
クに要した時間で2枚のウェーハのP/Wチェ雫りが可
能となり又、信頼性が1台の場合と同等のものが得られ
る。
チャックトップを増やし、又測定用治具、連動支持柱を
増やすことにより本発明では複数枚のウェーハt−同時
にプロービングすることが可能になる0 第2.第3因はそれぞれ本発明の実施例2の平面図、断
面図で、1ケのチャック)wプに2枚のウェーハをロー
ディングした場合を示している。
1枚の大きなチャックトップ図2の71図3の4に2枚
のウェーハ位置調整台(図3の9)を設け、ウェーハ微
調支持棒(図3の3)にてウェーハの位置調整を行なう
ことによシ1枚のチャックトップ上に2枚のウェーハを
セ、)し、同時に2枚のウェーハを処理することができ
る。
P/Wチェヴク時にはウェーハ支持棒が、チャダクトダ
ブの中に沈み、ウェーハを真空で引くようにしてめる。
又、ウェーハ径の大きさが変わった時にはチャックトッ
プを大きくシ、測定治具(図2の1.2)間隔を治具鯛
整器(図2の8)で調整することによシ対処することが
できる。
チャックトップの面積を大きくシ、ウェー/S位置調整
部分、測定治具を増やすことによシ、複数枚のウェーハ
を同時にプロービングすることが可能になる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、ウェーハのプロービング
装置においてウェーハを乗せるチャダクトダブを複数枚
のウェーハがローディングできるように工夫し、同時に
複数枚のウェー/Sのプロービングが可能となることに
よυ同時に複数枚のウェーハをP/Wチェックすること
が可能となる。
これによってウェーハ1枚当シのテスティングコストを
小さくすることかで@、ICのテストシステムのスルー
プ雫トを大幅に向上できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1の主要箇所のみ示したプロー
ビング装置の断面図、第2図、第3図はそれぞれ実施例
2の平面図、断面図である。 〔第1図〕 1・・・・・・ウェーハ測定治具+1)、2・・・・・
・ウェーハ測定治具+21.3・・・・・・ウェーハ(
1)、4・・・・・・ウェーハ(2)、5・・・・・・
チャダクトダブ(1)、6・・・・・・チャダクトダブ
(2)、7・・・・・−測定治具支持台(11,8・・
・・・・測定治具支持台+21.9・・・・・・プロー
ビング装置本体、10・・・・・・連動支持柱、11・
・・・・・ステージ移動用動力、12・・・・・・回転
支持体、 〔第2図〕 1・・・・・・ウェーハ測定治具fi+、2・・・・・
・ウェーハ測定治具t21.3・・・・・・ウェーハ+
11.4・・・・・・ウェーハ(2)、5・・・・・・
ウェーハ移動溝+11.6・・・・・・ウェーハ移動溝
121.7・・・・・・チャダクトツブ、8・・・・・
・治具調整器。 〔第3図〕 1・・・・・・ウェーハ測定用治具、2・・・・・・ウ
ェーハ、3・・・・・・ウェーハ微開支持棒、4・・・
・・・チャックトップ、5・・・・・・支柱、6・・・
・・・回転支持体、7・・・・・・治具調整器、8・・
・・・・ステージ移動用動力、9・・・・・・ウェーハ
位置調整台。 代理人 弁理士  内 原   音 第71!1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェーハ状態で半導体の特性を測定するシステムの一部
    であるプロービング装置に於て、1台で同時に複数枚の
    ウェーハプロービングを可能とすることを特徴とする半
    導体用プロービング装置。
JP1760787A 1987-01-27 1987-01-27 半導体用プロ−ビング装置 Granted JPS63185038A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1760787A JPS63185038A (ja) 1987-01-27 1987-01-27 半導体用プロ−ビング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1760787A JPS63185038A (ja) 1987-01-27 1987-01-27 半導体用プロ−ビング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63185038A true JPS63185038A (ja) 1988-07-30
JPH0575177B2 JPH0575177B2 (ja) 1993-10-20

Family

ID=11948571

Family Applications (1)

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JP1760787A Granted JPS63185038A (ja) 1987-01-27 1987-01-27 半導体用プロ−ビング装置

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JP (1) JPS63185038A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100751495B1 (ko) * 2006-05-25 2007-08-23 이종대 반도체웨이퍼 분류장치 및 그것을 이용한 분류방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58196029A (ja) * 1982-05-11 1983-11-15 Nec Corp プロ−ブカ−ド切替装置
JPS5972146A (ja) * 1982-10-18 1984-04-24 Nec Corp ウエハ−プロ−ビング装置
JPS6139629A (ja) * 1984-07-30 1986-02-25 Fujitsu Ten Ltd 無線装置

Patent Citations (3)

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Publication number Publication date
JPH0575177B2 (ja) 1993-10-20

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