JPS63189417A - ポリウレタン成形品の製法 - Google Patents

ポリウレタン成形品の製法

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JPS63189417A
JPS63189417A JP62021137A JP2113787A JPS63189417A JP S63189417 A JPS63189417 A JP S63189417A JP 62021137 A JP62021137 A JP 62021137A JP 2113787 A JP2113787 A JP 2113787A JP S63189417 A JPS63189417 A JP S63189417A
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polyol
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low
polyamine
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JP62021137A
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Toru Nakanishi
徹 中西
Kohei Maeda
浩平 前田
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Sanyo Chemical Industries Ltd
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Sanyo Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はポリウレタン成形品の製法に関する。゛[従来
の技術] 従来、ポリウレタン成形品の製法として、ポリイソシア
ネートと高分子ポリオールと低分子ポリアミンなどの架
橋剤とを、触媒、および発泡剤(水)を用いて製造する
方法が知られている(たとえば特公昭54−17359
号公報)。
[発明が解決しようとする問題点] しかし従来のポリウレタン成形法では、剛性を上げると
衝撃強度が低い成形品となり、成形においても脱型時バ
リ強度が不足し金型掃除に長時間を要する等の問題点が
ある。
[問題点を解決する為の手段] 本発明者らは衝撃強度とパリ強度の改善されたポリウレ
タン成形品の製法を見出すべく鋭意検討を重ねた結果2
本発明に到達した。すなわち2本発明はポリイソシアネ
ートと高分子ポリオールと架橋剤とを必要により触媒1
発泡剤およびその他の添加剤の存在下に、型内で反応ざ
ぜて発泡または非発泡のポリウレタン成形品を製造する
方法において、架橋剤の少なくとも一部として、一般式
(式中、Zは芳香族ポリアミンの残基、Aは炭素数2〜
4のアルキレン基、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキ
ル基、mはO〜4の整数、nは1〜4の整数、pは2〜
4の整数である。)で示される化合物(A)、低分子ポ
リアミン(B)及び必要により低分子ポリオール(C)
を用いることを特徴とするポリウレタン成形品の製法で
ある。
一般式(1)において、Zの芳香族ポリアミンの残基を
形成する芳香族ポリアミンとしては特開昭61−171
720号公報記載の、非置換芳香族ポリアミン、核置換
アルキルを有する芳香族ポリアミンおよび核置換電子吸
引基を有する芳香族ポリアミン。
具体的には二フェニレンジアミン、トリレンジアミン(
以下、TDAと略記)、クルードトリレンジアミン、ジ
エチルトリレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン(
以下MDAと略記)、クルードMDA、ナフタレンジア
ミン、ジアミノジフェニルスルホン、ベンジジン、4,
4“−ビス(o−トルイジン〉、チオジアニリン、ジア
ニシジン、メチレンビス(0−クロロアニリン)、ビス
(3,4−ジアミノフェニル)スルホン、ジアミノジト
リルスルホン、2,6−ジアミツピリジン、4−クロロ
−O−フェニレンジアミン、4−メトキシ−6−メチル
−m−フェニレンジアミン、m−アミノベンジルアミン
、 4.4’ジアミノ−3,3゛−ジメチルジフェニル
メタン、4,4゜−ジアミノ−3,3−ジクロロジフェ
ニルメタンなどおよびこれらの2種以上の混合物があげ
られる。
これらのうちで好ましいのはMDA、TDAおよび4,
4−ジアミノ−3,3°−ジクロロジフェニルメタンで
あり、特に好ましいのはMDAである。
Aのアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基
、ブチレン基およびこれらの2種以上の併用があげられ
る。好ましいのはエチレン基、プロピレン基および両者
の併用である。
m、nは好ましくは1〜2の整数である。pは好ましく
は2である。
Rの炭素数1〜4のアルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基。
n−ブチル基、イソブチル基およびt−ブチル基があげ
られる。Rのうち好ましくは水素およびメチル基である
(A>のうち、好ましいのは一般式 (式中、Aは炭素数2〜4のアルキレン基2m゛。
mII、 nl、 nl′は1〜4の整数である。)で
示される化合物である。
一般式(2)で示される化合物(A>の具体例としては
MDAのプロピレンオキサイド(以下POと略記)2モ
ルとエチレンオキサイド(以下EOと略記)2モル付加
物、MDAのPO4モル付加物などがあげられる。
本発明において用いられる低分子ポリアミン(B)とし
ては(1)脂肪族ポリアミン類(C2〜018)、たと
えば;C2〜C6アルキレンジアミン[エチレンジアミ
ン、トリメチレンジアミン。
テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなど
]、ポリアルキレン(C−06)ボリアミン[ジエチレ
ントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス(ヘキ
サメチレン)トリアミン。
トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、
ペンタエチレンヘキサミンなど]、これらのアルキル(
C1〜C4)またはヒドロキシアルキル(C2〜C4)
置換体[ジアルキル(C1〜C3)アミノプロピルアミ
ン、アミノエチルエタノールアミン、メチルイミノビス
プロピルアミンなど]:脂環または複素環含有脂肪族ポ
リアミン[3,9−ビス(3−アミノプロピル−2,4
,8,10〜テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン
なと]:芳香環含有脂肪族アミン類(C8〜C15)[
キシリレンジアミン、テトラクロル−叶キシリレンジア
ミンなど]; (2)脂環式または複素環式ポリアミン類(04〜C1
5)、たとえば:メンタンジアミン、ピペラジン、N−
アミノエチルピペラジン、1,3−ジアミノシクロヘキ
サン、イソホロンジアミン、水添メチレンジアニリンな
ど: (3)芳香族ポリアミン類(C6〜C2o)、たとえば
特開昭61−171720号公報記載の非置換芳香族ポ
リアミン、核置換アルキルを有する芳香族ポリアミンお
よび核置換電子吸引基を有する芳香族ポリアミン、具体
的には二フェニレンジアミン、TDA、クルードTDA
、ジエチルトリレンジアミン。
MDA、クルードMDA、ジアミノジフェニルスルホン
、ベンジジン、4,4−ビス(0〜トルイジン)。
チオジアニリン、ジアニシジン、メチレンビス(O−ク
ロロアニリン)、ビス(3,4−ジアミノフェニル)ス
ルホン、ジアミノジトリルスルホン、2゜6−ジアミツ
ピリジン、4−クロロ−0−フェニレンジアミン、4−
メトキシ−6−メチル−m−フェニレンジアミン、m−
アミノベンジルアミン、4,4°−ジアミノ−3,3゛
−ジメチルジフェニルメタン、4,4°−ジアミノ−3
,3−ジクロロジフェニルメタンなど:およびこれらの
2種以上の混合物があげられる。これらのうちで好まし
いのはジエチルトリレンジアミンおよび4.4−ジアミ
ノ−3,3−ジクロロジフェニルメタンである。
必要により用いられる低分子ポリオール(C)としては
エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオー
ルなどの2価アルコール:グリセリン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、α−
メチルグルコシド、ソルビトール、キシリット、マンニ
ット。
ジペンタエリスリトール、グルコース、フルクトース、
ショ糖などの3価以上の多価アルコール:低分子量(た
とえば分子1200〜400)の多価アルコールのアル
キレンオキサイド(以下AOと略記)付加物(ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコールなと):環
状基を有する低分子ジオール類(たとえば特公昭45−
1474号記載のものおよび:ビスフェノールAのPO
付加物):チオジエチレングリコールなどがあげられる
。これらのうちで好ましいのはエチレングリコールおよ
びトリメチロールプロパンである。
本発明において用いられる高分子ポリオールとしては、
ポリウレタン製造に普通に用いられているものが使用で
きる。このようなポリオールとしては、たとえば特願昭
61−20329号明細書とか、特願昭59−1991
60号明細書記載のもの(ポリエーテルポリオール、ポ
リエステルポリオール、これらの重合体ポリオール、こ
れらの変性されたポリオールなと)、ポリカーボネート
ジオール(たとえば特願昭60−263255号明細書
記載のもの)などをあげることができる。これらのポリ
オールは通常2〜8個の水酸基と200〜4,000の
OH当量好ましくは2〜4個の水酸基と400〜3,0
00のOH当量を有している。また通常15〜50.好
ましくは20〜40のOH価を有している。これらの中
で好ましいのはポリエーテルポリオール(多価アルコー
ル。
多価フェノール、アミン類、ポリカルボン酸、リン酸な
どの活性水素原子含有多官能化合物にAOが付加した構
造の化合物およびこれらの2種以上の混合物)である。
活性水素原子含有多官能化合物のうち好ましいのは多価
アルコール(プロピレングリコール、グリ゛セリン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなど)、
AOのうちで好ましいのはEO,PO,ブチレンオキシ
ドである。ざらに好ましいポリエーテルポリオールは分
子中に任意に分布されたEO鎖を0〜50重量%有し、
かつO〜30重母%のEO鎖が分子末端にチップされた
ものである。特に好ましいポリエーテルポリオールは5
〜40重量%の分子中に任意に分布されたEO鎖を含有
し、5〜25重量%のEO鎖が分子末端にチップされた
ものである。またポリエーテルポリオールの第1級水酸
基含有率は通常O〜100%、好ましくは30〜100
%、更に好ましくは50〜100%。
最も好ましくは70〜100%である。
(A)の使用量は高分子ポリオール及び架橋剤の合計重
量に基づいて通常5〜60%、好ましくは8〜50%、
更に好ましくは10〜45%である。(A>の使用量が
5%未満では剛性、vE撃強度とも低くなり、 60%
を越えると粘度が高くなり作業性が悪い。
(B)の使用量は高分子ポリオール及び架橋剤の合計重
量に基づいて通常3〜30%、好ましくは5〜25%、
更に好ましくは8〜20%である。(B)の使用量が3
%未満では剛性の高い成形品が得られない。30%を越
えると反応が速すぎて成形品にシンクマークや欠肉など
の表面不具合が生じる。
(C)の使用量は高分子ポリオール及び架橋剤の合計重
量に基づいて通常40%以下、好ましくは30%以下、
更に好ましくは0〜25%である。(C)の使用量が4
0%を越えると衝撃強度が良好な成形品が得られない。
高分子ポリオールの使用量は高分子ポリオール及び架橋
剤の合計重量に基づいて通常40〜80%。
好ましくは50〜75%、更に好ましくは55%〜70
%である。高分子ポリオールの使用量が40%未満では
硬くて脆い成形品となり80%を越えると剛性が低い成
形品となる。
本発明において使用するポリイソシアネートとしては従
来からポリウレタン製造に使用されているものが使用で
きる。このようなポリイソシアネートとしては、炭素数
(NGO基中の炭素を除り)6〜20の芳香族ポリイソ
シアネート、たとえば2,4−および/または2.6−
ドリレンジイソシアネート(以下TDIと略記)、粗製
TDI、2,4°−および/または4,4°−ジフェニ
ルメタンジインシアネート(以下MDIと略記)、粗製
MDI−[粗製ジアミノフェルメタン(ホルムアルデヒ
ドと芳香族アミン(アニリン)またはその混合物との縮
合物生成物ニジアミノジフェニルメタンと受註(たとえ
ば5〜20重量%)の3官能以上のポリアミンとの混合
物)のホスゲン化物:ボリアリールポリイソシアネート
(PAPI)など];炭素数2〜18の脂肪族ポリイソ
シアネート(たとえばヘイキサメチレンジイソシアネー
ト、およびリジンジイソシアネート):炭素数4〜15
の脂環式ポリイソシアネート(たとえばイソホロンジイ
ソシアネート、およびジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート):炭素数8〜15の芳香脂肪族ポリイソシア
ネート(たとえばキシリレンジイソシアネート):およ
びこれらのポリイソシアネートの変性物(ウレタン基、
カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビュ
ーレット基、ウレトジオン基、ウレトンイミン基、イソ
シアヌレート基、オキサゾリドン基含有変性物など):
および特願昭59−199160号公報記載の上記以外
のポリインシアネート:およびこれらの2種以上の混合
物があげられる。
これらのちで好ましいものは、商業的に容易に入手でき
るポリイソシアネート、例えば2,4−および2.6−
TDI、およびこれらの異性体の混合物、粗製TDI、
4.4−および2,4°−NDI、およびこれらの異性
体の、混合物、粗製MDIとも称せられるPAPI、お
よびこれらポリイソシアネート類より誘導されるウレタ
ン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基
、ビューレット基、イソシアヌレート基を含有する変性
ポリイソシアネート類である。
本発明において、ポリウレタン成形品の製造に際しての
イソシアネート指数[NGO/活性水素原子含有基 の
当量比x 1001は2通常80〜120.好ましくは
85〜110.とくに好ましくは95〜10Bである〔
*カルボキシル基以外の活性水素原子含有基(水酸基、
アミノ基)の合計〕。またイソシアネート指数を上記範
囲より大幅に高くして(たとえば300〜i 、 oo
oまたはそれ以上)ポリウレタン中にポリイソシアヌレ
ートを導入することもできる。
本発明において9反応を促進させるため、ポリウレタン
反応に通常使用される触媒[たとえばアミン系触媒(ト
リエチレンアミン、N−エチルモルホリンなどの3級ア
ミン)、錫系触媒(オフチー ル酸第1スズ、ジブチル
チンジラウレートなど)およびその他の金属触媒(オク
チル酸鉛なと)]を使用することができる。触媒の量は
1反応混合物の重量に基づいて1例えば約o、 ooi
〜約5%の少量で用いられる。
また2本発明においてはポリウレタンの製造に際し、必
要により発泡剤(例えばメチレンクロライド、モノフル
オロトリクロロメタン、および水)を使用することがで
きる。発泡剤の使用量はポリウレタンの所望の密度(例
えば0.01〜1.49/crIi)により変えること
ができる。
本発明において、必要により使用できるその他の添加剤
としては、乳化剤および気泡安定剤としての界面活性剤
が使用でき、特にシリコーン界面活性剤(ポリシロキサ
ン−ポリオキシアルキレン共重合体)が重要である その池水発明において使用できる添加剤としては、難燃
剤1反応遅延剤2着色剤、内部離型剤。
老化防止剤、抗酸化剤、可塑剤、殺菌剤およびカーボン
ブラック、酸化亜鉛9M化カルシウム、二酸化鉛、酸化
チタン、ケイソウ土、ガラス繊維およびその破砕物(カ
ットガラス、ミルドガラス。
ガラスフレークなど)、タルり、マイカおよびその他の
充填剤等公知の添加剤が挙げられる。
ポリウレタン成形品の製造は通常の方法で行なうことが
でき、ワンショット法、セミプレポリマー法、プレポリ
マー法などの公知の方法により行なうことができる。ポ
リウレタン製造には通常用いられている製造装置を用い
ることができる。無溶媒の場合は例えばニーダ−やエク
ストルーダーのような装置を用いることができる。閉鎖
モールドあるいは開放モールド内で各種の非発泡または
発泡のポリウレタン成形品の製造を行なうことができる
ポリウレタン成形品の製造は普通低圧あるいは高圧の機
械装置を用いて原料を混合反応させることにより行なわ
れる。ざらには、原料混合前後(とくに原料混合前)、
原料中の溶存空気または混合時に混入した空気などのガ
スを真空法により除去することによりポリウレタン成形
品の製造を行なうこともできる。
本発明の方法は特にRIM(反応射出成形)法による無
発泡もしくは低発泡(密度0.8〜1.49/ cr/
lとくに0,9〜1゜49/cd>のRIM成形ポリウ
レタンエラストマーの製造に有用である。RIM法の成
形は従来の方法と同じ条件で実施できる。
例えば1通常25〜90℃に温調された原料(2〜4成
分)を100〜200Kg/c#IGの圧力で衝突混合
させ、予め30〜150℃(好ましくは60〜90℃)
に温調された金型に注型した後、0.1〜5分内の時間
で脱型することにより行なうことができる。
[実施例] 以下に本発明を実施例により具体的に説明するが1本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお部
および%はそれぞれ重量部および重量%を表わす。
実施例、および比較例に使用した原料の組成は次の通り
である。
(1)ポリオールA:グリセリン92部にPOを560
6部2次いでEOを1702部を付加させた水酸基価2
2.7の3官能ポリオール (2)ポリオールB:ボリオールA 100部とエチレ
ン性不飽和単量体としてアクリロニトリル25部を13
0℃の温度にて1.0部のアゾビスイソブチロニトリル
を開始剤として反応させて得た水酸基価18,2のポリ
オール (3)架橋剤−I :MDA 19部部にpQ 116
部2次いでE088部を付加させた水酸基価558のテ
トラオール (4)架橋剤−I[: TDA 122部にPQ232
部を付加させた水酸基価634のテトラオール(5)低
分子ポリアミン DET[)A ニジエチルトリレンジアミン(6)低分
子ポリオール EG:エチレングリコール (7)イソ1 ミリオネート)ITL :変性MD I  (NGO2
9%)[日本ポリウレタン■製] (8)触媒 [)BTDL ニジブチルチンジラウレート実施例1〜
4および比較例1〜3 表1に記載の成形処方に従って、下記の成形条件で、高
分子ポリオール、架橋剤および触媒からなるポリオール
成分とイソシアネート成分とを。
それぞれ高圧発泡機の原料タンクに仕込み、ポリオール
成分に窒素ガスを一定量圧入して溶存させた後、高圧発
泡機で混合し、厚み3.0HX 300m×長さ400
.の温度調節可能な密閉モールドに注入して、ポリウレ
タン成形品を製造した。
f成形条件]: 高圧発泡機: K−102。
(ポリウレタンエンジニアリング■製)吐 出 量:約
1909/秒 吐出圧カニ 160〜180 K’J/ci注入時間:
約1.9秒 原料温度:ポリオール成分   40±2℃イソシアネ
ート成分 40±2°C 金型温度ニア0±2℃ 離型時間:30秒 得られたポリウレタン成形品の成形性および物性測定結
果を表2に示す。
なお、サンプルは、成形1時間後に120℃で1時間ポ
ストキュアーし、その後20″CX65%R,H,の恒
温恒湿槽で調整して物性測定に供した。
物性測定法は次の通りである。
密 度(g/ cr/l )   :浮力法(JISに
−6301)アイゾツト衝撃強度CK!J−cm/cm
) : JIS K7110(ノツチ付) 曲げモジュラス(、Kl / crtr ) :サンプ
ル 25!Ivnx707)gx 3.Om(t) 。
スパン  40fM1.ポンチ径5R。
加圧速度 50#/分 低温デュポン衝撃(K’j ・cm> : ASTHD
2794−69測定温度−15℃:ポンチ径7.9sR
受台径8.1m 熱変形温度(’C)  (18,5N!/cn) : 
 JIS K7207表−1 〔発明の効果〕 本発明のポリウレタン成形品の製法は、従来の方法と比
べて、脱型時のパリ強度が高く金型掃除に要する時間が
短い為、成形サイクルが短縮できる。
本発明の方法によれば、ハードセグメントとソフトセグ
メントの層分離が十分な成形品が得られる為、高剛性(
曲げモジュラス10 、 oooKy / crA以上
)でかつ衝撃強度などの靭性が優れた成形品が得られる

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ポリイソシアネートと高分子ポリオールと架橋剤と
    を必要により触媒、発泡剤、およびその他の添加剤の存
    在下に、型内で反応させて発泡または非発泡のポリウレ
    タン成形品を製造する方法において、架橋剤の少なくと
    も一部として、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、Zは芳香族ポリアミンの残基、Aは炭素数2〜
    4のアルキレン基、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキ
    ル基、mは0〜4の整数、nは1〜4の整数、pは2〜
    4の整数である。)で示される化合物(A)、低分子ポ
    リアミン(B)および必要により低分子ポリオール(C
    )を用いることを特徴とするポリウレタン成形品の製法
    。 2、(A)の量が高分子ポリオール及び架橋剤の合計重
    量に基づいて5〜60%である特許請求の範囲第1項記
    載の製法。 3、(A)が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Aは炭素数2〜4のアルキレン基、m′、m″
    、n′、n″は1〜4の整数である。)で示される化合
    物である特許請求の範囲第1項または第2項記載の製法
    。 4、(B)の量が高分子ポリオール及び架橋剤の合計重
    量に基づいて3〜30%である特許請求の範囲第1項〜
    第3項のいずれか一項に記載の製法。 5、ポリウレタン成形品の密度が0.9g/cm^3以
    上である特許請求の範囲第1〜4項のいずれか一項に記
    載の製法。
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