JPS6319292A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
- Publication number
- JPS6319292A JPS6319292A JP61162064A JP16206486A JPS6319292A JP S6319292 A JPS6319292 A JP S6319292A JP 61162064 A JP61162064 A JP 61162064A JP 16206486 A JP16206486 A JP 16206486A JP S6319292 A JPS6319292 A JP S6319292A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylate
- recording medium
- undercoat layer
- recording
- methacrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B7/2572—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of organic materials
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B7/247—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes methine or polymethine dyes
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光記録技術に用いることのできろ改善された光
情報記録媒体に関する。
情報記録媒体に関する。
プラスチック基板上に色素記録膜をコーティング法によ
り形成して光情報記録媒体を作製することが提案されて
いる。ところが、色素のコーティング溶剤としてプラス
チック基板に溶解性の高いアセトン、ジクロルエタンな
どの溶媒がしばしば用いられることからコーティング時
にプラスチック基板までも溶解してしまうという問題が
あった。コーティング時にプラスチック基板が少しでも
溶解すると色素記録膜の反射率が太き（ならず記録特性
が損なわれることとなる。そこで、この問題を克服する
ために基板を溶解しない溶剤を用いて塗布することが考
えられるが塗布に適した保存性にすぐれた色素材料がい
まだ見出されていない。また、基板上に２Ｐ法によりフ
ォトポリマー層などの下引き層を設けることが行なわれ
ているが生産性が悪くまたコスト高になるという問題が
ある。
り形成して光情報記録媒体を作製することが提案されて
いる。ところが、色素のコーティング溶剤としてプラス
チック基板に溶解性の高いアセトン、ジクロルエタンな
どの溶媒がしばしば用いられることからコーティング時
にプラスチック基板までも溶解してしまうという問題が
あった。コーティング時にプラスチック基板が少しでも
溶解すると色素記録膜の反射率が太き（ならず記録特性
が損なわれることとなる。そこで、この問題を克服する
ために基板を溶解しない溶剤を用いて塗布することが考
えられるが塗布に適した保存性にすぐれた色素材料がい
まだ見出されていない。また、基板上に２Ｐ法によりフ
ォトポリマー層などの下引き層を設けることが行なわれ
ているが生産性が悪くまたコスト高になるという問題が
ある。
本発明は上記問題にかんがみてなされたものであって、
その目的は光情報記録媒体における基板の耐溶剤性の向
上、低欠陥率化および感度低下防止にある。
その目的は光情報記録媒体における基板の耐溶剤性の向
上、低欠陥率化および感度低下防止にある。
上記目的を達成するために、本発明は下引き層を構成す
る成分として（ａ）テトラアルコキシ金属または有機ト
リアルコキシ金属と、（ｂ）ヒドロキシアルキルアクリ
レートまたはヒドロキシアルチルメタクリレートおよび
（ｃ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルアクリレート
またはＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルメタクリレー
トあるいはＮ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミドまたはＮ
、Ｎ−ジアルキルメタクリルアミドのうちから選ばれた
少くとも２種の成分の共重合体との混合物を用いること
を特徴としている。
る成分として（ａ）テトラアルコキシ金属または有機ト
リアルコキシ金属と、（ｂ）ヒドロキシアルキルアクリ
レートまたはヒドロキシアルチルメタクリレートおよび
（ｃ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルアクリレート
またはＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルメタクリレー
トあるいはＮ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミドまたはＮ
、Ｎ−ジアルキルメタクリルアミドのうちから選ばれた
少くとも２種の成分の共重合体との混合物を用いること
を特徴としている。
すなわち、本発明の光情報記録媒体はプラスチック基板
上に上記（ａ）成分と上記（ｂ）成分および（Ｃ）成分
の共重合体との混合物よりなる下引き層を設け、その上
にポリメチン系色素を主成分とする記録層を設けたもの
である。さらに必要に応じて記録層の上に保護層を設け
てもよい。また、このようにして構成された一対の記録
媒体を内側にして他の基板と空間を介して密封したエア
ーサンドインチ構造にしてもよ（あるいは保護ノーを介
して接着した密着サンドインチ（貼合せ構造）にしても
よい。
上に上記（ａ）成分と上記（ｂ）成分および（Ｃ）成分
の共重合体との混合物よりなる下引き層を設け、その上
にポリメチン系色素を主成分とする記録層を設けたもの
である。さらに必要に応じて記録層の上に保護層を設け
てもよい。また、このようにして構成された一対の記録
媒体を内側にして他の基板と空間を介して密封したエア
ーサンドインチ構造にしてもよ（あるいは保護ノーを介
して接着した密着サンドインチ（貼合せ構造）にしても
よい。
次に本発明の光情報記録媒体を構成する材料および各層
の必要特性について説明する。
の必要特性について説明する。
プラスチック基板としては射出成形により形成されてい
るものが生産性およびコストの面から特に好ましくまた
基板側より記録再生を行う場合のみ使用レーザ光に対し
て透明でなければならない。代表例としてアクリル樹脂
、ポリカーボネート、ポリメチルはメチンなどをあげる
ことができるが、これらのみに制限されない。
るものが生産性およびコストの面から特に好ましくまた
基板側より記録再生を行う場合のみ使用レーザ光に対し
て透明でなければならない。代表例としてアクリル樹脂
、ポリカーボネート、ポリメチルはメチンなどをあげる
ことができるが、これらのみに制限されない。
なお、基板の表面にはアドレス信号等のプレフォーマッ
トと案内溝のプレグルーブが形成されていてもよい。
トと案内溝のプレグルーブが形成されていてもよい。
下引き層は（ａ）テトラアルコキシ金属または有機トリ
アルコキシ金属と、（ｂ）ヒドロキシアルキルアクリレ
ートまたはヒドロキシアルキルメタクリレートおよび（
ｃ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルアクリレートま
たはＮ 、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルメタクリレー
トあるいはＮ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミドまたはＮ
、Ｎ−ジアルキルメタクリルアミドのうちから選ばれた
少くとも２種の成分の共重合体との混合物から形成され
る。上記（ａ）成分と共重合体Ｃ（ｂ） ＋ （ｃ）
］の割合は９９．１０．１〜２０：８０好ましくは９０
： １０〜４０：６０である。共重合体中の（ｂ）成
分と（ハ））成分の割合は９０：１０〜２０：８０好ま
しくは８０：２０〜４０：６０である。下引き層の形成
は上記混合物を水および有機溶剤中に溶解させ塗布後硬
化させて行うことができる。有機溶剤としてはアルコー
ルを用いるのが好ましい。塗布後硬化を促進させろため
加熱してもよい。また、必要に応じ上記混合物に無機ま
たは有機の酸または塩基を添加して硬化を促進すること
もできる。
アルコキシ金属と、（ｂ）ヒドロキシアルキルアクリレ
ートまたはヒドロキシアルキルメタクリレートおよび（
ｃ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルアクリレートま
たはＮ 、Ｎ−ジアルキルアミノアルキルメタクリレー
トあるいはＮ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミドまたはＮ
、Ｎ−ジアルキルメタクリルアミドのうちから選ばれた
少くとも２種の成分の共重合体との混合物から形成され
る。上記（ａ）成分と共重合体Ｃ（ｂ） ＋ （ｃ）
］の割合は９９．１０．１〜２０：８０好ましくは９０
： １０〜４０：６０である。共重合体中の（ｂ）成
分と（ハ））成分の割合は９０：１０〜２０：８０好ま
しくは８０：２０〜４０：６０である。下引き層の形成
は上記混合物を水および有機溶剤中に溶解させ塗布後硬
化させて行うことができる。有機溶剤としてはアルコー
ルを用いるのが好ましい。塗布後硬化を促進させろため
加熱してもよい。また、必要に応じ上記混合物に無機ま
たは有機の酸または塩基を添加して硬化を促進すること
もできる。
さらに、屈折率、膨張率を制御させるために８１、Ｇｅ
などの金属アルコレートを混入してもよい。
などの金属アルコレートを混入してもよい。
下引き層の膜厚は１００〜３０００Ｘ好ましくは５００
〜１ｓｏｏｉである。
〜１ｓｏｏｉである。
上記成分（ａ）のうちのテトラアルコキシ金属は弐Ｍ（
ＯＲ）４ （ただし、ＭはＳｉ ｉたはＧｅを示し、Ｒ
は炭素数１〜８のアルキル基またはアリル基あるいはア
リール基を示す）により示されるテトラアルキル（もし
くはテトラアリル（アリール））オルトシリケートなど
である。具体例として例えばメチルオルトシリケートＡ
エチルオルトシリケート、ｎ−プロピルオルトシリケー
ト、ｎ−ブチルオルトシリケート、ｎ−オクチルオルト
シリケート、フェニルオルトシＩＪケート、ベンジルオ
ルトシリケート、フェネチルオルトシリケート、アリル
オルトシリケート、メタアリルオルトシリケートなどが
あり、さらにそれらのオルトシリケート類の脱水縮合に
よって生成するポリシリケート類も用いられる。上記成
分（イ）のうちの有機トリアルコキシ金属は式Ｒ１Ｍ（
ＯＲ）５（ただし、Ｒ１は炭素数１〜乙の炭化水素基を
示し、ＭおよびＲは上記の定義を有する）により示され
るものである。また、（ＲＯ）３Ｍ−０千Ｍ（ＯＲ）２
−○セＲで示されるこれらの縮合体などもあげられる（
ただし、ｎは０または１〜１１の整数を表わしそしてＲ
およびＭは上述したとおりである）。
ＯＲ）４ （ただし、ＭはＳｉ ｉたはＧｅを示し、Ｒ
は炭素数１〜８のアルキル基またはアリル基あるいはア
リール基を示す）により示されるテトラアルキル（もし
くはテトラアリル（アリール））オルトシリケートなど
である。具体例として例えばメチルオルトシリケートＡ
エチルオルトシリケート、ｎ−プロピルオルトシリケー
ト、ｎ−ブチルオルトシリケート、ｎ−オクチルオルト
シリケート、フェニルオルトシＩＪケート、ベンジルオ
ルトシリケート、フェネチルオルトシリケート、アリル
オルトシリケート、メタアリルオルトシリケートなどが
あり、さらにそれらのオルトシリケート類の脱水縮合に
よって生成するポリシリケート類も用いられる。上記成
分（イ）のうちの有機トリアルコキシ金属は式Ｒ１Ｍ（
ＯＲ）５（ただし、Ｒ１は炭素数１〜乙の炭化水素基を
示し、ＭおよびＲは上記の定義を有する）により示され
るものである。また、（ＲＯ）３Ｍ−０千Ｍ（ＯＲ）２
−○セＲで示されるこれらの縮合体などもあげられる（
ただし、ｎは０または１〜１１の整数を表わしそしてＲ
およびＭは上述したとおりである）。
はＨまたはＣＨ３を示し、Ｒ２はＯＨを有する炭素数２
〜６のアルキル基を示す）により示されるものであり、
その具体例として例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ル（メタ）アクリレートなどをあげることができる。
〜６のアルキル基を示す）により示されるものであり、
その具体例として例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ル（メタ）アクリレートなどをあげることができる。
また、上記成分（ｃ）のうちのＮ、Ｎ−ジアルキルアミ
ノアルキル（メタ）アクリレートは式ＣＨ３を示し、Ｒ
５は炭素数１〜４のアルキレン基を示し、Ｒ６およびＲ
７は炭素数１〜４のアルキル基を示す）により示され、
その具体例として例えば２− Ｎ、Ｎ−ジメチルアミン
エチル（メタ）アクリレート、２−Ｎ、Ｎ−ジエチルア
ミンエチル（メタ）アクリレート、３−Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアミノプロビル（メタ）アクリレートなどをあし、Ｒ
４はＨまたはＣＨ３を示し、Ｒ８およびＲ９は炭素数１
〜４のアルキル基を示す）により示され、その具体例と
して例えばＮ、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ
ブチル（メタ）アクリルアミドなどをあげることができ
る。
ノアルキル（メタ）アクリレートは式ＣＨ３を示し、Ｒ
５は炭素数１〜４のアルキレン基を示し、Ｒ６およびＲ
７は炭素数１〜４のアルキル基を示す）により示され、
その具体例として例えば２− Ｎ、Ｎ−ジメチルアミン
エチル（メタ）アクリレート、２−Ｎ、Ｎ−ジエチルア
ミンエチル（メタ）アクリレート、３−Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアミノプロビル（メタ）アクリレートなどをあし、Ｒ
４はＨまたはＣＨ３を示し、Ｒ８およびＲ９は炭素数１
〜４のアルキル基を示す）により示され、その具体例と
して例えばＮ、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ
ブチル（メタ）アクリルアミドなどをあげることができ
る。
金属アルコレートのみからなる下引き層は無機酸化物層
となるのに対し、本発明の下引き層は有機高分子鎖を介
した無機酸化物層を形成し無機物と有機物との中間的な
、性質を示す。そのため感度低下が小さく、基板と膨張
率、吸水変形率等が近い値となり、ピンホールが少くな
るものと考えられる。
となるのに対し、本発明の下引き層は有機高分子鎖を介
した無機酸化物層を形成し無機物と有機物との中間的な
、性質を示す。そのため感度低下が小さく、基板と膨張
率、吸水変形率等が近い値となり、ピンホールが少くな
るものと考えられる。
本発明におげろ記録層は塗布法で形成されるポリメチン
系色素を主成分とするものである。
系色素を主成分とするものである。
ポリメチン系色素としては例えばシアニン（メロシアニ
ン）色素、クロコニウム色素、ピリリウム色素などをあ
げろことができる。記録層は慣用のコーティング法を用
いて塗設することができその厚さは１００Ｘ〜１０μｍ
好ましくは２００Ｘ〜２μｍとされる。膜厚が１００Ｘ
未満では吸収が小さく記録できず１０μ口を越すと記録
感度が低下しさらにノイズが多くなる。記録層はポリメ
チン系色素を主成分とするものであるが記録特性および
安定性向上のために前記色素を２種以上組合せてもよ（
また他の色素例えばフタロシアニン系、テトラヒドロコ
リン系、ジオヤサジン系、トリフエッチアジン系、フェ
ナンスレン系、アントラキノン（インダンスレン）系、
キサンチン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、ス
クアリウム系、ナフトキノン系などの色素または金属例
えばＩｎ、 Ｓｎ、 ＴｅＸＢ１、ＡＬ、 Ｓｅ。
ン）色素、クロコニウム色素、ピリリウム色素などをあ
げろことができる。記録層は慣用のコーティング法を用
いて塗設することができその厚さは１００Ｘ〜１０μｍ
好ましくは２００Ｘ〜２μｍとされる。膜厚が１００Ｘ
未満では吸収が小さく記録できず１０μ口を越すと記録
感度が低下しさらにノイズが多くなる。記録層はポリメ
チン系色素を主成分とするものであるが記録特性および
安定性向上のために前記色素を２種以上組合せてもよ（
また他の色素例えばフタロシアニン系、テトラヒドロコ
リン系、ジオヤサジン系、トリフエッチアジン系、フェ
ナンスレン系、アントラキノン（インダンスレン）系、
キサンチン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、ス
クアリウム系、ナフトキノン系などの色素または金属例
えばＩｎ、 Ｓｎ、 ＴｅＸＢ１、ＡＬ、 Ｓｅ。
ＡｓＸＣｄなどまたは金属化合物例えばＴｉＯ２、Ｓｎ
Ｏなどと混合分散しても積層してもよい。また、記録層
はその他に高分子材料、保存安定剤（例えば、金属錯体
、フェノール系化合物など）、分散剤、難燃剤、滑剤、
帯電防止剤、可塑剤などを含有していてもよい。コーテ
ィング法としてはディップコーティング、スプレーコー
ティング、ブレードコーティング、スピンコーティング
、ローラーコーティング、カーテンコーティングなどを
あげることができる。塗布の際に使用する溶剤はポリメ
チン系色素の穏順によっても異なるが例えばメチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シフロイキサノン
などのケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトー
ルアセテート、ブチルカルピトールアセテートなどのエ
ステル系、メチルセロノルプ、エチルセロソルブなどの
エーテル系、トルエン、キシレンなどの芳香族系、ジク
ロロエタンなどの・・ロゲン化アルキル系などを用いる
ことができる。
Ｏなどと混合分散しても積層してもよい。また、記録層
はその他に高分子材料、保存安定剤（例えば、金属錯体
、フェノール系化合物など）、分散剤、難燃剤、滑剤、
帯電防止剤、可塑剤などを含有していてもよい。コーテ
ィング法としてはディップコーティング、スプレーコー
ティング、ブレードコーティング、スピンコーティング
、ローラーコーティング、カーテンコーティングなどを
あげることができる。塗布の際に使用する溶剤はポリメ
チン系色素の穏順によっても異なるが例えばメチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シフロイキサノン
などのケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトー
ルアセテート、ブチルカルピトールアセテートなどのエ
ステル系、メチルセロノルプ、エチルセロソルブなどの
エーテル系、トルエン、キシレンなどの芳香族系、ジク
ロロエタンなどの・・ロゲン化アルキル系などを用いる
ことができる。
なお、本発明におけろ記録層の上には必要に応じて保護
層を設げることができるが記録層のキズ、ホコリ、汚れ
などからの保護を目的とする場合はビニル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、天然ゴム、アイオノマー樹脂などの高分
子材料、無機化合物例えば５１０２、ＭｇＦ２．５ｉｎ
ＸＴｉ０２、ＺｎＯ１ＴｉＮＸＳｉＮなど、金Ｒまたは
半金属例えばＺｎ、 Ｃｕ。
層を設げることができるが記録層のキズ、ホコリ、汚れ
などからの保護を目的とする場合はビニル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、天然ゴム、アイオノマー樹脂などの高分
子材料、無機化合物例えば５１０２、ＭｇＦ２．５ｉｎ
ＸＴｉ０２、ＺｎＯ１ＴｉＮＸＳｉＮなど、金Ｒまたは
半金属例えばＺｎ、 Ｃｕ。
Ｓ、 Ｎｉ、Ｃｒ、 Ｇｅ、 Ｓｅ、 Ａｔ、 Ａｇな
どを用いることができる。また、反射率の向上を目的と
する場合、上記の金属または半金属あるいは金属光沢を
有する有機薄膜例えばポリメチン系色素、キサンチン系
色素などを用いることができる。
どを用いることができる。また、反射率の向上を目的と
する場合、上記の金属または半金属あるいは金属光沢を
有する有機薄膜例えばポリメチン系色素、キサンチン系
色素などを用いることができる。
本発明の光情報記録媒体を情報の記録再生に用いる場合
、情報の記録は書込み用レーザ光の照射による記録層と
その光または熱との相互作用により生じる物理的形状変
化（ビット形成）により記録される。一方、情報の再生
は読出し用レーザ光の照射により記録層の反射率を感知
することによりなされる。
、情報の記録は書込み用レーザ光の照射による記録層と
その光または熱との相互作用により生じる物理的形状変
化（ビット形成）により記録される。一方、情報の再生
は読出し用レーザ光の照射により記録層の反射率を感知
することによりなされる。
以下に比較例と共に実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
実施例 １
ＰＭＭＡ基板上に１０）オルトエチルシリケート１重量
部にエタノール７５重量部と０．０５Ｎ塩酸１５重量部
とを加えたものと、（ｂ） ２− Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミンエチルメタクリレート５重量部、２−ヒドロキシブ
チルアクリレート５重量部およびベンゾイルパーオキサ
イド０．２重量部をエチルセロソルブ８０１４量部に溶
解し窒素雰囲気下８０℃で６時間次いで１００℃で１時
間加熱して１昼夜放置したものとを混合した塗布液をス
ピナー塗布し７０℃下で２時間その後室温下で１日放置
し膜厚約９００Ｘの下引き層を形成した。
部にエタノール７５重量部と０．０５Ｎ塩酸１５重量部
とを加えたものと、（ｂ） ２− Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミンエチルメタクリレート５重量部、２−ヒドロキシブ
チルアクリレート５重量部およびベンゾイルパーオキサ
イド０．２重量部をエチルセロソルブ８０１４量部に溶
解し窒素雰囲気下８０℃で６時間次いで１００℃で１時
間加熱して１昼夜放置したものとを混合した塗布液をス
ピナー塗布し７０℃下で２時間その後室温下で１日放置
し膜厚約９００Ｘの下引き層を形成した。
この上に下記化合物（Ａ）の０，７重量％ジクロルエタ
ン溶液をスピナー塗布し約６００Ｘの記録層を形成して
記録媒体を作製した。
ン溶液をスピナー塗布し約６００Ｘの記録層を形成して
記録媒体を作製した。
実施例 ２
実施例１における２ −Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル
メタクリレート５重量部と２−ヒドロキシブチルアクリ
レート５重量部の代りに２− Ｎ、Ｎ−ジメチルメタア
クリルアミド４重量部と２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート６重量部を用いた以外には実施例１と同様にして
記録媒体を作製した。
メタクリレート５重量部と２−ヒドロキシブチルアクリ
レート５重量部の代りに２− Ｎ、Ｎ−ジメチルメタア
クリルアミド４重量部と２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート６重量部を用いた以外には実施例１と同様にして
記録媒体を作製した。
実施例 ３
実施例１における２ −Ｎ、Ｎ−ジメチルアミンエチル
メタクリレート５重量部と２−ヒドロキシブチルアクリ
レート５重量部の代りに２−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエ
チルアクリレート４重量部、２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート６重量部およびブチルアクリレート３重量部
を用いそして基板としてポリカーボネート基板を用いた
以外には実施例１と圏様にして記録媒体を作製した。
メタクリレート５重量部と２−ヒドロキシブチルアクリ
レート５重量部の代りに２−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエ
チルアクリレート４重量部、２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート６重量部およびブチルアクリレート３重量部
を用いそして基板としてポリカーボネート基板を用いた
以外には実施例１と圏様にして記録媒体を作製した。
実施例 ４
実施例１におけろオルトエチルシリケート１重量部の代
りにオルトエチルシリケー） ０．７５重量部およびメ
チルトリエトキシシリケート０．７５重量部を用いた以
外には実施例１と同様にして記録媒体を作製した。
りにオルトエチルシリケー） ０．７５重量部およびメ
チルトリエトキシシリケート０．７５重量部を用いた以
外には実施例１と同様にして記録媒体を作製した。
実施例 ５
実施例４におけるオルトエチルシリケート１重量部の代
りにオルトメチルシリケート２重量部を用いた以外には
実施例４と同様にして記録媒体を作製した。
りにオルトメチルシリケート２重量部を用いた以外には
実施例４と同様にして記録媒体を作製した。
実施例 ６
実施例１で用いた化合物囚の代りに下記化合物（Ｂ）を
用いた以外には実施例１と同様にして記録媒体を作製し
た。
用いた以外には実施例１と同様にして記録媒体を作製し
た。
・・・・・・・（Ｂ）
実施例 ７
実施例１におげろ記録層組成にさらにビス（４−ジエチ
ルアミノジチオベンジル）ニッケル１０重量％を添加し
た以外には実施例１と同様にして記録媒体を作製した。
ルアミノジチオベンジル）ニッケル１０重量％を添加し
た以外には実施例１と同様にして記録媒体を作製した。
実施例 ８
実施例１で得た記録層上にさらに下記化合物（Ｃ）を１
００Ｘの膜厚で真空蒸着させた。
００Ｘの膜厚で真空蒸着させた。
比較例 １
実施例１において、オルトエチルシリケートのみを用い
て下引き層を形成した。
て下引き層を形成した。
比較例 ２
実施例５において、オルトエチルシリケートのみを用い
て下引き層を形成した。
て下引き層を形成した。
比較例 ３
実施例１において、（ｂ）の共重合体成分のみを用いて
下引層を形成した。
下引層を形成した。
比較例 ４
実施例１において下引き層を形成せずに基板上に直接記
録層を形成した。
録層を形成した。
上記実施例および比較例で作製した各記録媒体に波長７
９０ ｎｍの半導体レーザを用い線速１．５ｍ／ｓｅｃ
で０．７ ＭＨｚの信号を記録した。再生は同じレーザ
を用いてα２０Ｎで読出し反射光をスペクトルＭ析（ス
キャニングフィルター３０ ＫＨｚ ） してＣハを測
定した。
９０ ｎｍの半導体レーザを用い線速１．５ｍ／ｓｅｃ
で０．７ ＭＨｚの信号を記録した。再生は同じレーザ
を用いてα２０Ｎで読出し反射光をスペクトルＭ析（ス
キャニングフィルター３０ ＫＨｚ ） してＣハを測
定した。
次に、同じ記録媒体を６０℃、９０％Ｒ，Ｈ，の恒温恒
湿槽に５００時間保存して保存性加速試験を行なった後
のＣＮを測定した。
湿槽に５００時間保存して保存性加速試験を行なった後
のＣＮを測定した。
なお、未記録部の反射率で２０％以上低下している部分
を欠陥とみなして欠陥率をチェックした。これらの結果
を以下の表にまとめて示す。
を欠陥とみなして欠陥率をチェックした。これらの結果
を以下の表にまとめて示す。
実施例１２．２ ５３ ０．６ ２．２
５２ １２２．２ ５２ ０．７ ２．２
５０ １２３２．３ ５３ ０．３ ２．３
５１ ０．８４２．３ ５２ ０．３ ２．３
５２ １３５２．３ ５２ ０．６ ２．３
５０ １．５６２．３ ５０ ０．４ ２
．３ ４９ １７２．３ ５１ ０．７ ２
．３ ５１ １．７８２．３５０ α８ ２．
３ ５１ １６比較例１ ３．０ ５４ ２
５ ３．０ ４０ ３４３２３．６ ５４
２７ 五０ ３８ ５２１〔効 果〕 本発明によれば、従来の無機系下引き層に比べて感度低
下が小さくかつエラー率が大巾に減少し、＋（ピンホー
ルの低減、保存時の亀裂などによるエラーの低減）記録
媒体を得ることができる。また、射出成形プラスチック
基板上に直接工法により記録層の形成ができ製造コスト
を大幅に低減させることができる。
５２ １２２．２ ５２ ０．７ ２．２
５０ １２３２．３ ５３ ０．３ ２．３
５１ ０．８４２．３ ５２ ０．３ ２．３
５２ １３５２．３ ５２ ０．６ ２．３
５０ １．５６２．３ ５０ ０．４ ２
．３ ４９ １７２．３ ５１ ０．７ ２
．３ ５１ １．７８２．３５０ α８ ２．
３ ５１ １６比較例１ ３．０ ５４ ２
５ ３．０ ４０ ３４３２３．６ ５４
２７ 五０ ３８ ５２１〔効 果〕 本発明によれば、従来の無機系下引き層に比べて感度低
下が小さくかつエラー率が大巾に減少し、＋（ピンホー
ルの低減、保存時の亀裂などによるエラーの低減）記録
媒体を得ることができる。また、射出成形プラスチック
基板上に直接工法により記録層の形成ができ製造コスト
を大幅に低減させることができる。
特許出願人 株式会社 リ コ −外２名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 プラスチック基板上に下引き層を介してポリメチン色
素を主成分とした記録層を設けてなる記録媒体において
、前記下引き層が （ａ）テトラアルコキシ金属または有機トリアルコキシ
金属と、 （ｂ）ヒドロキシアルキルアクリレートまたはヒドロキ
シアルキルメタクリレートおよび（ｃ）Ｎ、Ｎ−ジアル
キルアミノアルキルアクリレートまたはＮ、Ｎ−ジアル
キルアミノアルキルメタクリレートあるいはＮ、Ｎ−ジ
アルキルアクリルアミドまたはＮ、Ｎ−ジアルキルメタ
クリルアミドのうちから選ばれた少くとも２種の成分の
共重合体との混合物から形成されたものであることを特
徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61162064A JPS6319292A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61162064A JPS6319292A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6319292A true JPS6319292A (ja) | 1988-01-27 |
Family
ID=15747401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61162064A Pending JPS6319292A (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6319292A (ja) |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP61162064A patent/JPS6319292A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5161150A (en) | Optical recording medium | |
| JPS62139148A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0474690A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| EP0458257B1 (en) | Optical recording medium | |
| JP2000113511A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0554432A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPS61277492A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS6319292A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP3673963B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS63159090A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
| JPH03224792A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPS60254037A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP3556564B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体 | |
| JPS63158294A (ja) | 光記録媒体の製造法 | |
| JPS6225087A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS61229243A (ja) | 光学的情報記録再生方法 | |
| JPH08282107A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH0229386A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS6211682A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH0425493A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH01166985A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPS60252346A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2000263938A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPS61162385A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0249229A (ja) | 光情報記録媒体 |