JPS63159090A - 情報記録媒体の製造法 - Google Patents

情報記録媒体の製造法

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JPS63159090A
JPS63159090A JP61307374A JP30737486A JPS63159090A JP S63159090 A JPS63159090 A JP S63159090A JP 61307374 A JP61307374 A JP 61307374A JP 30737486 A JP30737486 A JP 30737486A JP S63159090 A JPS63159090 A JP S63159090A
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矢部　雅夫
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由夫 稲垣
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームな用いて
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リー、あるいは光カート、マイクロ画像記録媒体、超マ
イクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字
用原版などに応用されている。
情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔ
ｅ等の金属または半金属；およびシアニン系、金属錯体
系、キノン系等の色素が知られている。
情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームなこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、￥Ｉｓ理的あるいは化学的な変化を生じてそ
の光学的特性を変えることにより情報が記録される。記
録媒体からの情報の読み取りもまた。レーザービームな
記録媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学
的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出するこ
とにより情報が再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
りに記録層を設け、この二枚の基板を記録層か内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることかない。
記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことかできるという製造上の大きな利点を有している。
シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解性が低く
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。
しかしながら、これらのハロゲン化炭化水素系溶剤に対
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭５９−２１７２４１号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
［発明の要旨］ 本発明は、新規な溶剤を用いて情報記録媒体を製造する
方法を提供することをその目的とするものである。
また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して基板を
溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を形成
する方法を提供することもその目的とするものである。
さらに本発明は、情報記録媒体を簡易に製造する方法を
提供することもその目的とするものである。
上記の目的は、基板上に、レーザーによる情報の書き込
みおよび／または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素含有化
合物を含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、
該塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録層を形
成することを特徴とする本発明の情報記録媒体の製造法
により達成することができる。
すなわち、本発明は、色素を記録材料とする記録層形成
のための塗布液調製用の溶剤として弗素含有化合物を用
いることにより、塗布液の調製を容易にし、かつ塗布液
により基板が溶解するのを防止するものである。
本発明において、溶剤として用いられる弗素含有化合物
はシアニン系色素などの色素に対する溶解度が高いため
、記録層形成のための塗布液を容易に調製することがで
きる。また、・この化合物はポリカーボネートなどのプ
ラスチック物質からなる基板に対して不溶性であるため
、塗布過程で基板が溶解することがない。
従って、本発明によれば、従来より問題となっていた基
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性箋の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
か煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
［発明の構成］ 情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタク
リレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のアク
リル樹脂：ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩
化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；およびポリカーボネー
ト樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル；
ソーダ石灰ガラス等のガラス；およびセラミックスを挙
げることができる。
本発明の方法は基板材料がプラスチック物質である場合
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモリファス
ボリ才しフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また１寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステ
ルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができる
。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエ
ン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセ
ルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質ニジ
ランカップリング剤などの有機物質；および無機酸化物
（Ｓｉ０２、ＡＲ，Ｏコ等）、無機弗化物（ＭｇＦ２）
などの無機物質を挙げることがてきる。
ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および／または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられるのが望まし
い。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｏｓ〜２０
ｐｍの範囲にあり、好ましくは０．０１＝１０１Ｌｍの
範囲である。
また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種の七ツマ−（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる０
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に０．０５〜ｌｏＯｊＬｍの範囲にあり。
好ましくは０．１〜５０＃Ｌｍの範囲である。基板材料
がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形な
どにより直接基板にグループが設けられてもよい。
なお、本発明において溶剤として用いられる弗素含有化
合物はプラスチック基板に対して不溶性であるのみなら
ず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不溶性であ
るから、基板上に記録層を直接に設ける場合のみならず
、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも同様の効
果が得られるものである。
基板（またはプレグルーブ層等）上には記録層が設けら
れる。
記録層は、実質的に色素のみからなる層であるが、ある
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層である
。
以下余白 本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｏｒなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素。
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用か実用化されている点か
ら、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
その例としては、 ｉ）シアニン系色素： ［１１（Ｃｌｌｚ）Ｊ−（Ｃ１１−Ｃ１ｌ）ｓ−ＣＪＩ
−”Ｎ（ＣＩＩ＋）ｔ　ＣＪＩ　０４−（ただし、ｎは
２または３である） （ただし、Ｒは水素原子またはＮ（（Ｉ（＊）ｔである
） Ｉ４］　　Ａ−（ＣＩｌ−ＣＨ）ｎ−ＣＨ＝Ｂハ Ｘ であり、Ｒはアルキル基であり、Ｘは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子
、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在し
ていてもよく、ｎは０−３の！Ｉａである） （ただし、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子で
ある） （ただし、Ｒは置換または未２１換のアルキル基、アル
コキシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Ｘは水
素原子またはハロゲン原子であり、Ｙはハロゲン、バー
クロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート
、パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エ
チルスルフェート、ペンセンカルボキシレート、メチル
カルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシ
レートであり、ｎはＯ〜３の整数である）Ｒ”　　　Ｘ
−Ｒ” （ただし、Ｒ’、Ｒ”およびＲ３はそれぞれ置換または
未置換のアルキル基であって、互いに同じか異なってい
てもよく、Ｘ−は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホ
ン酸イオンまたはアルキル硫酸イオンであり、ｎは０〜
３の整数てあり、そしてインドレニン環の４位、５位、
６位および７位のうちの少なくとも一つにハロゲン原子
か存在し、場合により他の位数にさらにハロゲン原子が
存在していてもよく、さらに場合によりベンゼン環はア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基
、アリル基またはアルキルカルボニル基で！！１換され
ていてもよい）２ｘ− （ただし　ＡＩおよびＡ２はそれぞれ水素原子またはｌ
換基であり、２は工員複素環を形成するのに必要な原子
団であり、Ｒ’〜Ｒ４はそれぞれ水素原子または２１換
基であり、Ｒ５はδ換基であるかまたはＺと共に六員複
素環を形成してもよく、ｘ−は陰イオンであり、ｎは０
〜２の整数である） ［１１１Φ−Ｌ二ψ　（Ｘ　−）。
（ただし、Φおよび！はそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドール環残基、チアゾール環残基、オキサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Ｌはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、Ｘ−
は陰イオンであり、ｍは０またはｌである）ｉｉ）スク
ワリリウム系色素： Ｃ（Ｃ１１３）３０　　　　　　Ｃ（Ｃ１１３）３Ｃ（
ＣＩ＋３）　：Ｉ　　　Ｏ−Ｃ（Ｃ１１３）　ｘｉｉｉ
）アズレニウム系色素： （ただし、Ｒ凰とＲｔ、Ｂ２とＲ３，Ｒ工とＲ４，Ｒ４
とＲｓ　、　ＲＳとＲ’！５よびＲ＠とＲｔの組合せの
うち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複
素環または脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成しな
いときのＲｔ、Ｒｔ、Ｒコ　Ｒ４、Ｒ８、ＨａおよびＲ
７はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有機
残基であり、あるいは）ｔｌとｆｔＲ，Ｒ３とＲ４、Ｒ
４とＲ’、Ｒ％とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち
少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族
環を形成してもよく、Ａは二重結合によつて結合した二
価の有機残基であり、Ｚ−はアニオン残基である。なお
、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒
素原子で置き換えられてアザアズレン環となっていても
よい、）ｉｖ）インドフェノール系色素： （ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子。
アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロ
ゲン原子であり　Ｈｔ　、　Ｒ２およびＲ３はそれでれ
水素原子、０１〜Ｃ２゜の置換または未置換のアルキル
基、アリール基、複素環またはしクロヘキシル基であり
、Ａは−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＩトである） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒ１−Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり１Ｍは二価の遷移金属原子である） （たたし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （Ｒ’）ｎ（Ｒ３）ｎ （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基てあり、Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子または−Ｎ−Ｒ’基（ここで、Ｒ４お
よびＲ５はそれぞれ置換または未置換のアルキル基また
はアリール基である）であり、Ｍは遷移金属原子であり
、ｎはＯ〜３の整数である） （ただし、（Ｃａ　Ｌｌは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄま
たはｐｔであり、ｎは１または２である） （ただし、（Ｃａ　Ｌｌは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄま
たはｐｔであり、ｎは１または２である） （ただし、Ｘは水素原子、塩業原子２臭素原子またはメ
チル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａは第四級ア
ンモニウム基である）基および／またはハロゲン原子で
あり、ｎ、およびＲ２はそれぞれ１〜３の整数であり、
Ｒ１およびＲ２はそれぞれアミノ基、モノアルキルアミ
ノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾ
イルアミノ基（２１換ベンゾイルアミノ基を含Ｊ”＞　
Ｓ　）太ｎ　　　Ｖ　ｌ　　しＶ２　　　Ｍ　　　し、
−廿ト汀ｏ＋とＲ２はそれぞれ互いに同してあっても異
なっていてもよ＜、ＭはＣｒまたはｃｏ原子であり、Ｙ
は水素、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族
アンモニウム（置換脂肪族アンモニウムを含む）または
脂環族アンモニウムである）ｖｉ）ナフトキノン系、ア
ントラキノン系色素：（ただし、Ｒは水素原子、アルキ
ル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である）
（ただし、Ｒは水稟原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）Ｒ （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリ〜１０の整
数である） （ただし、Ｘはハロゲン原子である） ＯＮＩｌ、０ ０　　創Ｉｔ　　Ｓ などを挙げることができる。
これらの色素のうちで、本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金ｙ４錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモ
ニウム系色業をクエンチャ−として−緒に用いてもよい
。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤には、
弗素を含有する化合物が用いられる０本発明に用いられ
る弗素含有化合物の例としては。
弗素化アルコール、弗素置換ケトン、弗素置換エステル
、弗素化カルボン酸、弗素置換アミド、弗素置換ベンゼ
ン、弗素化アルカンおよび弗素化エーテルを挙げること
ができる。
ｌ）弗素化アルコールとしてはたとえば、一般式（■）
： Ａ−Ｃ１（＊０１（（Ｉ　） （ただし、ＡはＣＦ、または１Ｉ（ＣＦａ・ＣＦｔ）ｎ
であり、ｎは１〜３の整数である） で表わされる化合物を挙げることがてき、その具体例と
しては下記化合物が挙げられる。
１ｌ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＩｌ□Ｏｆｌ　、　Ｉｆ−Ｃ
Ｆ２−ＣＦｚ−ＣＦａ−ＣＦ２−ＣＨＪＩＩ、１’：Ｆ
、−ＣＩ＋、０１１ ２）弗素置換ケトンおよびエステルとしては、たとえば
一般式（■）： Ａ−Ｃ−Ｂ　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ　）（
ただし、Ａｊ５よびＢはそれぞれ置換または無置換のア
ルキル基、フェニル基、アルコキシ基またはフェノキシ
基であり、かつＡおよびＢのうち少なくとも一方は少な
くとも一つの弗素原子で置換されている） で表わされる化合物を挙げることができる。上記一般式
（ｎ）において、ＡもしくはＢ上の置換基としては塩素
原子、臭素原子、ニトロ基、水酸基、置換または無置換
のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノキシ
基、カルボアルコキシ基、カルボフェノキシ基、アルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基が挙げられ
る。
ＡおよびＢはそれぞれ好ましくは、−ＣＦ、　、ＣＦ□
−（ＣＦ２ＣＦ２）ｈ−１ｌト（ＣＦ２ＣＦ２）ｌ−１
Ｉｌ−（ＣＦ２ＣＦ２）Ｊ−Ｃ１ｌｚ−１−ＯＣＦ３、
ＣＦ：＋−（ＣＦ２ＣＦ２）ｈ−０−１！＋−（ＣＦ２
ＣＦ２）　１−０−またはＩＩ−（ＣＦ２ＣＦ２）Ｊ−
Ｃｌ１２０−てあり、ここでり、ｉおよびｊはそれぞれ
１〜３の整数である。また、該化合物の分子量は４００
以下であるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
ＣＦユＣ０ＣＦｉ、ＣＦ３ＣＯＯＣＨ３、ＣＦ３ＣＯ０
ＣＪ％。
ＣＦｊＣＯＣＲ２ＣＯＣＦ！　、ＣＦ２Ｃ０ＣＨオＣＯ
Ｃｌ１．、Ｃ１１ｉＣＯＯＣＨ＊ＣＦユ、　ＣＦユＣ０
０ＣＨＩＣＦ！、３）弗素置換ベンゼンとしてはたとえ
ば、一般式（ｍ）： Ｉ （ただし　Ｒ１は弗素原子であり　Ｈａ〜Ｒ６はそれぞ
れ水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基
、水酸基、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、
フェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基、アシル基ま
たはアシルオキシ基である） で表わされる化合物を挙げることができる。上記一般式
（ｍ）において　Ｒ２−Ｒ６は好ましくは水素原子、弗
素原子、塩素原子またはシアノ基である。また、該化合
物の分子量は４００以下であるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物か挙げられる。
Ｆ　　　　　　０Ｃ１ｈ ４）弗素化アルカンおよびエーテルとしては。
炭素数ｌ〜８のアルカンおよびエーテルであって、かつ
少なくとも一つの弗素原子で置換されている化合物を挙
げることができる。これらの化合物には直鎖状、環状お
よび分枝状のものが含まれる。また、該化合物は弗素原
子の他にさらに、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニト
ロ基、置換または無置換のアルコキシ基、アルキルスル
ホニル基、アルキルフィニル基で置換されていてもよい
、２ｆｆ換基は好ましくは塩素原子、炭素数ｌ〜４の置
換または無置換のアルコキシ基である。また、該化合物
の分子量は４００以下であるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
ＣＣｆＬ、Ｆ２．　ｃｃ見ＩＦ１Ｃ交Ｆ＊Ｃ−ＣＣＣｒ
Ｆ２ＦａＣｔｌＣＨｓ、ＣｌＩＣ見ｔｃＦｔＯｃＨｓ　
、　Ｈ（ＣＦｔ）、＋０ＣＲ３，０■ ＣＦ：＋ＣＨＯＣＪｓ　、　ＣＦ３ＣＯＯＣＨｓ　、　
ＣＦＪ−ＣＣＪＬ　Ｆ−ＯＣＩ＋３ＦＩＩＦ ５）弗素化カルボン酸としてはたとえば。
一般式（ＩＶ）： ＣＦ３（ＣＦｔ）　ｒｌＣＯＯＩ目　　　　　　　　　
　　　　　　　　　（ＩＶ）（たたし、ｎは２〜４の整
数である） で表わされる化合物を挙げることかできる。
６）弗素化カルボンアミドとしてはたとえば、一般式（
Ｖ）： ＣＦ：１（ＣＦ２）ｎＣＯＮＨ２（Ｖ　）（ただし、ｎ
は２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることかできる。
ただし、本発明に用いられる弗素含有化合物は上記化合
物に限定されるものではなく、−分子中に少なくとも一
つの弗素原子を含む有機化合物であって、色素に対して
溶剤として機走しつる限り任、ａの化合物を用いること
ができる。
本発明において、上記弗素含有化合物は単独で溶剤とし
て用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用することに
より混合溶剤として用いてもよい。
そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、ｎ−ブ
タノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げることがで
きる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可
塑剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加しても
よい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質：およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂゛。
ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のア
クリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができる
。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（ｆｉ量比
）の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重量比）
の範囲にある。また、溶剤が弗素含有溶剤と他の溶剤と
の混合系である場合には、その組合せ１色素および基板
の種類によっても異なるが、一般には弗素含有溶剤は溶
剤全体の５〜９５％（ｆｆｉｆｉ量比範囲で使用され、
好ましくは３０〜９０％（重量比）の範囲にある。この
ようにして調製される塗布液の濃度は一般に０．０１〜
ｌＯ％（重量比）の範囲にあり、好ましくは０−１〜５
％（重量比）の範囲にある。
記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に０
．０１〜ｌｏＩＬｍの範囲にあり、好ましくは０．０２
〜Ｉｇｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。
さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるＳ／Ｎ
比の向上および記録時における感度の向上の目的で１反
射層が設けられてもよい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ
ｌ。
Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ。
Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができ
る。これらのうちで好ましいものはＡｎ、Ｃ「およびＮ
ｉである。これらの物質は単独で用いてもよいし、ある
いは二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい
。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
反射層の層厚は一般には１００〜３０００Ｘの範囲にあ
る。
なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側（基板とは反
対の側）から行なわれる。
また、記録層（または反射層）の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ，５ｉ０
２、ＭｇＦ２．５ｎ０２等の無機物質；熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（または銀塩層あるい
は反射層）上および／または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することか
できる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には０．１〜１１００ＪＬの範囲に
ある。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。
［実施例１］ シアニン系色素（上記構造式【５１： ％式％ ２ｇを、２，２，３．３−テトラフロロプロピルアルコ
ール（構造式：　ＩＩＣＦ＊ＣＦ＊Ｃ１ｌ＊０１１）　
ｌ　ＯＯｃ　ｃに溶解して塗布液（濃度：２重量％）を
調製した。
トラワキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１３０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ、厚さ：
　１．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６ｇｍ、グループ
の深さ：　８００Ｘ）上に、塗布液をスピンコード法に
より回転数２０００ｒｐｍの速度て塗布した後、７０°
Ｃの温度で１０分間乾燥して膜厚が０．０６μｍの記録
層を形成した。
このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
［比較例１］ 実施例１において、溶剤としてジクロロエタンを用いる
こと以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
得られた各情報記録媒体について、記録再生特性試験を
行なった。その結果、弗素含有溶剤な用いる本発明の方
法により製造された記録媒体（実施例１）は、基板表面
のグループに沿って記録再生特性を測定することができ
たが、一方従来の方法により製造された記録媒体（比較
例りは、基板表面の溶解によってグループが消失したた
めに記録再生特性を測定することがてきなかった。
［実施例２］ 実施例１において、塗布液にさらにクエンチャ−として
ニッケル錯塩系色素（上記構造式［２１１：をシアニン
色素と等モル添加して、塗布液を調製すること以外は実
施例１の方法と同様の処理を行なうことにより、基板お
よび記録層からなる情報記録媒体を製造した。
［実施例３］ 実施例２において、塗布液にさらにクエンチャ−として
ジインモニウム系色素（構造式：Ｎ（ＣＪ＊）＊　　　
　　　　　　　　　　Ｎ（ＣＪＪｔＮ（Ｃ４１１ｇ）ａ
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｎ（Ｃ，Ｉ
置、）２　　　　　　　　）をシアニン色素と等モル添
加して、塗布液を調製すること以外は実施例１の方法と
同様の処理を行なうことにより、基板および記Ｑ層から
なる情報記録媒体を製造した。
［実施例４］ 実施例１において、色素としてシアニン系色素（上記構
造式【９１： を用いること以外は実施例１の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
［実施例５］ 実施例１において、色素としてシアニン系色素を用いる
こと以外は実施例１の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
［実施例６］ 実施例１において１色素としてスクワリリウム系色素（
上記構造式［１３１： ″を用いること以外は実施例１の方法と同様の処理を行
なうことにより、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
実施例２〜６の各情報記録媒体について記録再生特性試
験を行なったところ、いずれも基板表面のグループが消
失せずに残っており、このグループに沿って記録再生特
性を測定することができた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
    または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
    録媒体を製造する方法において、弗素含有化合物を含む
    溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、該塗布液を
    基板上に塗布乾燥することにより記録層を形成すること
    を特徴とする情報記録媒体の製造法。 ２、上記弗素含有化合物が、弗素化アルコール、弗素置
    換ケトン、弗素置換エステル、弗素置換アミド、弗素置
    換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化エーテルから
    なる群より選ばれる少なくとも一種の化合物であること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体
    の製造法。 ３、上記弗素化アルコールが、一般式（ I ）： Ａ−ＣＨ＿２ＯＨ（ I ） ［ただし、ＡはＣＦ＿３またはＨ（ＣＦ＿２・ＣＦ＿２
    ）＿ｎであり、ｎは１乃至３の整数である］で表わされ
    る化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    記載の情報記録媒体の製造法。 ４、上記溶剤が弗素含有化合物のみからなることを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体の製造
    法。 ５、上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
    素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
    ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
    素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
    、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
    よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
    一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第１
    項記載の情報記録媒体の製造法。 ６、上記色素が、シアニン系色素もしくはシアニン系色
    素と他の色素との混合物であることを特徴とする特許請
    求の範囲第５項記載の情報記録媒体の製造法。 ７、上記基板がプラスチック物質からなることを特徴と
    する特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体の製造法
    。 ８、上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
    リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
    、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる群より選
    ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴とする特
    許請求の範囲第７項記載の情報記録媒体の製造法。 ９、上記基板がポリカーボネートからなることを特徴と
    する特許請求の範囲第８項記載の情報記録媒体の製造法
    。
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