JPS63193348A - 情報記録媒体の製造法 - Google Patents
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
情報の書き込みおよび/または読み取りができる情報記
録媒体の製造法に関するものである。
[発明の技術的背景]
近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大官:j:コンピュータ用ディスク・
メモリー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、
超マイクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真
植字川原!板などに応用されている。
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオ・ディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光ディスク、更には大容量静
止画像ファイル、大官:j:コンピュータ用ディスク・
メモリー、あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、
超マイクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真
植字川原!板などに応用されている。
情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。
Bi、Sn、In、Te等の金属または半金属;および
シアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られて
いる。
シアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られて
いる。
情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度−L
昇する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその
光学的特性を変えることにより情報が記録される。記録
媒体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記
録媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的
特性の変化に応じた反射光または透過光を検出すること
により情報が再生される。
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度−L
昇する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその
光学的特性を変えることにより情報が記録される。記録
媒体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記
録媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的
特性の変化に応じた反射光または透過光を検出すること
により情報が再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることがない。
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることがない。
記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。
シアニン系色素など大多数の色素は一般に溶解性が低く
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなトノハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。
、塗布液を調製する際には通常色素に対して溶解度の高
い溶剤としてジクロロメタン、ジクロロエタンなトノハ
ロゲン化炭化水素が使用されている。
しかしながら、これらのハロゲン化炭化水素系溶剤に対
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭59−217241号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布
した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられて
いるトラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、
基板材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下
するなどの問題がある。このような問題を解決するため
に、たとえば特開昭59−217241号公報には、予
めプラスチック基板にハロゲン化炭化水素溶剤に対する
不溶化処理を施すことが記載されている。
[発明の要旨]
本発明は、新規な溶剤を用いて情報記録媒体を製造する
方法を提供することをその目的とするものである。
方法を提供することをその目的とするものである。
また本発明は、情報記録媒体を製造するに際してノ、(
板を溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を
形成する方法を提供することもその目的とするものであ
る。
板を溶解することなく、塗布法により基板上に記録層を
形成する方法を提供することもその目的とするものであ
る。
さらに本発明は、情報記録媒体を筒易に製造する方法を
提供することもその目的とするものである。
提供することもその目的とするものである。
上記の目的は、基板りに、レーザーによる情報の書き込
みおよび/または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素置換ニ
トロ化合物を含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製し
た後、該塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録
層を形成することを特徴とする本発明の情報記録媒体の
製造法により達成することができる。
みおよび/または読み取りが可能な記録層が設けられて
なる情報記録媒体を製造する方法において、弗素置換ニ
トロ化合物を含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製し
た後、該塗布液を基板上に塗布乾燥することにより記録
層を形成することを特徴とする本発明の情報記録媒体の
製造法により達成することができる。
すなわち、本発明は、色素を記録材料とする記録層形成
のための塗布液調製用の溶剤として弗素置換ニトロ化合
物を用いることにより、塗布液の調製を容易にし、かつ
塗布液により基板が溶解するのを防止するものである。
のための塗布液調製用の溶剤として弗素置換ニトロ化合
物を用いることにより、塗布液の調製を容易にし、かつ
塗布液により基板が溶解するのを防止するものである。
本発明において、溶剤として用いられる弗素置換ニトロ
化合物はシアニン系色素などの色素に対する溶解度が高
いため、記録層形成のための塗布液を容易に調製するこ
とができる。また、この化合物はポリカーボネートなど
のプラスチック物質からなる基板に対して不溶性である
ため、塗布過程で基板が溶解することがない。
化合物はシアニン系色素などの色素に対する溶解度が高
いため、記録層形成のための塗布液を容易に調製するこ
とができる。また、この化合物はポリカーボネートなど
のプラスチック物質からなる基板に対して不溶性である
ため、塗布過程で基板が溶解することがない。
従って、本発明によれば、従来より問題となっていた基
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
板表面のグループの消失および記録層の反射率の低下な
どが生じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造す
ることができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化
処理などを行なう必要もないから、記録媒体の製造工程
が煩雑となったり、製造コストが高くなることもない。
[発明の構1rt、l
情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。
方法により製造することができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コスートなどの点から
、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタ
クリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のア
クリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の
塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;およびポリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル
:ソーダ石灰ガラス等のガラス:およびセラミックスを
挙げることができる。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コスートなどの点から
、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタ
クリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のア
クリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の
塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;およびポリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル
:ソーダ石灰ガラス等のガラス:およびセラミックスを
挙げることができる。
本発明の方法は基板材料がプラスチック物質である場合
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモリファス
ボリオレフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また、寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステ
ルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができる
。
に特に有効であり、そのうちでもポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、アモリファス
ボリオレフィン、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルで
ある場合に好適に適用することができる。また、寸度安
定性、透明性および平面性などの点から好ましいのは、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステ
ルおよびガラスである。なお、これらの材料はフィルム
状としてまたは剛性のある基板として使うことができる
。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の吹善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、yq
層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホンFist−11合体、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質;シランカップリング剤などの有機物質;および無
機酸化物(Sio、、A120.等)、無機弗化物(M
gFz)などの無機物質を挙げることができる。
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、yq
層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・スルホンFist−11合体、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質;シランカップリング剤などの有機物質;および無
機酸化物(Sio、、A120.等)、無機弗化物(M
gFz)などの無機物質を挙げることができる。
ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防IFするために、スチレン・無水マレイン酸共
重合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基
を有するポリマーからなる下塗層が設けられるのが望ま
しい。
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防IFするために、スチレン・無水マレイン酸共
重合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基
を有するポリマーからなる下塗層が設けられるのが望ま
しい。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ディップコート、エクストルージ菖ンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般にo、oos〜20
μmの範囲にあり、好ましくは0.001−1O1Lの
範囲である。
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ディップコート、エクストルージ菖ンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般にo、oos〜20
μmの範囲にあり、好ましくは0.001−1O1Lの
範囲である。
また、2&板(または下塗層)上には、トラッキング用
溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目
的で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルー
ブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエ
ステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少
なくとも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合
開始剤との混合物を用いることができる。
溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目
的で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルー
ブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエ
ステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少
なくとも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合
開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層にに
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板をIJ型から剥離することによりプレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜1100ILの範囲にあり、好
ましくは0.1〜504mの範囲である。基板材料がプ
ラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などに
より直接基板にグループが設けられてもよい。
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層にに
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板をIJ型から剥離することによりプレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜1100ILの範囲にあり、好
ましくは0.1〜504mの範囲である。基板材料がプ
ラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などに
より直接基板にグループが設けられてもよい。
なお1本発明において溶剤として用いられる弗素置換ニ
トロ化合物はプラスチック基板に対して不溶性であるの
みならず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不溶
性であるから、基板上に記録層を直接に設ける場合のみ
ならず、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも同
様の効果が得られるものである。
トロ化合物はプラスチック基板に対して不溶性であるの
みならず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不溶
性であるから、基板上に記録層を直接に設ける場合のみ
ならず、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも同
様の効果が得られるものである。
基板(またはプレグルーブ層等)上には記録層が設けら
れる。
れる。
記録層は、実質的に色素のみからなる層であるか、ある
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層である
。
いは色素とこれを分散含有する結合剤からなる層である
。
本発明において色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素。
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの
金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色
素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素。
トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。
以下糸1−1
これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーデ−の利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
発振する半導体レーデ−の利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
その例としては、
i)シアニン系色素:
Ill (CH3)zN−(CH−CH)s−CH−・
N(CH3)2C1n5−(ただし、nは2または3で
ある) (ただし、Rは水素原子またはN(C113)2である
) 14] A−(OH−OH)n−CH−Bであり、R
はアルキル基であり、又は対イオンであり、場合により
ベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子、アルキル
基、アルコキシ基また1よアリール基が存在していても
よく、nはθ〜3の整数である) (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハl」ゲン原子
である) (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、R1換または未こ換のベンゼンスルホネート
、パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エ
チルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチル
カルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルポーシ
レートであり、nはθ〜3の整数である)(ただし、R
1,R2およびR3はそれぞれ置換または未置換のアル
キル基であって,互いに同じか異なっていてもよく、X
−は過)\ロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン
またはアル%tル硫酸イオンであり、nはθ〜3の整数
であり、そしてインドレニン環の4位、5位、6位およ
び7位のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在し
,場合により他の位置にさらにl\ロゲン原子が存在し
ていてもよく,さらに場合によりベンゼン環はアルキル
基、アルコキシ基,ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリ
ル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよ
い) (ただし、AIおよびA2はそれぞれ水素匝・子または
置換基であり,Zは三員複素環を形成するのに必要な原
子団であり、R1−R4はそれぞれ水素原子または置換
基であり RSは置換基であるかまたはZと共に六員複
素環を形成してもよく,x−は陰イオンであり,nはO
〜2の整数である) 以下余白 [111Φ−L=f (X−)* (ただし、Φおよびヤはそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドール環残基、チアゾール環残基、オギサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、X−
は陰イオンであり1mは0または1である)目)スクワ
リリウム系色素: i ii)アズレニウム系色素: (ただし、R1とR2,l(2と1li3,1li3と
R4,R4とR5,R5とR6およびR6とR7の組合
せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換
の複素環または脂肪族環による環4′−形成し、鎖環を
形成しないときのR1,R2、R3,R4,R5,R6
およびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一
価の有機残基であり、あるいはR1と)R2,1li3
と)R4,R4とR5,R5とR6およびR6とR1の
組合せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未
置換の芳香族環を形成してもよく、Aは二重結合によっ
て結合した二価の有機残基であり、Z−はアニオン残基
である。なお、アズレン環を構成する少なくとも一つの
炭素原子が窒素原子で置き換えられてアザアズレン環と
なっていてもよい、)ii)インドフェノール系色素: (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,1’(2およびR31にそれぞれ水素原子
、C1〜C211の置換または未置換のアルキル基、ア
リール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは
−NHCO−または−GOMB−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、R1−R4はそれぞれアルー屑ル基またはア
リール基であり1Mは二価の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3)n (R3) n
(ただし、)IIおよびR2はそれぞれ置換または未置
換のアルキル基またはアリール基であり、R3はアルキ
ル基、ハロゲン原子または換または未置換のアルキル基
またはアリール基である)であり1Mは遷移金属原子で
あり、nは0めに必要な陽イオンであり、MはNi、C
u、C01PdまたはPLであり、nは1または2であ
る) (ただし、[Catlは錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi、Cm、Go、Pdまた
はPtであり、nは1または2で(ただし、又は水素原
子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは1
〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である)
以下余白 (ただし、XIおよびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、nlおよびR2はそれぞれ
1〜3の整数であり1、R1およびR2はそれぞれアミ
ノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ア
セチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイル
アミノ基を含む)であり、Xlとx2、nlとR2およ
びR1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なって
いてもよ<、MはCrまたはCO原子であり、Yは水素
、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモ
ニウム(g1換脂肪族アンモニウムを含む)または脂環
族アンモニウムである)マi)ナフトキノン系、アント
ラキノン系色素:(ただし、Rは水素原子、アルキル基
、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である)(た
だし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基
または置換アミ7基である)(ただし、Rは水素原子、
アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基で
ある)(ただし、Xはハロゲン原子であり、nは0〜l
Oの整数である) 以下余白 (ただし、Xはハロゲン原子である) ON)120 などを挙げることができる。
N(CH3)2C1n5−(ただし、nは2または3で
ある) (ただし、Rは水素原子またはN(C113)2である
) 14] A−(OH−OH)n−CH−Bであり、R
はアルキル基であり、又は対イオンであり、場合により
ベンゼン環またはナフタリン環には塩素原子、アルキル
基、アルコキシ基また1よアリール基が存在していても
よく、nはθ〜3の整数である) (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハl」ゲン原子
である) (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、バーク
ロレート、R1換または未こ換のベンゼンスルホネート
、パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エ
チルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチル
カルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルポーシ
レートであり、nはθ〜3の整数である)(ただし、R
1,R2およびR3はそれぞれ置換または未置換のアル
キル基であって,互いに同じか異なっていてもよく、X
−は過)\ロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン
またはアル%tル硫酸イオンであり、nはθ〜3の整数
であり、そしてインドレニン環の4位、5位、6位およ
び7位のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在し
,場合により他の位置にさらにl\ロゲン原子が存在し
ていてもよく,さらに場合によりベンゼン環はアルキル
基、アルコキシ基,ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリ
ル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよ
い) (ただし、AIおよびA2はそれぞれ水素匝・子または
置換基であり,Zは三員複素環を形成するのに必要な原
子団であり、R1−R4はそれぞれ水素原子または置換
基であり RSは置換基であるかまたはZと共に六員複
素環を形成してもよく,x−は陰イオンであり,nはO
〜2の整数である) 以下余白 [111Φ−L=f (X−)* (ただし、Φおよびヤはそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドール環残基、チアゾール環残基、オギサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Lはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、X−
は陰イオンであり1mは0または1である)目)スクワ
リリウム系色素: i ii)アズレニウム系色素: (ただし、R1とR2,l(2と1li3,1li3と
R4,R4とR5,R5とR6およびR6とR7の組合
せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換
の複素環または脂肪族環による環4′−形成し、鎖環を
形成しないときのR1,R2、R3,R4,R5,R6
およびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一
価の有機残基であり、あるいはR1と)R2,1li3
と)R4,R4とR5,R5とR6およびR6とR1の
組合せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未
置換の芳香族環を形成してもよく、Aは二重結合によっ
て結合した二価の有機残基であり、Z−はアニオン残基
である。なお、アズレン環を構成する少なくとも一つの
炭素原子が窒素原子で置き換えられてアザアズレン環と
なっていてもよい、)ii)インドフェノール系色素: (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R1,1’(2およびR31にそれぞれ水素原子
、C1〜C211の置換または未置換のアルキル基、ア
リール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは
−NHCO−または−GOMB−である) ■)金属錯塩系色素: (ただし、R1−R4はそれぞれアルー屑ル基またはア
リール基であり1Mは二価の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Mは二価の遷移金属原子である) (R3)n (R3) n
(ただし、)IIおよびR2はそれぞれ置換または未置
換のアルキル基またはアリール基であり、R3はアルキ
ル基、ハロゲン原子または換または未置換のアルキル基
またはアリール基である)であり1Mは遷移金属原子で
あり、nは0めに必要な陽イオンであり、MはNi、C
u、C01PdまたはPLであり、nは1または2であ
る) (ただし、[Catlは錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi、Cm、Go、Pdまた
はPtであり、nは1または2で(ただし、又は水素原
子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは1
〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である)
以下余白 (ただし、XIおよびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、nlおよびR2はそれぞれ
1〜3の整数であり1、R1およびR2はそれぞれアミ
ノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ア
セチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイル
アミノ基を含む)であり、Xlとx2、nlとR2およ
びR1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なって
いてもよ<、MはCrまたはCO原子であり、Yは水素
、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモ
ニウム(g1換脂肪族アンモニウムを含む)または脂環
族アンモニウムである)マi)ナフトキノン系、アント
ラキノン系色素:(ただし、Rは水素原子、アルキル基
、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である)(た
だし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基
または置換アミ7基である)(ただし、Rは水素原子、
アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基で
ある)(ただし、Xはハロゲン原子であり、nは0〜l
Oの整数である) 以下余白 (ただし、Xはハロゲン原子である) ON)120 などを挙げることができる。
これらの色素のうちで1本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるし1は二種以上の混合物と
して用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合
に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系会ジインモ
ニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いてもよし
)。
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるし1は二種以上の混合物と
して用いてもよい、また、シアニン系色素を用いる場合
に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系会ジインモ
ニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いてもよし
)。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し1次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち屹燥することによ
り行なうことができる。
溶剤に溶解して塗布液を調製し1次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち屹燥することによ
り行なうことができる。
本発明の特徴的な要件である塗布液m製用の溶剤には、
少なくとも一部が弗素で置換されたニトロ化合物が用い
られる。
少なくとも一部が弗素で置換されたニトロ化合物が用い
られる。
本発明に用いられる弗素置換ニトロ化合物としては、た
とえば一般式(I): A−NO2(L) (ただし、Aは炭素数1〜20の置換または無置換のア
ルキル基またはアリール基であって、かつ少なくとも一
つの水1gM子が弗素で置換されている) で表わされる化合物を挙げることができる。
とえば一般式(I): A−NO2(L) (ただし、Aは炭素数1〜20の置換または無置換のア
ルキル基またはアリール基であって、かつ少なくとも一
つの水1gM子が弗素で置換されている) で表わされる化合物を挙げることができる。
上記一般式CI)において、A上の置換基としては、弗
素原子の他に塩素原子、臭素原子、ニトロ基、水酸基、
置換またはS置換のアルキル基、アリール基、フェニル
基、置換ま、たは無置換のアルキルスルホニル基、置換
または無置換のベンゼンスルホニル基、置換または無置
換のアミノ基が挙げられる。また、該化合物の分子量は
400以ドであるのが好ましい。
素原子の他に塩素原子、臭素原子、ニトロ基、水酸基、
置換またはS置換のアルキル基、アリール基、フェニル
基、置換ま、たは無置換のアルキルスルホニル基、置換
または無置換のベンゼンスルホニル基、置換または無置
換のアミノ基が挙げられる。また、該化合物の分子量は
400以ドであるのが好ましい。
その具体例としては下記化合物が挙げられる。
ただし、本発明に用いられる弗素置換ニトロ化合物は上
記化合物に限定されるものではなく、−分子中に少なく
とも一つの弗素原子とニトロ基を含む有機化合物であっ
て、色素に対して溶剤として機能しうる限り任意の化合
物を用いることができる。
記化合物に限定されるものではなく、−分子中に少なく
とも一つの弗素原子とニトロ基を含む有機化合物であっ
て、色素に対して溶剤として機能しうる限り任意の化合
物を用いることができる。
本発明において、上記弗素置換ニトロ化合物は単独で溶
剤として用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用する
ことにより混合溶剤として用いてもよい。
剤として用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用する
ことにより混合溶剤として用いてもよい。
そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロンルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、n−プロパツール、インプロパツール、 n
−ブタノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げるこ
とができる。
酸エチル、酢酸ブチル、セロンルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、n−プロパツール、インプロパツール、 n
−ブタノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げるこ
とができる。
なお、弗素i換ニトロ化合物が常温で固体である場合に
は上記溶剤との混合溶剤として用いられる。
は上記溶剤との混合溶剤として用いられる。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤。
可塑剤、滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。
もよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質:およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂1、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体
、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂
の初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることが
できる。
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質:およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂1、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体
、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂
の初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることが
できる。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に。
結合剤に対する色素の比率は一般に0.O1〜、99%
(重量比)の範囲にあり、好ましくは1゜0〜95%(
重量比)の範囲にある。また、溶剤が弗素置換ニトロ化
合物と他の溶剤との混合系である場合には、その組合せ
1色素および基板の種類によっても異なるが、一般には
弗素置換ニトロ化合物は溶剤全体の5〜95%(重量比
)の範囲で使用され、好ましくは30〜90%(重量比
)の範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃
度は一般に0.01−10%(重量比)の範囲にあり、
好ましくは0.1〜5%(重量比)の範囲にある。
(重量比)の範囲にあり、好ましくは1゜0〜95%(
重量比)の範囲にある。また、溶剤が弗素置換ニトロ化
合物と他の溶剤との混合系である場合には、その組合せ
1色素および基板の種類によっても異なるが、一般には
弗素置換ニトロ化合物は溶剤全体の5〜95%(重量比
)の範囲で使用され、好ましくは30〜90%(重量比
)の範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃
度は一般に0.01−10%(重量比)の範囲にあり、
好ましくは0.1〜5%(重量比)の範囲にある。
記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に0
.01 NN10ILの範囲にあり、好ましくは0.0
2〜IILmの範囲にある。また、記録層は基板の片面
のみならず両面に設けられていてもよい。
.01 NN10ILの範囲にあり、好ましくは0.0
2〜IILmの範囲にある。また、記録層は基板の片面
のみならず両面に設けられていてもよい。
さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるS/N
比の向上および記録時における感度の向上の目的で1反
射層が設けられてもよい。
比の向上および記録時における感度の向上の目的で1反
射層が設けられてもよい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、N b、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Go、Ni、Ru、Rh、
Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
n、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn
、Biなどの金属および半金属を挙げることができる。
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、N b、Ta、Cr、M
o、W、Mn、Re、Fe、Go、Ni、Ru、Rh、
Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
n、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn
、Biなどの金属および半金属を挙げることができる。
これらのうちで好ましいものはA見。
CrおよびNiである。これらの物質は単独で用いても
よいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として
用いてもよい。
よいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として
用いてもよい。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000又の範囲にあ
る。
る。
なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側()^板とは
反対の側)から行なわれる。
、この場合には情報の記録再生は記録層側()^板とは
反対の側)から行なわれる。
また、記録層(または反射層)の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
保護層に用いられる材料の例としては、SiO,5i0
2、MgF2.5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
2、MgF2.5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層あるい
は反射層)上および/または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、UV光を照射して硬化させる・ことによって
も形成することができる。これらの塗布液中には、更に
帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を
目的に応じて添加してもよい。
フィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層あるい
は反射層)上および/または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、UV光を照射して硬化させる・ことによって
も形成することができる。これらの塗布液中には、更に
帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を
目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.1”1100pの範囲にあ
る。
る。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
中板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚のノ^板を記録層が内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚
の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有す
る基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側
スペーサとを介して接合することにより、エアーサンド
イッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
中板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚のノ^板を記録層が内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚
の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有す
る基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側
スペーサとを介して接合することにより、エアーサンド
イッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
以下に1本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。
[実施例1]
シアニン系色素(上記構造式【5]:
%式%)
2gを、トリフロロニトロメタン(構造式: CF+−
NO2)100ccに溶解して塗布液(濃度=2重量%
)を調製した。
NO2)100ccに溶解して塗布液(濃度=2重量%
)を調製した。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板(外径:130mm、内径:15mm、厚さ:
1.2mm、トラックピッチ:1.6終m、グループの
深さ=800ス)上に、塗布液をスピンコード法により
回転数200゜rpmの速度で塗布した後、70℃の温
度で10分間乾燥して膜厚が0.064mの記録層を形
成した。
ート基板(外径:130mm、内径:15mm、厚さ:
1.2mm、トラックピッチ:1.6終m、グループの
深さ=800ス)上に、塗布液をスピンコード法により
回転数200゜rpmの速度で塗布した後、70℃の温
度で10分間乾燥して膜厚が0.064mの記録層を形
成した。
このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。
体を製造した。
[実施例2]
実施例1において、溶剤としてペンタフロロニF
) のエタノール溶液(混合比: l / 1 、 g /
c c )を用いること以外は実施例1の方法と同様
の処理を行なうことにより、基板および記録層からなる
情報記録媒体を製造した。
) のエタノール溶液(混合比: l / 1 、 g /
c c )を用いること以外は実施例1の方法と同様
の処理を行なうことにより、基板および記録層からなる
情報記録媒体を製造した。
[比較例1]
実施例1において、溶剤としてジクロロエタンを用いる
こと以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
こと以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことに
より、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造し
た。
得られた各情報記録媒体について、記録再生特性試験を
行なった。その結果、溶剤として弗素置換ニトロ化合物
を用いる本発明の方法により製造された記録媒体(実施
例1および2)は、基板表面のグループに沿って記録再
生特性を測定することができたが、一方従来の方法によ
り製造された記録媒体(比較例1)は、基板表面の溶解
によってグループが消失したために記録再生特性を測定
することができなかった。
行なった。その結果、溶剤として弗素置換ニトロ化合物
を用いる本発明の方法により製造された記録媒体(実施
例1および2)は、基板表面のグループに沿って記録再
生特性を測定することができたが、一方従来の方法によ
り製造された記録媒体(比較例1)は、基板表面の溶解
によってグループが消失したために記録再生特性を測定
することができなかった。
[実施例3.4]
実施例1および2において、各塗布液にさらにクエンチ
ャ−としてニッケル錯塩系色素(上記構造式[211: をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外はそれぞれ実施例1および2の方法と同様の処理
を行なうことにより、基板および記録層からなる情報記
録媒体を製造した。
ャ−としてニッケル錯塩系色素(上記構造式[211: をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外はそれぞれ実施例1および2の方法と同様の処理
を行なうことにより、基板および記録層からなる情報記
録媒体を製造した。
[実施例5,6]
実施例1および2において、各塗布液にさらにクエンチ
ャ−としてジインモニウム系色素(構造式: %式%) をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外はそれぞれ実施例1および2の方法と同様の処理
を行なうことにより、基板および記録層からなる情報記
録媒体を製造した。
ャ−としてジインモニウム系色素(構造式: %式%) をシアニン色素と等モル添加して、塗布液を調製するこ
と以外はそれぞれ実施例1および2の方法と同様の処理
を行なうことにより、基板および記録層からなる情報記
録媒体を製造した。
[実施例7,8]
実施例1および2において1色素としてシアニン系色素
(上記構造式【9]: %式%) を用いること以外はそれぞれ実施例1および2の方法と
同様の処理を行なうことにより、基板および記録層から
なる情報記録媒体を製造した。
(上記構造式【9]: %式%) を用いること以外はそれぞれ実施例1および2の方法と
同様の処理を行なうことにより、基板および記録層から
なる情報記録媒体を製造した。
[実施例9,101
実施例1および2において1色素としてシアニを用いる
こと以外はそれぞれ実施例1および2の方法と同様の処
理を行なうことにより、U板および記録層からなる情報
記録媒体を製造した。
こと以外はそれぞれ実施例1および2の方法と同様の処
理を行なうことにより、U板および記録層からなる情報
記録媒体を製造した。
[実施例11.12]
実施例1および2において、色素としてスクワリリウム
系色素(上記構造式[13] :を用いること以外はそ
れぞれ実施例1および2の方法と同様の処理を行なうこ
とにより、基板および記録層からなる情報記録媒体を製
造した。
系色素(上記構造式[13] :を用いること以外はそ
れぞれ実施例1および2の方法と同様の処理を行なうこ
とにより、基板および記録層からなる情報記録媒体を製
造した。
実施例3〜12の各情報記録媒体について記録再生特性
試験を行なったところ、いずれも基板表面のグループが
消失せずに残っており、このグループに沿って記録再生
特性を測定することができた。
試験を行なったところ、いずれも基板表面のグループが
消失せずに残っており、このグループに沿って記録再生
特性を測定することができた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび/
または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
録媒体を製造する方法において、弗素置換ニトロ化合物
を含む溶剤に色素を溶解して塗布液を調製した後、該塗
布液を基板上に塗布乾燥することにより記録層を形成す
ることを特徴とする情報記録媒体の製造法。 2、上記弗素置換ニトロ化合物が、 一般式( I ): A−NO_2( I ) (ただし、Aは炭素数1〜20の置換または無置換のア
ルキル基またはアリール基であって、かつ少なくとも一
つの水素原子が弗素で置換されている) で表わされる化合物であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法。 3、上記溶剤が弗素置換ニトロ化合物のみからなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体
の製造法。 4、上記色素が、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ピリリウム、チオピリリウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、アズレニウム系色素、インドフェノール系色
素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素
、キノン系色素、アミニウム、ジインモニウム系色素お
よび金属錯塩系色素からなる群より選ばれる少なくとも
一種の色素であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報記録媒体の製造法。 5、上記色素が、シアニン系色素もしくはシアニン系色
素と他の色素との混合物であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法。 6、上記基板がプラスチック物質からなることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体の製造法
。 7、上記基板が、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
、ポリエステルおよびポリ塩化ビニルからなる群より選
ばれる一種の高分子化合物からなることを特徴とする特
許請求の範囲第6項記載の情報記録媒体の製造法。 8、上記基板がポリカーボネートからなることを特徴と
する特許請求の範囲第7項記載の情報記録媒体の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62025008A JPS63193348A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 情報記録媒体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62025008A JPS63193348A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 情報記録媒体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63193348A true JPS63193348A (ja) | 1988-08-10 |
Family
ID=12153905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62025008A Pending JPS63193348A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 情報記録媒体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63193348A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03142281A (ja) * | 1989-10-30 | 1991-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体及びその記録方法 |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP62025008A patent/JPS63193348A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03142281A (ja) * | 1989-10-30 | 1991-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体及びその記録方法 |
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