JPH023452A - 色素溶液組成物および情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［発明の分野１ 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび／または読み取りができる情報記
録媒体を製造するために特に有利に使用される色素溶液
組成物に関するものである。 ［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、たとえばビデオｅディスク、オ
ーディオ・ディスクなどの光デ仁スク、更には大容量静
止画像ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモ
、リ−１あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超
マイクロ画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植
字用原版などに応用されている。 情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔ
ｅ等の金属または半金属：およびシアニン系、金属錯体
系、キノン系等の色素が知られている。 情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。 また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を設け、この二枚の基板を記録層が内側に位
置し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合してなるエアー
サンドイッチ構造が提案されている。このような構造を
有する情報記録媒体では、記録層は直接外気に接するこ
とがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー
光で行なわれるために、一般に記録層が物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着
して情報の記録、再生の障害となることがない。 記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高感度で
あるなど記録媒体自体の特性において優れていることの
ほかに、記録層を塗布法により基板上に簡単に形成する
ことができるという製造上の大きな利点を有している。 一方、色素記録層はレーザーの照射により劣化し易いと
いう欠点を有している。また色素記録層は高感度である
といってもピットを形成するための初期のエネルギーが
小さいという意味であり、完全なピットを形成するため
には金属記録層よりむしろ大きなエネルギーを必要とす
るとの問題がある。 上記色素記録層の光劣化については、基本的には色素の
耐光性が充分な性能を有していないことに起因する。こ
のような色素の光劣化を防止するための方法として１例
えば特定のインドレニン系色素に特定のジインモニウム
系化合物を添加することが提案されている（特開昭６２
−５０１８７号公報）、上記公報の方法によれば光劣化
を防止することはできるが、上記インドレニン系色素は
、それを記録層とした場合、記録層としての特性が考慮
されていないため充分な反射率および高いＣ／Ｎを有す
る記録層を得ることはできない。 一方、記録層を塗布時の聞届点として、シアニン系色素
など多くの色素は一般に溶解性が低いことから、塗布液
を３１製する際には通常色素に対して溶解度の高い溶剤
としてジクロロメタン、ジクロロエタンなどの塩素化炭
化水素が使用されている。 しかしながら、これらの塩素化炭化水素系溶剤に対して
プラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を塗布した
場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けられている
トラッキング用グループなどの凹凸が消失したり、基板
材料の記録層への混入により記録層の反射率が低下する
などの問題がある。このような問題を解決するために、
たとえば特開昭５９−２１７２４１号公報には、予めプ
ラスチック基板に塩素化炭化水素溶剤に対する不溶化処
理を施すことが記載されている。 ［発明の目的］ 本発明は、情報記録媒体を製造するために特に有利に用
いられる新規な色素溶液組成物およびこれを用いた情報
記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して、塗布
法により、基板を溶解することなく基板上に記録再生特
性および耐光性の優れた記録層を形成する方法およびそ
れに特に有利に特に有利に用いられる色素溶液組成物を
提供することもその目的とする。 さらに本発明は、記録再生特性および耐光性の優れた情
報記録媒体を簡易に製造する方法を提供することもその
目的とする。 ［発明の要旨］ 本発明は、下記の一般式（Ｉ）； Φ◆−（ＣＨ＝ＣＨ）ｎＣＨ＝Ψ（Ｘｍ−ＣＩ）ｒ、Ｃ
Ｈ＝！　　（Ｘ”−）＋１ｓ（Ｉ）ｘトは凋価の陰イオ
ンであり、ｍは１または２であり。 そして、ｘトはΦ、　−（（Ｈ＝ＣＨ）　ｎｃＨ＝また
は！上に置換して分子内塩を形成しても良く、またΦと
−（ＣＨ＝ＣＨ）　ｎｃＨ＝、または−（ＣＨ＝ＣＨ）
ｎＣＨ＝Ψ（Ｘｍ−ＯＲ）　ｎｃＨ＝と！とはさらに連
結して環を形成しても良い］で表わされるシアニン系色
素。 および下記の一般式（Ｕ）； ［ただし、Φおよび！はそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、オキ
サゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環
残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基、イ
ミダゾキノキサリン環残基またはアミン残基であり、互
いに同一でも異なっていてもよく、 −（ＣＨ＝ＣＨ）　ｅｃＨ＝はモノカルボシアニン、ジ
カルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラカル
ボシアニンを形成するための連結基であり、ｎは０〜５
であり、 ［式中１１１，１ｌｉ２，１ｌｉ３およびＲ４はそれぞ
れ、置換されていてもよいアルキル基、置換されていて
もよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基
を表わし、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ５，
Ｒ６，Ｒ７およびＲ８はそれぞれ、水素原子、ハロゲン
原子１Ｍ換されてぃてもよいアルキル基、置換されてい
てもよいアルケニル基、置換されていてもよいフェニル
基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されてい
てもよいフェノキシ基、置換されていてもよいアシル基
、置換されていてもよいアルキルスルホニル基もしくは
ベンゼンスルホニル基、またはシアノ基を表わし、互い
に同一でも異なっていてもよく、ｎは１または２を表わ
す、だたし　ＲＩＲ２，Ｒ３とＲ４，Ｒ６とＲ７，Ｒ５
とＲ８は互いに連結して環を形成していてもよい、］で
表わされるジインモニウム系化合物、が弗素含有化合物
系溶剤に溶解されてなる色素溶液組成物、および； プラスチック基板上に、レーザーによる書込□みおよび
／または読み取りが可能な色素からなる記録層が設けら
れてなる情報記録媒体を製造する方法において、上記色
素溶液組成物を該基板上に塗布し１次、に乾燥すること
により、記録層を形成することを特徴とする情報記録媒
体の製造方法にある。 上記本発明の色素溶液組成物および情報記録媒体の製造
方法の好ましい態様は下記のとおりである。 ｌ）上記−数式（Ｉ）における、Φおよび！がそれぞれ
芳香族環が縮合していてもよいインドレニン環残基また
はイミダゾキノキサリン環残基であることを特徴とする
上記色素溶液！Ｉ成物および情報記録媒体の製造方法。 ２）上記弗素含有化合物系溶剤が、弗素化アルコール、
弗素置換ケトン、弗素置換エステル、弗素置換アミド、
弗素置換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化エーテ
ルからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物であ
ることを特徴とする上記色素溶液組成物および情報記録
媒体の製造方法。 ３）上記弗素含有化合物系溶剤が、−数式（）： ％式％ ［ただし、ＡはＦ　（Ｃｎ　Ｆ　２１１）　　ま　た　
はＨ（Ｃ，Ｆ１ａ）　　であり、ｎはｌ乃至６の整数で
ある１ で表わされる弗素化アルコールであることを特徴とする
上記色素溶液組成物および情報記録媒体の製造方法。 ４）上記シアニン系色素と上記ジインモニウム系化合物
との割合が、重量比で９９．９９：０．０１〜ｓｏ　：
　ｓｏの範囲にあることを特徴とする上記色素溶液組成
物および情報記録媒体の製造方法。 ５）上記プラスチック基板が、ポリカーボネートからな
ることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。 ［発明の効果］ 本発明の色素溶液組成物は、特定のシアニン系色素、ジ
インモニウム系化合物および弗素含有化合物系溶剤を主
成分としている。 上記本発明の色素溶液組成物を用いることにより記録再
生特性および耐光性の優れた情報記録媒体を容易に製造
することができる。 すなわち、本発明に使用される上記−数式（Ｉ）で表わ
されるシアニン系色素は、記録層となった場合は極めて
高い反射率と高Ｃ／Ｎを有するものである。しかしなが
ら、上記シアニン系色素は、レーザーの照射により劣化
しやすい、このため、上記−数式（ＩＩ）で表わされる
特定ジインモニウム系化合物を鰯加することにより耐光
性を向上させている。さらに、上記シアニン系色素は、
通常の溶剤には溶は難く、また溶解させることができる
溶剤は情報記録媒体の樹脂基板をも溶解させるとの問題
がある０本発明の色素溶液組成物に用いられる弗素含有
化合物は、上記シアニン系色素に対する溶解度が高いた
め、記録層形成のための塗布液を容易に調製することが
できる。また、この化合物はポリカーボネートなどのプ
ラスチック物質からなる基板に対して不溶性であるため
、塗布過程で基板を溶解することがない。 従って、本発明に色素溶液組成物およびこれを使用する
製造方法を用いることにより、高い反射率と高Ｃ／Ｎを
有し、耐光性の優れた情報記録媒体を得ることができる
。ざらに′、耐光性が優れていることから、読み取り耐
久性等の耐久性も向上する。 ［発明の詳細な記述］ 情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。 本発明において使用するプラスチック基板は。 従来の情報記録媒体の基板として用いられている各種の
材料から任意に選択することができる。基板の光学的特
性、平面性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造
コストなどの点から、基板材料の例としては、セルキャ
ストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメチルメ
タクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；
およびポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン、ポリエステルを挙げることができる。 これらのなかでもポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
、ポリエステルまたはポリ塩化ビニルである場合に好適
に適用することができる。また１寸度安定性、透明性お
よび平面性などの点から好ましいのは、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ア
モルファスポリオレフィンおよびポリエステルである０
本発明の方法で特に有効なものは溶剤に侵されやすいポ
リカーボネートである。なお、これら゛の材料はフィル
ム状としてまたは剛性のある基板として使うことができ
る。　記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の
改善、接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で
、下塗層が設けられてもよい、下塗層の材料としてはた
とえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタ
クリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体
、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、スチレン・スルホン酸共重合体、スチレン・ビニル
トルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニ
トロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィ
ン、ポリエステル。 ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレ
ン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカ
ップリング剤などの有機物質を挙げることができる。 下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を３１９１１．たのち、この塗布液をス
ピンコード、デイツプコート、エクストルージ、ソコー
トなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｏｓ
〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０ｐ
ｍの範囲である。 また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸、の形成の目
的で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルー
ブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエ
ステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少
なくとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合
開始剤との混合物を用いることができる。 プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板またはｆｆｌ型を介して紫外線
の照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させ
る０次いで、基板を母型から剥離することによりプレグ
ルーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層
の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好
ましくは０．１〜５０ＩＬｍの範囲である。基板材料が
プラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形など
により直接基板にグループが設けられてもよい。 なお、本発明において溶剤として用いられる弗素含有化
合物系溶剤はプラス、チック基板に対して不溶性である
のみならず、このプレグルーブ層材料に対しても殆ど不
溶性であるから、基板上に記録層を直接に設ける場合の
みならず、プレグルーブ層上に記録層を設ける場合にも
同様の効果が得られるものである。 基板（またはプレグルーブ層等）上には記録層が設けら
れる。 記録層は、実質的に色素およびジインモニウム系化合物
からなる層であるか、あるいは色素等とこれを分散含有
する結合剤からなる層である。 本発明に使用される色素は、下記の一般式（Ｉ）を有す
るシアニン系色素であることが必要である。 Φ・　−（ＣＨ＝ＣＨ）ｎｃＨ＝　’ｌ’　　　（Ｘ”
−ｈｚｓ　　　（Ｉ　）（ただし、Φおよび！はそれぞ
れ芳香族環が縮合していてもよいインドレニン環残基、
チアゾール環残基、オキサゾール環残基、セレナゾール
環残基、イミダゾール環残基、ピリジン環残基、チアゾ
ロピリミジン環残基、イミダゾキノキサリン環残基また
はアミン残基であり、互いに同一でも異なっていてもよ
く、 −（ＣＨ＝ＣＨ）ｎＣＨ＝Ψ（Ｘｍ−ＣＩ）　ｎＣＨ＝
はモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカルボ
シアニンまたはテトラカルボシアニンを形成するための
連結基であり、ｎは０〜５であり。 ｘトはｍ価の陰イオンであり、ｍは１または２であり、 そしてＸ計はΦ、−（ＣＨ＝ＣＨ）ｎＣＨ＝Ψ（Ｘｍ諺
ＣＨ）ｎＣＨ＝または！上に２２換して分子内塩を形成
しても良く、またΦと−（ＣＨ＝ＣＨ）ｎＣＨ＝Ψ（Ｘ
ｍ−ＣＩ）　ｎｃｕ＝、または−（ＯＲ−ＣＩ）　ｎＣ
Ｈ＝と！とはさらに連結して環を形成しても良い）上記
シアニン系色素としては、−数式（Ｉ）における、Φお
よび市がそれぞれ芳香族環が縮合していてもよいインド
レニン環残基またはイミダゾキノキサリン環残基である
ものが、得られる記録層の反射率およびＣ／Ｎが高い点
で好ましい。 上記Ｘ・−で表わされる陰イオンとしては、Ｃｌ−、Ｂ
ｒ−、Ｉ−、ＣＨ３０ＳＯ３−、パラトルエンスルホン スルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ブタンス
ルホン酸イオン、ナフタレン−１．５−ジスルホン酸イ
オン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ＰＦｂ　
−　、ＢＦｓ　−　、Ｃ文０４−等を挙げることができ
，好ましくはトリフルオロメタンスルホン酸イオン、Ｐ
Ｆ６−、ＣＪＬＯ４−である。 上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｂ）等が挙げられる。 ２Ｈ５ Ｉ　Ｏｓ ２Ｈ５ し２１１５ しｔ’３＞υ３ ｔ；２ｎ５ ［ｈｌ ［ｋｌ ［ｉｌ ［＋１ ［ｊｌ 本発明にお８ｔて上記本発明の特定のシアニン系色素と
併用して、従来より情報記録媒体の記録材料として知ら
れている任意の色素を用いてのよい、た、にえば１本発
明以外のシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ピリ
リウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素
、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系
色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インド
フェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニ
ルメタン系色素、トリアリルメタン系色素。 アミニウム系Φジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。これらのうちでも記録再生
用レーザーとして近赤外光を発振する半導体レーザーの
利用が実用化されている点から、７００〜９００ｎｍの
近赤外領域の光に対する吸収率が高い色素が好ましい。 本発明の色素溶液組成物は、下記の一般式（ｎ）で表わ
されるジインモニウム系化合物を含んでいる。 一般式（ｎ） ［式中Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３およびＲ４はそれぞれ、置換さ
れていてもよいアルキル基、こ換されていてもよいアル
ケニル基、置換されていてもよいアリール基を表わし、
Ｒ５，１１１６，）ｉ７およびＲ８は互いに独立に、水
素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル
基、こ換されていてもよいアルケニル基、置換されてい
てもよいフェニル基、置換されていてもよいアルコキシ
基、置換されていてもよいフェノキシ基、ｇ！Ｉ換され
ていてもよいアシル基、ａ！１換されていてもよいアル
キルスルホニル基もしくはベンゼンスルホン酸ノ、（、
またはシアノ基を表わし、ｘｎ−はｎ価の陰イオンを表
わし、互いに同一でも異なっていてもよ＜、ｎは１また
は２を表わす、だたし、Ｒ１Ｒ２，Ｒ３と１１ｉ４．Ｒ
６とｌ（７，１ｌｉ５とＲ８は互いに連結して環を形成
していてもよい、］上記１１１１．　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４
で表わされる基のうち好ましいものは炭素原子数１ない
し１０の置換されていてもよいアルキル基、または炭素
原子数６ないし３０の置換されていてもよいフェニル基
であり、特に好ましくは電子供与性基で置換されていて
もよい炭素原子数６ないし２２のフェニル基である。ｉ
ｌｌ、Ｒ２またはＲ３とＲ４が連結して形成される環の
好ましいものはピロリジン環ピペリジン環１モルホリン
環などの飽和へテロ環である。１ｌｌｓ、　Ｒ６，Ｒ７
およびＲ８で表わされる基のうち好ましいものは水素原
子、Ｆ、Ｃ１゜Ｂｒ、炭素原子数１ないし８の置換され
ていてもよいアルキル基、炭素原子数６ないし１２の置
換されていてもよいフェニル基、炭素原子数１ないし８
の置換されていてもよいアルコキシ基、炭素原子数６な
いし１２の置換されていてもよいフェノキシ基、または
置換去れていてもよい炭素原子数１ないし８のアシルで
あり、特に好ましくは水素原子、Ｆ、Ｃ１、炭素原子数
１ないし８の置換されていてもよいアルキル基、炭素原
子数１ないし８の置換されていてもよいアルコキシ基で
あり、これらの基土に置換していてもよい基として好ま
しいものは、Ｆ、Ｃ１，ＣＮ、フェニル基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４のフ
ルキルチオ基、ヒドロキシル基、炭素原子数２ないし８
のアシルオキシ基、炭素原子数１ないし４のフルキルス
ルホニル基、炭素原子ａ６ないしｌｏの置換されていて
もよいフェニルスルホニル基である。 上記ｘｎ−で表わされる陰イオンとしては、Ｃ文〜、Ｂ
ｒ−１■−などのハロゲンイオン、ＳＯａ？−、Ｈ３Ｏ
４−、ＣＨ３０５０３−ｆＸど（Ｉ）７Ａｙキル硫酸イ
オン、パラトルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベン
ゼンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、オク
タンスルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−ジスルホ
ン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン ホン酸イオン、酢酸イオン、ｐ−クロロ安息香酸イオン
、トリフルオロ酢酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸
イオンなどのカルボン酸イオン、ＰＦｂ　−　、ＢＦ４
　−　、ＣＩＯｓ　−　、ＩＯ４−、タングステン酸イ
オン、タングストリン酸イオンなどノへテロポリ酸イオ
ン、Ｒ２　ＰＯ４−、ＮＯ３−、ピクリン酸イオンなど
のフェノラートイオンなどが挙げられる。 上記−数式（ＩＩ）で表わされるジインモニウム化合物
の中で、好ましくは下記の一般式（Ｉｔ　ａ）で表わさ
れる化合物である。 一般式（■ａ） ［式中Ｒは、炭素原子数１ないし１２の置換されていて
もよいアルキル基を表わし、Ｇは水素原子、炭素原子数
１ないし６のアルキルノ＾、またはフェニル基を表わし
、ｘｎ−はｎ価の陰イオンを表わし、ｎはｌ又は２を表
わす、１ 上記Ｒで表わされるアルキル基は直鎖状１分岐状あるい
は環状のいずれでもよいが、好ましくは直鎖状のアルキ
ル基である。Ｒで表わされるアルキル基上に置換する基
としては、Ｆ、Ｃ１、ＣＮ、炭素原子数６ないし１０の
ご換されていてもよいフェニル基、炭素原子数６ないし
ｌＯの置換されていてもよいフェノキシ基、炭素原子数
１ないし１０のフルコキシ基、炭素原子数１ないし１０
のフルキルチオ基、炭素原子数１ないし１０のアルキル
スルホニル基、炭素原子数６ないしｌＯの置換されてい
てもよいフェニルチオ基、炭素原子数１ないしｌＯのａ
ｌされていてもよいフェニルスルホニル基またはヒドロ
キシ基、炭素原子数１ないし１０の置換されていてもよ
いアシル基、炭素原子数１ないしＩＯのと換されていて
もよいアシルオキシ基、炭素原子数１ないしｌＯの？１
換されていてもよいスルホンアミド基、炭素原子ｆｉｔ
ないしｌＯの置換されていてもよいスルファモイル基が
好ましい、Ｒとして特に好ましくは、Ｆ、Ｃ１またはＣ
Ｎで置換されていてもよい炭素原子数１ないし８のアル
キル基である。Ｇで表わされる基としては、水素原子ま
たはメチル基が好ましい。 上記Ｘｎ−で表わされる陰イオンとしては、Ｃ１−、Ｂ
ｒ−、ｒ　　、ＣＨ３０ＳＯ３−、パラトルエンスルホ
ン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、メ
タンスルホン酸イオン、ブタンスルホン酸イオン、ナフ
タレン−１，５−ジスルホン酸イオン、トリフルオロメ
タンスルホン酸イオンなどのパラトルエンスルホン酸イ
オン。 ＰＦ６−　、ＢＦａ　−、ＣｆＬＯａ−などが好ましく
、特に好ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸イオ
ン、ＰＦ６−およびＣｆＬＯｓ−であり、この中でも、
爆発の心配が無い点でトリフルオロメタンスルホン酸イ
オンおよびＰＦ６−が最も好ましい。 本発明の一般式（ＩＩ　ａ）で表わされるジインモニウ
ム系化合物の具体例を以下に示す、ただし、本発明はこ
れらに限定されるものではない。 ［２］ ２Ｃ見０４

【５１ ２ＣＦ３ＳＯコ 【１６Ｊ ［１７１ 【１８］ ［１０１ 【１１］ 【１３１ 【１４】 ［１５］ （Ｈ３ＧＯＨ２ＧＨ２Ｇ）２Ｎ

【Ｉ９１ 【２０１ Ｎ（ＣＩ２Ｃ４ｈＯＣＨ：＋）２ ［２１】

【２４１ 【２２】 【２３１ 上記本発明に使用される特定のジインモニウム化合物は
、吸収最大波長を９００ｎｍ以上にもっており、上記特
定のシアニン系色素の吸収したエネルギーのうちで劣化
に結びつくと考えられる余分なエネルギーを上記化合物
が吸収すると考えられる。これによりシアニン系色素の
光劣化を防止することができる。これにより、シアニン
系色素の光劣化を防止することができる。上記ジインモ
ニウム系化合物の含有量は、シアニン系色素とジインモ
ニウム系化合物との割合が、ｆｆＥｆｆｉ比で９９．９
９：０．０１〜５０　：　５０の範囲にあることが好ま
しい、特に好ましくは９９．９：０．１〜８０：２０の
範囲である。上記化合物が、重量比で０．０１より少な
い場合は、エネルギー吸収する効果が充分でなく、５０
．を超える場合は記録層の反射率が低下し好ましくない
。 以下余日 一記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤
を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を
基板表面に塗布して塗膜を形成したのち屹燥することに
より行なうことができる。 本発明の色素塗布用組成物の溶剤には、弗素を含有する
化合物が用いられることが必要である。 本発明に用いられる弗素含有化合物の例としては、弗素
化アルコール、弗素置換ケトン、弗素置換エステル、弗
素化カルボン酸、弗素置換アミド、弗素置換ベンゼン、
弗素化アルカンおよび弗素化エーテルを挙げることがで
きる。 ｌ）弗素化アルコールとしてはたとえば、−数式（ｍ）
： Ａ−ＣＨ２０Ｈ（ｍ　） （ただし、ＡはＦ−（Ｃ、Ｆ　２ゎ÷　ま　た　はＨ（
Ｃｎ　Ｆ　ｔ　ｎ±　であり、ｎはｌ乃至６の整数であ
る） で表わされる化合物を挙げることができ、Ａは直鎖であ
っても分岐していてもどちらでもよい、その具体例とし
ては下記化合物が挙げられる。 Ｈ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２０Ｈ、Ｈ−ＣＦ２−ＣＦ２
−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２０Ｈ。 ＣＦ３−ＣＨ２０Ｈ、Ｆ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２０Ｈ
、Ｆ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦｙ−ＣＦ２−ＣＨ２０Ｈ。 ２）弗素置換ケトンおよびエステルとしては、たとえば
−数式（■）： Ａ−Ｃ−Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　（ＩＶ　）（ただし、ＡおよびＢはそれぞれ置換また
は無置換のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基また
はフェノキシ基であり、かつＡおよびＢのうち少なくと
も一方は少なくとも一つの弗素原子で置換されている） で表わされる化合物を挙げることができる。上記−数式
（ＩＶ）において、ＡもしくはＢ上の置換基としては塩
素原子、臭素原子、ニトロ基、水酸基、置換または無置
換のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基、カルボアルコキシ基、カルボフェノキシ基、アル
コキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基が挙げら
れる。 ＡおよびＢはそれぞれ好ましくは、−ＣＦ３　、　ＣＦ
３−（ＣＦ２ＣＦ２）ｈ−、Ｈ−（ＣＦ２ＣＦ２）＋−
１Ｈ−（ＣＦ２ＣＦ２）　Ｊ−ＣＨｚ−１−ＯＣＦ３．
　ＣＦａ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｈ−０−１Ｈ−（ＣＦ２Ｃ
Ｆ２）　ｔ−０−またはＨ−（ＣＦ２ＣＦ２）　ｊ−Ｃ
Ｈ２０−であり、ここでり、ｉおよびｊはそれぞれ１〜
３の整数である。また、該化合物の分子量は４００以下
であるのが好ましい。 その具体例としては下記化合物が挙げられる。 ＯＦ　３ｃＯｃＦ　３、　ＣＦ３ＣＯＯＣＨ３，ＣＦ３
ＣＯ０Ｃ２Ｈｓ、ＣＦ３ＧＯＣＩ４２ＧＯＣＦ３．　Ｃ
Ｆ３ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３、ＧＨ３ＣＯＯＣＨ２ＧＦ３
．　ＣＦ３ＣＯ０ＣＨｚＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｃ
００Ｃ２Ｈｓ　　、ＣＦ：＋（ＣＦ２）ａｃＯＯｃＨ：
＋　　。 ３）弗素置換ベンゼンとしてはたとえば、−数式（Ｖ）
： Ｉ （ただし、Ｒ１は弗素原子であり、Ｒ２−Ｒ６はそれぞ
れ水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基
、水酸基、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、
フェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基、アシル基ま
たはアシルオキシ基である） で表わされる化合物を挙げることができる。上記−数式
（Ｖ）において、Ｒ２−Ｒ６は好ましくは水素原子、弗
素原子、塩素原子またはシアノ基である。また、該化合
物の分子量は４００以下であるのが好ましい。 その具体例としては下記化合物が挙げられる。 Ｆ　　　　　　　　　　ＯＣＨ３ ４）弗素化アルカンおよびエーテルとしては、炭素６ｉ
〜８のアルカンおよびエーテルであって、かつ少なくと
も一つの弗素原子で置換されている化合物を挙げること
ができる。これらの化合物には直鎖状、環状および分枝
状のものが含まれる。また、該化合物は弗素原子の他に
さらに、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、置
換または無置換のアルコキシ基、アルキルスルホニル基
、アルキルフィニル基で置換されていてもよい、置換基
は好ましくは塩素原子、炭素数１〜４の置換または無置
換のアルコキシ基である。また、該化合物の分子量は４
００以下であるのが好ましい。 その具体例としては下記化合物が挙げられる。 ＣＣ文２Ｆ２　、　ＣＣｆＬ３Ｆ　、　ＣＩＦｚＣ−Ｃ
ＣｌＦ２、Ｆ　２ＣＩＣＨ３、ＣＨＣｌ　２ｃＦｚＯＧ
Ｈ３，ＨＣＣＦ？）ａＯｃＨ３、ＣＦｘＣＨＯＣ２Ｈ５
、ＣＦ３ＣＨ２０Ｃ２Ｈ５、ＣＦ２Ｏ−ＧＣＣＦ−ＯＣ
Ｈ３Ｆ　　　ＦＨＦ ５）弗素化カルボン酸としてはたとえば、−数式（■）
： ＣＦ　３　（ＣＦ　２）　ｎｃＯＯＨ（ＶＩ　）（ただ
し、ｎは２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることかでさる。 ６）弗素化カルボンアミドとしてはたとえば。 −数式（■）： ＣＦ３（Ｉｌｌ：Ｆ２）　＋＋ｌｌ；０ＮＨ２（■）（
ただし、ｎは２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることができる。 これらの中で好ましくは、弗素化アルコールである。ま
た、本発明に用いられる弗素含有化合物は上記化合物に
限定されるものではなく、−分子中に少なくとも一つの
弗素原子を含む有機化合物であって１色素に対して溶剤
として機能しうる限り任意の化合物を用いることができ
る。 本発明において、上記弗素含有化合物は単独で溶剤とし
て用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用することに
より混合溶剤として用いてもよい。 そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン。 １．２−ジクロルエタン、クロロホルム、ジメチルホル
ムアミド、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル、ジオキサン、エタノール、ｎ−プロパツール、イン
プロパツール、　　ｎ　−ブタノールなどの溶剤を挙げ
ることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤、可塑剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて
添加してもよい。 結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニノ１アルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体
、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂
の初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることが
できる。 記録層の材料として結合剤を併用する場合に。 結合剤に対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（
重量比）の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重
量比）の範囲にある。また、溶剤が弗素含有溶剤と他の
溶剤との混合系である場合には、その組合せ１色素およ
び基板の種類によっても異なるが、一般には弗素含有溶
剤は溶剤全体の５〜９５％（重量比）の範囲で使用され
、好ましくは３０〜９０％（重量比）の範囲にある。こ
のようにして調製される塗布液の濃度は一般にｏ、ｏｘ
Ｌｔｏ％（重量比）の範囲にあり、好ましくは０９１〜
５％（重量比）の範囲にある。 記Ｑ層は単層でも重層でもよいが、その層厚はｉ般に０
．０１〜１０＃Ｌｍの範囲にあり、好ましくは０．０２
〜ＩＩＬｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面の
みならず両面に設けられていてもよい。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるＳ／Ｎ
比の向上および記録時における感度の向上の目的で１反
射層が設けられてもよい。 反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ　ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ。 Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉ　ｒ。 ＰＬ、　　Ｃｕ、　　Ａｇ、　　Ａｕ、　　Ｚｎ、　　
Ｃｄ、　　Ａｊｌ、Ｇａ、　　Ｉｎ、　　Ｓｉ、　　Ｇ
ｅ、　　Ｔｅ、　　Ｐｂ、　　Ｐｏ。 Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができ
る９、これらのうちで好ましいものはＡＪｌ、Ｃｒおよ
びＮｉである。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用いても
よい。 反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。 反射層の層厚は一般には１００〜３０００Ｊの範囲にあ
る。 なお１反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側（基板とは反
対の側）から行なわれる。 また、記録層（または反射層）の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保、４ｅが設けら
れてもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられて
いない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられて
もよい。 保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ，５ｉ０
２、ＭｇＦ２，５ｎ０２等の無機物質；熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。 保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（または銀塩層あるい
は反射ｍ＞上および／または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。 保護層の層厚は一般には０．１−１００４ｍの範囲にあ
る。 本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。 以下全白 以下に、本発明の実施例を記載する。ただし、これらの
６例は本発明を制限するものではない。 ［実施例１］ シアニン系色素（前記構造式【１１： ％式％ ジインモニウム系色素（前記構造式［１４１：Ｎ（０４
Ｈ９）２ Ｎ（ＣＪ＊）２　　　　　　） ０．４ｇとを、２−２．３．３−テトラフロロプロピル
アルコール（構造式：　ＨＣＦｚＣＦ２ＣＨｚＯＨ）　
２０Ｏｃｃに溶解して塗布液（濃度ｚｌｆｆｉ量％）を
調製した。 トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１３０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ、トラックピッチ＝１．６ｐｍ、グループの
深さ：８００ｉ）上に、塗布液をスピンコード法により
回転ｆｉ２０００ｒｐ■の速度で塗布した後、７０℃の
温度で１０分間乾燥して膜厚が０．０６ｇｍの記録層を
形成した。 このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。 ［実施例２］ 実施例１において、シアニン系色素を下記の構造のもの
に変えた以外は実施例１と同様にして、基板および記録
層からなる情報記録媒体を製造した。 シアニン系色素（前記構造式【ａ］： ［情報記録媒体の評価］ 上記で得られた情報記録媒体の記録および再生を以下の
条件で行なった。 半導体レーザー二波長８３０ｎｍ 線速度　　　　：５．０ｍ７秒 変調周波数　　：２．５ＭＨｚ 記録パワー　　：８．ＯｍＷ 再生パワー　　：１．ＯｍＷ（実施例１）０．８ｍＷ（
実施例２） 上記記録パワーにて記録された情報を、上記再生パワー
で再生した時の反射率（Ｒｆ）を測定した。 また、上記記録パワーにて記録した情報を再生した時の
Ｃ／Ｎを測定した。さらに、読み取り耐久性を評価する
ために連続再生を行ない、読み取りが可能な再生回数を
測定した。 上記測定結果を第１表に示す。 第１表 Ｒｆ　　　　　　Ｃ／Ｎ （％） （ｄＢ） 読み取り 耐久性（回） 実施例１ １０６〈 実施例２３０　　　　５０　　　１０６＜第１表より、
本発明の色素溶液組成物を用いて情報記録媒体を製造し
た場合、得られる情報記録媒体は上記のように高反射率
、高Ｃ／Ｎでしかも耐久性の優れたものであることが分
かる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記の一般式（Ｉ）； Φ＾＋−（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣＨ＝Ψ（Ｘ＾ｍ＾−）＿
   １＿／＿ｍ（Ｉ）［ただし、ΦおよびΨはそれぞれ芳香
   族環が縮合していてもよいインドレニン環残基、チアゾ
   ール環残基、オキサゾール環残基、セレナゾール環残基
   、イミダゾール環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリ
   ミジン環残基、イミダゾキノキサリン環残基またはアミ
   ン残基であり、互いに同一でも異なっていてもよく、 −（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣ＝はモノカルボシアニン、ジカ
   ルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラカルボ
   シアニンを形成するための連結基であり、ｎは０〜５で
   あり、 Ｘ＾ｍ＾−はｍ価の陰イオンであり、ｍは１または２で
   あり、 そして、Ｘ＾ｍ＾−はΦ、−（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣＨ＝
   またはΨ上に置換して分子内塩を形成しても良く、また
   Φと−（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣＨ＝、または−（ＣＨ＝Ｃ
   Ｈ）＿ｎＣＨ＝とΨとはさらに連結して環を形成しても
   良い］ で表わされるシアニン系色素、 および下記の一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ
   、置換されていてもよいアルキル基、置換されていても
   よいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基を
   表わし、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ＾５、
   Ｒ＾６、Ｒ＾７およびＲ＾８はそれぞれ、水素原子、ハ
   ロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換さ
   れていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいフ
   ェニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換さ
   れいていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよい
   アシル基、置換されていてもよいアルキルスルホニル基
   もしくはベンゼンスルホニル基、またはシアノ基を表わ
   し、互いに同一でも異なっていてもよく、ｎは１または
   ２を表わす。だたし、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３とＲ＾４
   、Ｒ＾６とＲ＾７、Ｒ＾５とＲ＾８は互いに連結して環
   を形成していてもよい。］ で表わされるジインモニウム系化合物、 が弗素含有化合物系溶剤に溶解されてなる色素溶液組成
   物。 ２、プラスチック基板上に、レーザーによる書込みおよ
   び／または読み取りが可能な色素からなる記録層が設け
   られてなる情報記録媒体を製造する方法において、 下記の一般式（ I ）； Φ＾＋−（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣＨ＝Ψ（Ｘ＾ｍ＾−）１
   ／ｍ（ I ）［ただし、ΦおよびΨはそれぞれ芳香族環
   が縮合していてもよいインドレニン環残基、チアゾール
   環残基、オキサゾール環残基、セレナゾール環残基、イ
   ミダゾール環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジ
   ン環残基、イミダゾキノキサリン環残基またはアミン残
   基であり、互いに同一でも異なっていてもよく、 −（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣＨ＝はモノカルボシアニン、ジ
   カルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラカル
   ボシアニンを形成するための連結基であり、ｎは０〜５
   であり、 Ｘ＾ｍ＾−はｍ価の陰イオンであり、ｍは１または２で
   あり、 そして、Ｘ＾ｍ＾−はΦ、−（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣＨ＝
   またはΨ上に置換して分子内塩を形成しても良く、また
   Φと−（ＣＨ＝ＣＨ）＿ｎＣＨ＝、または−（ＣＨ＝Ｃ
   Ｈ）＿ｎＣＨ＝とΨとはさらに連結して環を形成しても
   良い］ で表わされるシアニン系色素、 および下記の一般式（II）； ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４はそれぞれ
   、置換されていてもよいアルキル基、置換されていても
   よいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基を
   表わし、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ＾５、
   Ｒ＾６、Ｒ＾７およびＲ＾８はそれぞれ、水素原子、ハ
   ロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換さ
   れていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいフ
   ェニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換さ
   れていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいア
   シル基、置換されていてもよいアルキルスルホニル基も
   しくはベンゼンスルホニル基、またはシアノ基を表わし
   、互いに同一でも異なっていてもよく、ｎは１または２
   を表わす。だたし、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３とＲ＾４、
   Ｒ＾６とＲ＾７、Ｒ＾５とＲ＾８は互いに連結して環を
   形成していてもよい。］ で表わされるジインモニウム系化合物、 を弗素含有化合物系溶剤に溶解した色素溶液組成物を該
   基板上に塗布し、次に乾燥することにより、記録層を形
   成することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。