JPS63200316A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明は、非磁性金属板、セラミックスやガラス等の
非金属非磁性基板上に、成膜する下地膜を介して磁性薄
膜を設けてなる磁気ディスク等に用いられる磁気記録媒
体の改良に係り、下地膜を非磁性もしくは弱磁性のＦｅ
−Ｃｒ合金膜またはＦｅ−Ｃｒ系合金膜とＣｒ膜との複
合膜にて形成し、経済性にすぐれ、厚い下地膜であって
もクラックや剥離が少ない磁気記録媒体に関する。

背景技術 磁気ディスク装置は、コンピュータ等の情報処理システ
ムにおける記憶装置として多用されている。今日では、
情報処理能力を高めるため、磁気ディスク装置の高密度
、大容量化が望まれており、磁気ディスクの磁気記録層
として、スパッタリング、イオンブレーティングなどに
よる金属薄膜が実用化されつつある。

かかる磁気記録媒体として、非磁性基板上に、Ｃｒ膜を
形成した後、該Ｃｒ膜上にＣｏ膜を、スパッタ法や蒸着
法にて形成した構成が知られている。

この磁気記録媒体は、面内方向で高い保磁力を有し、面
内記録型の磁気ディスクに用いられている。

さらに、前記のＣｏ膜に変えて、磁性膜にＣｏ−Ｎｉ膜
、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ膜を用いた磁気記録媒体が知られて
いる。

一方、下地膜には、前記のいずれの組成の磁性膜にもか
かわらず、Ｃｏ系磁性膜の面内配向を促進し、保磁力を
増大させるためにＣｒ膜が用いられている。

しかし、かかるＣｒ下地膜は、その保磁力を増大させる
ためには、磁性膜厚みの５００Ａ〜８００八に比べて、
遥かに厚い２０００人〜６０００Ａの膜厚に被着形成す
る必要がある。

従って、高価なＣｒを多量に消費するため、その製造コ
ストが増大し、また、Ｃｒが本質的に脆化し易く、膜厚
が比較的厚い場合は、基板との熱膨張係数差や成膜時の
内部応力等により、微細なりラックを招来し易いことか
ら、磁気記録媒体の下地膜としての靭性、強度に欠ける
という問題点があった。

発明の目的 この発明は、非磁性基板上に下地膜を介して磁性膜を設
けた磁気ディスクなどに用いられる磁気記録媒体におい
て、従来のＣｒ下地膜の問題点を解消し、Ｃｒ下地膜と
同様の磁性膜の保磁力増大効果を有し、Ｃｒ下地膜に比
べて経済性にすぐれ、かつクラック発生や剥離の問題が
ない新規な下地膜を有する磁気記録媒体を目的としてい
る。

発明の構成と効果 この発明は、従来のＣｒ下地膜の問題を解消できる新規
な下地膜を有する磁気記録媒体を目的に種々検討した結
果、従来の純Ｃｒ下地膜に代えて、平衡相とは異なる結
晶構造を有すると考えられる非磁性もしくは弱磁性のＦ
ｅ−Ｃｒ２元合金膜（以下Ｆｅ−Ｃｒ２元合金膜を単に
Ｆｅ−Ｃｒ合金膜という）、またはＦｅ及びＣｒ以外の
元素を含むＦｅ−Ｃｒ系合金膜と、Ｃｒ膜との複合膜を
用いることにより、従来Ｃｒ下地剥離の問題が少ない磁
気記録媒体が得られることを知見し、この発明を完成し
たものである。

すなわち、この発明は、 非磁性基板上に、下地膜及び磁性膜を積層被膜した磁気
記録媒体において、前記下地膜が、Ｃｒ　３７ａｔ％〜
６０　ａｔ％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる非
磁性もしくは弱磁性合金膜または下記組成式にて表され
る非磁性もしくは弱磁性合金膜と、Ｃｒ膜との複合膜で
あることを特徴とする磁気記録媒体である。

ＦｅｘＣｒｙＭｚ 組し、式中Ｍは、 ＡＩ、　５ｉ１Ｔｉ、　ＶＳＭｎ、　Ｃｏ、　Ｎｉ、　
Ｃｕ、　Ｚｒ５Ｎｂ、Ｍｏ、　Ｔｃ、　Ｒｕ、　Ｒｈ、
　Ｐｄ、　Ｙ、　Ｈｆ、　Ｔ！ａ、　Ｗ、から選ばれる
少なくとも１種であり、 ｘｚｙｔｚは、各々の元素のａｔ％を表し、かつ下記条
件を満足する。

ｘ−１−ｙ−１−ｚ：１００． ３５≦ｙ−ｆ−ｚ≦６０゜ Ｑｎ＜へｌ （イ）ＭがＡＩ、Ｓｉから選ばれる少なくとも１種の場
合、２≦２５ （０）ＭがＴｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ
、Ｗから選ばれる少なくとも１種の場合、２≦１５ （／’）ＭがＶ、Ｍｎから選ばれる少なくとも１種の場
合、２≦２０ （ニ）ＭがＺｒ、Ｙ、Ｔａ、Ｈｆから選ばれる少なくと
も１種の場合、２≦１０ （ホ）ＭがＣｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれる少なくとも１
種の場合、２≦８ 詳述すると、一般に、磁気記録媒体の下地膜は、磁性膜
の面内配向を促進し、磁性膜に大きな保磁力を付与する
目的で設けられるため、かかる下地膜が強磁性であると
Ｚ磁気的相互作用により、例えば、下地膜の保磁力が数
Ｏｅ〜数十Ｏｅと低い場合は、磁性膜の保磁力も１００
０ｅないし２０００ｅ程度と小さくなり、磁性膜の特性
を劣化させることが知られている。

ところで、公知のＦｅ−Ｃｒ合金は、Ｏｒ金含有７０ａ
ｔ％程度まで、常温で強磁性を示すことが知られており
、上記説明からも明らかな如く、従来、磁気記録媒体の
下地膜としては、適用不可能と考えられていた。

しかし、発明者らは、種々実験の結果、Ｃｒ　３７ａｔ
％〜６０ａｔ％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる
Ｆｅ−Ｃｒ合金膜、並びに２０ａｔ％以上Ｏｒと、ＡＩ
、　Ｓｉ、Ｔｉ、　Ｖ、　Ｍｎ、　Ｃｏ、　Ｎｉ、　Ｃ
ｕ、　Ｚｒ％Ｎｂ、　Ｍｏ、　Ｔｃ。

Ｒｕ、　Ｒｈ、　Ｐ＜ｉ、　Ｙ、　Ｈｆ、　Ｔａ、　Ｗ
ｌから選ばれる少なくとも１種との合計で、３５ａｔ％
以上、６０ａｔ％以下を含有し、残部ＦｅからなるＦｅ
−Ｃｒ系合金膜が、所要条件の気相成膜法にて基板上に
成膜されると、磁気記録媒体用下地膜として、Ｃｒ膜に
比べてすぐれた特性を有する実質的な非磁性膜となるこ
とを知見し、さらに、Ｆｅ−Ｃｒ合金膜またはＦｅ−Ｃ
ｒ系合金膜とＣｒ膜との複合膜とすることにより、Ｃｒ
膜に比べてすぐれた特性を有する磁気記録媒体用下地膜
が得られることを知見し、この発明を完成したものであ
る。

この発明において、非磁性もしくは弱磁性とは、実質的
非磁性、すなわち、磁性膜の磁気特性を著しく損なった
りあるいは磁気ヘッドの再生信号に影響を及ぼしたりす
ることのない程度の実用的な非磁性もしくは弱磁性を意
味している。

従って、下地膜が、非磁性相と若干の強磁性相との混合
相から構成されていても、全体として数ｅｍｕ／ｇ程度
の磁化を有する程度であれば実用上問題ないと考えられ
る。

組成の限定理由 この発明の磁気記録媒体の特徴であるＦｅ−Ｃｒ下地膜
またはＦｅ−０ｒ系下地膜には、基板の材質や下地膜の
上に被着する磁性層の組成等に応じて、Ｃｒ含有量及び
添加元素種類とその含有量を適宜選定して用いることが
できる。

Ｆｅ−Ｃｒ下地膜の場合、Ｃｒが３７ａｔ％未満の場合
は、通常の成膜法では形成された膜が強磁性となり、Ｏ
ｒが６０ａｔ％を越える場合には膜の靭性や強度が低下
するので好ましくない。望ましくは、ＣｒＣｒ３９ａｔ
％〜５５ａｔ％、さらに望ましくは４０ａｔ％〜５０ａ
ｔ％が良い。

Ｆｅ−Ｃｒ系合金下地膜において、Ｃｒが２０ａｔ％未
満の場合及びＣｒと添加元素Ｍ（Ｍは ＡＩ、Ｓｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｎｂ
、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｙ、Ｈｆ。

Ｔａ、Ｗから選ばれる少なくとも１種）とＣｒとの合計
が３５ａｔ％未満の場合は、通常の成膜法では形成され
た膜が強磁性となり、Ｃｒと添加元素Ｍとの合計が６０
ａｔ％を越える場合には膜の靭性や強度が低下するので
好ましくない。望ましい範囲は ３７ａｔ％〜５０ａｔ％、さらに望ましくは３９ａｔ％
〜４５ａｔ％が良い。また、Ｏｒは２５原子％以上が好
ましく、さらに好ましくは、３０原子％以上である。

下地膜のＦｅ−Ｃｒ系合金は添加元素Ｍの種類により、
その特性が異なる。

（イ）添加元素ＭがＡＩ、Ｓｉから選ばれる少なくとも
１種の場合、下地膜が非平衡構造をとりゃすく、より完
全な非磁性にする効果があるが、２５原子％を越えて添
加すると、かえって磁化が大きくなったり、機械的強度
が低下したりするため、２５原子％以下にする必要があ
り、望ましくは１５原子％以下がよい。

（ロ）添加元素ＭがＴｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｗから選ばれる少なくとも１種の場合、下地
膜をより完全な非磁性にし、かつ耐食性を向上させる効
果を有するが、１５ａｔ％を越えて添加すると、通常の
成膜法では形成された下地膜が非晶質構造をとり易くな
り、この膜上に形成される磁性膜の保磁力を向上させる
目的を達成し難くなるため、１５ａｔ％以下の添加とす
る。好ましくは１０ａｔ％以下の添加がよい。

（ハ）添加元素ＭがＶ、Ｍｎから選ばれる少なくとも１
種の場合、下地膜が非平衡構造をとりやすく、より完全
な非磁性にする効果があるが、２０ａｔ％を越えて添加
すると、逆に磁性を帯びるため、２０ａｔ％以下の添加
とする。好ましくは１０ａｔ％以下の添加がよい。

（ニ）添加元素ＭがＺｒ、Ｙ、Ｔａ、Ｈｆから選ばれる
少なくとも１種の場合、下地膜が非平衡構造をとりやず
く、より完全な非磁性にする効果があるが、１０ａｔ％
を越えて添加すると、通常の成膜法では形成された下地
膜が非晶質構造をとりやすくなり、この膜上に形成され
る磁性膜の保磁力を向上させる目的を達成し難くなるた
め、１０ａｔ％以下の添加とする。好ましくは５ａｔ％
以下の添加がよい。

（ホ）添加元素ＭがＣｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれる少な
くとも１種の場合、下地膜の機械的強度を向上させる効
果を有するが、８原子％を越えて添加されると、形成さ
れた膜が強磁性となるため、８原子％以下の添加とする
。好ましくは５原子％以下、さらに好ましくは２原子％
以下の添加がよい。

この発明において、上記の（イ）〜（ホ）の各選択群よ
り、所要の特性に応じて選択群を２以上の組み合わせに
て添加することは、さらに好ましい実施態様である。

また、Ｆｅ−Ｃｒ合金下地膜、Ｆｅ−Ｃｒ系合金下地膜
を被膜するだめの合金ターゲット等は、その製造時の脱
酸などの目的での微量添加元素あるいは不可避的な不純
物元素が含有されていても、この発明の複合膜の特性を
損ねることがない。

また、酸素を数十ｐｐｍから数百ｐｐｍ含む場合は、下
地膜をより完全な非磁性にする効果があると考えられる
。

また、Ｃｒ膜は、一般的に用いられているＣｒ膜であれ
ばよく、不可避的な不純物含有されていても、この発明
の目的を達成することができる。

発明の好ましい実施態様 この発明における磁気記録媒体の基板には、非磁性の基
板であればいずれの材質でも良く、例えば、Ｎ１−Ｐメ
ッキやアルマイト処理、ガラスコーティングされたアル
ミニウム基板の他、アルミナ、炭化けい素、炭化チタン
、ジルコニア、窒化けい素、アルミナ−酸化けい素など
の各種セラミックスの他、強化ガラスや結晶化ガラスな
どの非金属基板を用いることができ、さらに、アルミナ
等のセラミック基板にガラスクレージングした某Ｎを田
いること力；で５Ａふ− この発明において、Ｆｅ−Ｃｒ合金膜およびｌまたはＦ
ｅ−Ｃｒ系合金膜とＣｒ膜との複合下地膜の複合形態は
、基板から外表面に向かっての膜種の組み合わせ、積層
順位は、目的に応じていかなるものであっても適用でき
る。

Ｆｅ−Ｃｒ合金膜とＣｒ膜の組み合わせで、Ｆｅ−Ｃｒ
合金膜、Ｃｒ膜、磁性膜の順に被膜すれば、Ｃｒ膜と磁
性膜のみの従来膜に比較して、同等の磁気特性を有しか
つ膜の機械的性質にすぐれた磁気記録媒体が、より経済
的に得られる。

さら、Ｃｒ膜、Ｆｅ−Ｃｒ合金膜、磁性膜の被膜順序は
、Ｎ１−ＰめっきしたＡＩ基板に最適である。

また、Ｆｅ−Ｃｒ系合金膜の中で、Ｍｏ、Ｃｕ、ＡＩ、
Ｓｉ、Ｎｉ等を含有する合金膜は、Ｃｒと比較してアル
カリイオンに対する耐食性にすぐれるため、特に、強化
ガラス基板を用いる場合には、Ｆｅ−Ｃｒ系合金膜、Ｃ
ｒ膜、磁性膜の被膜順序が好ましい。

さらに、Ｃｒ膜、Ｆｅ−Ｃｒ系合金膜、磁性膜の被膜順
序は、Ｎ１−ＰめっきしたＡＩ基板に最適である。

また、この発明において、Ｃｒ膜とＦｅ−Ｃｒ合金膜お
よびＦｅ−Ｃｒ系合金膜との複合膜とすることもできる
。

また、この発明による複合下地膜の厚さは、一般に厚い
程、磁性膜の保磁力が増大する効果があり、少なくとも
５００Ａ以上で１００００λ以下、さらに望ましくは２
０００人〜５０００Ａ程度が良い。

複合下地膜の全厚みにおいて、Ｆｅ−Ｃｒ合金膜または
Ｆｅ−Ｃｒ系合金膜とＣｒ膜の各膜層厚みは、前記の膜
種の組み合わせ、積層順序により、適宜選定すればよい
が、実施例１に示す如く、Ｆｅ−Ｃｒ合金膜の上にＣｒ
膜を成膜する場合、Ｃｒ膜は約１００Å以上あれば、こ
の発明の効果を発揮でき、好ましくは２００Å以上であ
り、さらに好ましくは５００Å以上である。しかし、２
０００人を越えるＣｒ膜を設けた場合は、この発明の複
合膜としての効果が薄れるため、２０００λ以下が好ま
しく、さらに好ましくは１０００Å以下である。

Ｆｅ−Ｃｒ合金膜、Ｆｅ−Ｃｒ系合金膜の上にＣｒ膜を
成膜する場合も同様であり、Ｃｒ膜を第１層として用い
る場合は、少なくとも２００Å以上が望ましい。

さらに、前記非金属基板とこの発明による複合下地膜と
の間に、 Ｔｉ、　Ｚｒ、　Ｈｆ、　Ｃｒ、　Ｎｂ、　Ｔａ、　Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｖのうち少なくとも１種の元素を含む金属の酸
化物層単独または、前記酸化物層と、前記酸化物を構成
する金属または合金層とを順次積層した中間層を介在さ
せるか、あるいはさらに、該中間層の厚み方向の酸素濃
度が金属下地層方向に連続的または段階的に減少する特
性有する上記元素を含む金属の酸化物層と、前記酸化物
を構成する金属または合金からなる層とを順次積層した
中間層を介在させるのもよい。

すなわち、前記構成とすることにより、Ｆｅ−Ｃｒ合金
またはＦｅ−Ｃｒ系合金下地層が、酸化物層単独、酸化
物層及び金属層からなる中間層を介して非金属基板に強
固に結合するため、強度的に安定して剥離を生じること
がなく、長期間にわたって磁気ヘッドのＣ８Ｓ時のすぐ
れた耐久性を発揮する。

また、中間層の酸化物層に、その厚み方向の酸素濃度が
Ｆｅ−Ｃｒ合金またはＦｅ−Ｃｒ系合金下地層方向に連
続的または段階的に減少する特性をもたせることにより
、被着強度を高めるほかに、非金属基板と金属下地層と
の熱膨張係数の差による歪を緩和することができるため
、耐剥離強度が向上し、製造時の加熱、冷却が容易にな
る利点がある。

また、該特定金属の総量は、中間層の全元素中、１０ａ
ｔ％以上は必要であり、また、中間層の酸化物層を構成
する金属は元素中、少なくとも３０ａｔ％は必要であり
、望ましくは５０ａｔ％以上である。

上記の特定金属を少なくとも１種を含む金属の酸化物か
らなる中間層の被着厚みは、その上に被着する金属下地
層厚みの１／１００〜５倍が望ましい。

また、中間層の酸化物層と金属層との層厚みの好ましい
関係は、酸化物層厚さに対して金属層厚み’Ａτ１１１
０〜１０（涛で、１８１ふ一次に、磁性膜は、Ｃ０１Ｃ
ｏ−Ｎｉ、　Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、　Ｃｏ−Ｃｒ合金等の
ｈｃｐ構造からなり、面内磁気異方性を有する硬質磁性
膜であれば、いずれの合金も成膜することができる。ま
た、下地膜に対する磁性膜のエピタキシャル性を高める
ために、各種の添加元素を添加することは、磁気特性を
高めるために有効な手段である。磁性膜の膜厚も従来か
ら使用されている薄膜媒体と同様に数百〜２０００人程
度に適宜選定すれば良い。

また、必要に応じて、磁性膜の上に公知の各種保護膜ｉ
適宜選定し、（例えばカーボン膜、５ｉ０２膜、その他
のセラミックス膜等）百〜数百人設けることは、媒体の
長寿命化に有効であり、さらに、潤滑膜を塗布しても良
い。

この発明の下地膜の形成方法としては、公知の気相成膜
法を適宜選定すれば良いが、特に、スパッタ法、又はイ
オンビームスパッタ法、イオンブレーティング法等が有
効である。

また、下地膜の成膜スパッタ法の条件としては、スパッ
タガス圧が１〜１００ｍＴｏｒｒ、基板温度は室温〜４
００℃以下が望ましい。

また、磁性膜、保護膜はスパッタ法の他、蒸着法、イオ
ンブレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の公知の成膜
法を適宜選定して製造することができる。

実施例 失態」２ ２５ｍｍＸ２５ｍｍＸ厚み１．２ｍｍの強化ガラス基板
に、平板マグネトロンＲＦスパッタ装置を用い、下記条
件にて、第１表に示す組成からなる２種のＦｅ−Ｃｒ合
金ターゲットと、Ｃｒターゲットを使用し、基板ガラス
表面に、Ｆｅ−Ｃｒ合金膜、さらにその上にＣｒ膜を積
層した複合下地膜（下地膜Ｎｏ、１〜２）を被着した。

上記基板に被膜させたＦｅ−Ｃｒ合金下地膜の組成と磁
化値を第１表に示す。

到達真空度；　１〜２Ｘ１０−’Ｉ’ｏｒｒスパッタ時
雰囲気；　９９．９９％Ａｒ　　６ｍＴｏｒｒ投入電力
；３００Ｗ 極間隔；　７０ｍｍ 基板温度；１００℃ なお、分析は合金膜にはＸ線マイクロアナライザー、タ
ーゲットにはプラズマ発光分光分析装置及びガス分析装
置を用いた。

表中、合金膜については、Ｆｅ、　Ｃｒ及び添加元素以
外の元素は検出限界以下であった。また、ターゲットの
その他の元素とは、Ｎｉ、　Ｍｇ、　ＡＩ、　Ｐ等であ
り、いずれも０．０４ａｔ％以下であった。また、磁気
特性の測定には、振動試料型磁力計を用いた。

第１表の結果から明らかなように、この発明によるＦｅ
−Ｃｒ系合金下地膜は、はとんどが１．Ｏｅｍｕ／ｇ以
下の磁化値を示し、下地膜として不可欠な実質的な非磁
性膜であることが分る。なお、１．Ｏｅｍｕ／ｇ以下と
表示したのは測定限界のためである。

去１世徨 ２５ｍｍ　Ｘ　２５ｍｍＸ厚み１．０皿の強化ガラス基
板に、平板マグネトロンＲＦスパッタ装置を用い、実施
例１と同条件にて、第１表に示す組成からなる２種のＦ
ｅ−Ｃｒ合金ターゲットと、Ｆｅ−Ｃｒ合金ターゲット
に添加元素のチップ（１０ｍｍＸ　１０ｍｍＸ　１ｍｍ
ｔ）を配置した複合ターゲット、並びにＣｒターゲット
を使用し、基板ガラス表面に、Ｆｅ−Ｃｒ系合金膜、さ
らにその上にＣｒ膜を積層した複合下地膜（下地膜Ｎｏ
、３〜１６）を被着した。

基板に被膜させたＦｅ−Ｃｒ系合金下地膜の組成と磁化
値を第１表に示す。

表中、合金膜については、Ｆｅ、　Ｃｒ及び添加元素以
外の元素は検出限界以下であった。また、ターゲットの
その他の元素とは、Ｎｉ、　Ｍｇ、　ＡＬ　Ｐ等であり
、いずれも０．０６ａｔ％以下であった。また、磁気特
性の測定には、振動試料型磁力計を用いた。

第１表の結果から明らかなように、この発明によるＦｅ
−Ｃｒ系合金下地膜は、全てが数ｅｍｕ／ｇ以下の磁化
値を示し、下地膜として不可欠な実質的な非磁性膜であ
ることが分る。なお、１．Ｏｅｍｕ／ｇ以下と表示した
のは測定限界のためである。

第１表（成分ａｔ％） 実」１担 第１表中の下地膜Ｎｏ、１．２のＦｅ−４０Ｃｒ、　Ｆ
ｅ−５０Ｃｒ２元合金下地膜の薄膜Ｘ線回折結果を第１
図に示す。

また、比較のため、Ｆｅ−４０Ｃｒ合金ターゲット粉末
のＸ線回折結果を合わせて示す。

Ｘ線回折結果に明らかなように、比較のためのＦｅ−４
００ｒ合金ターゲット粉末は、ｂｅｅ構造であることを
示すが、この発明による下地膜のＦｅ−Ｃｒ合金及びＦ
ｅ−Ｃｒ系合金の場合は、いずれもターゲットとは異な
る結晶構造であることが分かる。

この発明による下地膜のＦｅ−０ｒ合金及びＦｅ−Ｃｒ
系合金は本来強磁性を有すると考えられる組成にも拘わ
らず、実質的に非磁性となるのは、結晶構造が既知の平
衡相とは異なる結晶構造を有するためであろうと考えら
れる。

実施例４ 外径９５ｍｍＸ内径２５ｍｍＸ厚み１．２皿の強化ガラ
ス基板に、平板マグネトロンＲＦスパッタ装置を用い、
実施例１，２と同条件にて、第１表に示す下地膜Ｎｏ、
１の組成となるように、基板ガラス表面にＦｅ−Ｃｒ合
金膜を２００ＯＡ厚みに被着し、さらにその上にＣｒ膜
を各種厚みにて積層したのち、Ｃｏ−３ＯＮｉ−７，５
０ｒ合金ターゲットを用いて、磁性膜を８００人厚みで
被着した。

比較のため、基板、装置、条件を同一にして、Ｃｒ膜を
種々厚みで被着したのち、Ｃｏ−３ＯＮｉ−７，５Ｃｒ
合金ターゲットを用いて、磁性膜を８００人厚みで被着
した。

この発明と比較例との公正な比較のため、下地膜と磁性
膜の成膜のインターバルはすべて１分とした。

得られた各種の下地膜及び磁性膜を、Ｃｒ膜厚みと保磁
力との関係を示す第２図にて評価した。

第２図より明らかなように、Ｃｒ膜単独では、１０００
Å以上のＣｒ膜厚みで５０００ｅ以上の保磁力が得られ
、３０００Å以上のＣｒ膜厚みで６０００ｅ以上の保磁
力が得られている。

これに対して、この発明の複合膜の場合は、Ｃｒ膜厚み
が僅か２００人で５２００ｅの保磁力、５００人厚みで
６０００ｅの保磁力が得られ、この発明によるＦｅ−Ｃ
ｒ合金膜がＣｒ膜と同様に磁気特性の向上効果を有して
いることが分かる。

実施例５ 外径１３０ｍｍ、内径４０ｍｍ、厚み１．２ｍｍのＡｌ
２Ｏ３基板に、２０ｐｍ厚みのガラスグレーズを施し、
表面を研摩した後、平板マグネトロンＲＦスパッタ装置
を用い、下記条件並びにターゲットを用いて、基板ガラ
スグレーズ表面に、ＦｅＦｅ−０ｒ−合金膜を２８００
人厚み、Ｃｒ膜を２００人厚みで被膜し、さらに、磁性
膜を８００ＡＪ＊みて被膜し、その後、カーボン膜を３
００人厚みで被膜した。

到達真空度；　１〜２Ｘ１０−６Ｔｏｒｒスパッタ時雰
囲気；　９９．９９％Ａｒ　　１０ｍＴｏｒｒ投入電力
；３００Ｗ 極間隔；　７０ｍｍ 基板温度・１５０℃ 下地膜用ターゲット；　Ｆｅ−３５Ｃｒ−１０Ｖ下地膜
用ターゲツト・１００Ｃｒ 磁性膜用ターゲット；　Ｃｏ−３ＯＮｉ−７，５Ｃｒ保
護膜：高密度炭素 得られたこの発明による磁気記録媒体の電磁変換特性を
以下の条件で測定した。

使用ヘッド；　Ｍｎ−Ｚｎフェライトミニウィンチェス
タ− トラック輻１６ｐｍ、ギャップ長１．０ｐｍ、ギャップ
深さ２０ｐｍ　、巻数１６’ｒ　Ｘ　２フライイングハ
イト；　０．３ｐｍ １Ｆ　・１．２５ＭＨｚ ２Ｆ・２．５鼠− ティスフ回転数；　３６００ｒｐｍ 測定箇所；ディスク中心からＲ＝６２ｍｍの部分にて測
定 測定した再生出力特性は次のとおりであった。

再生出力（２，５ＭＨｚ　、　Ｉｗ＝８０ｍＡ　）＝　
１．２ｍＶ再生出力（５ＭＨｚ　、　Ｉｗ　＝　８０ｍ
Ａ　）＝　０．９ｍＶ分解能（Ｉｗ　＝　８０ｍＡ　）
＝　８７％オーバーライド＝−３０ｄＢ 測定結果から明らかなように、この発明による磁気記録
媒体は、高密度記録媒体としての特性を備えていること
が分る。

実施例６ 実施例４で得られた２種及び実施例４と同様方法にて製
造した１種の計３種の磁気記録媒体を引っ掻き試験に供
した。その結果を第２表に示す。

表中、本発明１は第１表の下地膜Ｎｏ、１を使用した磁
気記録媒体であり、本発明２は第１表の下地膜Ｎｏ、９
を使用した磁気記録媒体である。

試験は、先端直径が１０２のダイヤモンド針に種々の荷
重を旬加しなから、ディスクを移動して膜の剥離により
、被着強度を評価した。

以下余白 第２表

【図面の簡単な説明】

第１図ａ図はこの発明による複合下地膜の成分のＸ線回
折結果示すグラフであり、ｂ図はターゲット合金の成分
のＸ線回折結果示すグラフである。第２図はＣｒ膜厚み
と保磁力との関係を示すグラフである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 非磁性基板上に、下地膜及び磁性膜を積層被膜した磁気
   記録媒体において、前記下地膜が、Ｃｒ３７ａｔ％〜６
   ０ａｔ％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる非磁性
   もしくは弱磁性合金膜とＣｒ膜との複合膜であることを
   特徴とする磁気記録媒体。 ２ 非磁性基板上に、下地膜及び磁性膜を積層被膜した磁気
   記録媒体において、前記下地膜が、下記組成式にて表さ
   れる非磁性もしくは弱磁性合金膜とＣｒ膜との複合膜で
   あることを特徴とする磁気記録媒体。 ＦｅｘＣｒｙＭｚ 組し、式中Ｍは、 Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｒ
   、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｙ、Ｈｆ、Ｔ
   ａ、Ｗ、から選ばれる少なくとも１種であり、 ｘ、ｙ、ｚは、各々の元素のａｔ％を表し、かつ下記条
   件を満足する。 ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００、 ３５≦ｙ＋ｚ≦６０、 ２０≦ｙ、 ｚ； （イ）ＭがＡｌ、Ｓｉから選ばれる少なくとも１種の場
   合、ｚ≦２５ （ロ）ＭがＴｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ
   、Ｗから選ばれる少なくとも１種の場合、ｚ≦１５ （ハ）ＭがＶ、Ｍｎから選ばれる少なくとも１種の場合
   、ｚ≦２０ （ニ）ＭがＺｒ、Ｙ、Ｔａ、Ｈｆから選ばれる少なくと
   も１種の場合、ｚ≦１０ （ホ）ＭがＣｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれる少なくとも１
   種の場合、ｚ≦８