JPS6339128A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6339128A JPS6339128A JP18298286A JP18298286A JPS6339128A JP S6339128 A JPS6339128 A JP S6339128A JP 18298286 A JP18298286 A JP 18298286A JP 18298286 A JP18298286 A JP 18298286A JP S6339128 A JPS6339128 A JP S6339128A
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- iron
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に関し、特にコバルト又はコバル
ト合金磁性薄膜の下地層としてクロム−鉄合金薄膜とす
ることにより、該下地層薄膜をスパッタリングによりア
ルミニウム基板上へ施す際の生産性を向上させたもので
ある。
ト合金磁性薄膜の下地層としてクロム−鉄合金薄膜とす
ることにより、該下地層薄膜をスパッタリングによりア
ルミニウム基板上へ施す際の生産性を向上させたもので
ある。
電子計算機の記録装置に用いられる磁気記録媒体として
は、一般にアルミニウム合金からなる基板の表面に磁性
体を被覆したものが用いられている。このような磁気記
録媒体は基板を所定の厚さに加工した後、表面を鏡面研
磨してからγ−ＦｈＯｓ。
は、一般にアルミニウム合金からなる基板の表面に磁性
体を被覆したものが用いられている。このような磁気記
録媒体は基板を所定の厚さに加工した後、表面を鏡面研
磨してからγ−ＦｈＯｓ。
コバルトをドープしたγ−Ｆｅ、 Ｏ，等の磁性体粉末
と樹脂粉末の混合物を塗布し、しかる後加熱処理して磁
性体膜を形成することにより造られている。
と樹脂粉末の混合物を塗布し、しかる後加熱処理して磁
性体膜を形成することにより造られている。
近年磁気記録媒体は大容量化、高密度化が要請されるよ
うになり、このため１ビット当りの磁化領域は益々微小
化されると共に、磁性体膜にも薄膜化が望まれるように
なった。
うになり、このため１ビット当りの磁化領域は益々微小
化されると共に、磁性体膜にも薄膜化が望まれるように
なった。
このため基板を所定の厚さに加工した後、表面を清面加
工してから磁性体被覆のための下地処理（第一次下地層
）として、硬質非磁性金属、例えばＮｉ−Ｐ合金を無電
解メンキするか或いは陽極酸化処理を施し、しかる後化
学的メッキ、又は蒸着、スパッタリング等の物理的メッ
キにより磁性体薄膜を被覆した磁気記録媒体が提案され
ており、更に前記下地処理を施さずに基板上に直接磁性
体薄膜を被覆する方法も提案されている。
工してから磁性体被覆のための下地処理（第一次下地層
）として、硬質非磁性金属、例えばＮｉ−Ｐ合金を無電
解メンキするか或いは陽極酸化処理を施し、しかる後化
学的メッキ、又は蒸着、スパッタリング等の物理的メッ
キにより磁性体薄膜を被覆した磁気記録媒体が提案され
ており、更に前記下地処理を施さずに基板上に直接磁性
体薄膜を被覆する方法も提案されている。
而して、前記磁性体薄膜の被覆方法の内スパッタリング
は信頼性が高く、合金薄膜が作製可能である等の利点を
有しており、最近注目されている。
は信頼性が高く、合金薄膜が作製可能である等の利点を
有しており、最近注目されている。
又磁性膜の材質としてはコバルト及びコバルト合金が優
れているが、水平方向即ち磁性面内での磁気特性を良く
する為に、斜め蒸着を行なったり、コバルト系磁性膜の
下地層（第二次下地層）として純クロム薄膜を施すこと
が行なわれている。而して・・−ドディスク等の磁気記
録媒体の製造においでは、斜め蒸着法は装置が複雑にな
りすぎて操業上困難であり、専ら後者の方法が行なわれ
ている。この方法で磁気特性が向上するのは、基板上に
蒸着又はスパッタリングしたクロム結晶（体心立方格子
）の（１１０）面が基板に平行に成長し、この面上に磁
性体としてのコバルト又はコノ（ルト合金を蒸着又はス
パッタリングすることにより、コバルト（稠密六方格子
）の容易磁化軸であるＣ軸が基板面に平行になるように
エピタキシャル成長するだめであり、Ｊ、 ＤＡＶＡＬ
、 Ｄ、ＲＡＮＤＥＴ（ＩＥＥＥＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯ
ＮＳ ＯＮ ＭＡＣＮＥＴ工Ｃ３，ＶＯＬ、、 ＭＡＧ
−６，、Ｎｏ、ｌｔ。
れているが、水平方向即ち磁性面内での磁気特性を良く
する為に、斜め蒸着を行なったり、コバルト系磁性膜の
下地層（第二次下地層）として純クロム薄膜を施すこと
が行なわれている。而して・・−ドディスク等の磁気記
録媒体の製造においでは、斜め蒸着法は装置が複雑にな
りすぎて操業上困難であり、専ら後者の方法が行なわれ
ている。この方法で磁気特性が向上するのは、基板上に
蒸着又はスパッタリングしたクロム結晶（体心立方格子
）の（１１０）面が基板に平行に成長し、この面上に磁
性体としてのコバルト又はコノ（ルト合金を蒸着又はス
パッタリングすることにより、コバルト（稠密六方格子
）の容易磁化軸であるＣ軸が基板面に平行になるように
エピタキシャル成長するだめであり、Ｊ、 ＤＡＶＡＬ
、 Ｄ、ＲＡＮＤＥＴ（ＩＥＥＥＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯ
ＮＳ ＯＮ ＭＡＣＮＥＴ工Ｃ３，ＶＯＬ、、 ＭＡＧ
−６，、Ｎｏ、ｌｔ。
１９７０）等により称えられている。彼等はコノ（ルト
及びクロム薄膜を蒸着で形成しているが、最近はスパッ
タリング装置を用い、磁性膜にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金膜
を形成することにより、磁気特性、耐食性を改善すると
共に、第二次下地層としての純クロムの膜厚を薄くし、
クロムターゲットの使用量を削減することが試みられて
いる（山田、谷、石川、太田、中村、伊藤、昭和６０年
度電子通信学会総合全国大会１−１９９）。尚この様な
磁性合金薄膜の形成においては、添加元素の蒸気圧に差
があるため蒸着法の適用は困難で、一般にスパッタリン
グ法が用いられている。
及びクロム薄膜を蒸着で形成しているが、最近はスパッ
タリング装置を用い、磁性膜にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金膜
を形成することにより、磁気特性、耐食性を改善すると
共に、第二次下地層としての純クロムの膜厚を薄くし、
クロムターゲットの使用量を削減することが試みられて
いる（山田、谷、石川、太田、中村、伊藤、昭和６０年
度電子通信学会総合全国大会１−１９９）。尚この様な
磁性合金薄膜の形成においては、添加元素の蒸気圧に差
があるため蒸着法の適用は困難で、一般にスパッタリン
グ法が用いられている。
前述の第二次下地層として純クロムをスパッタリングし
た磁気記録媒体において、従来は純クロム薄膜をアルミ
ニウム基板上へ施す際、生産性の点で問題があった。即
ちスパッタリングする際にパワーを上げすぎるとターゲ
ット表面の温度が上昇し、水冷されているターゲット裏
面との熱膨張の差によって熱応力を生じるが、純クロム
は脆いためにこの熱応力によってターゲットに割れが入
り易く、スパッタリング速度を上げることが出来なかっ
た。そのため生産性が上らず、磁気記録媒体の価格を低
下させることが困難であった。
た磁気記録媒体において、従来は純クロム薄膜をアルミ
ニウム基板上へ施す際、生産性の点で問題があった。即
ちスパッタリングする際にパワーを上げすぎるとターゲ
ット表面の温度が上昇し、水冷されているターゲット裏
面との熱膨張の差によって熱応力を生じるが、純クロム
は脆いためにこの熱応力によってターゲットに割れが入
り易く、スパッタリング速度を上げることが出来なかっ
た。そのため生産性が上らず、磁気記録媒体の価格を低
下させることが困難であった。
又純クロムは融点が高く、脆いので、溶解、鋳造、圧延
法でターゲノー動造することが困難で、粉末焼結法で製
造していたため、ターゲット自体の価格も高価であった
。
法でターゲノー動造することが困難で、粉末焼結法で製
造していたため、ターゲット自体の価格も高価であった
。
Ｃ問題点を解決するだめの手段〕
本発明はこの様な問題点を解決するため鋭意研究の結果
得られたものであり、アルミニウム基板上にコバルト又
はコバルト合金磁性薄膜を有する磁気記録媒体において
、該磁性薄膜の下地層として鉄を３．０〜３０．０ ｗ
ｔ％含有するクロム合金薄膜を施すことを特徴とする磁
気記録媒体である。
得られたものであり、アルミニウム基板上にコバルト又
はコバルト合金磁性薄膜を有する磁気記録媒体において
、該磁性薄膜の下地層として鉄を３．０〜３０．０ ｗ
ｔ％含有するクロム合金薄膜を施すことを特徴とする磁
気記録媒体である。
本発明者は、クロムの結晶構造を余り変えることがなく
、クロムターゲツト材の靭性を増大させ得るような添加
元素を種々探索した結果、鉄が最も優れていることを見
出した。即ちクロムに鉄を添加したＣｒ−Ｆｅ合金ター
ゲツト材とすることによりターゲツト材の靭性を増大す
ることができ、スパッタリング速度を上げてもターゲッ
トに割れが入らなく、従って磁気ディスクの生産性を大
巾に向上させることが出来る。又鉄は常温でクロムと同
じ体心立方格子を有し、格子定数もほぼ同じであり、ク
ロム−鉄合金の下地上にコバルト系材料をスパッタリン
グする際にコバルトのＣ軸が基板面に平行になる様にエ
ピタキシャル成長するのを阻害しなく、純クロムの上に
コバルト系材料をスパッタリングした場合とほぼ同等の
磁気特性が得られる。更にクロムに鉄を添加した０ｒ−
Ｆｅ合金とすることにより、ターゲツト材の靭性が増大
すると共に融点も下るので、ターゲツト材を溶解、鋳造
で容易に製造出来る様になり、ターゲット自体の価格も
低下させることが出来る。
、クロムターゲツト材の靭性を増大させ得るような添加
元素を種々探索した結果、鉄が最も優れていることを見
出した。即ちクロムに鉄を添加したＣｒ−Ｆｅ合金ター
ゲツト材とすることによりターゲツト材の靭性を増大す
ることができ、スパッタリング速度を上げてもターゲッ
トに割れが入らなく、従って磁気ディスクの生産性を大
巾に向上させることが出来る。又鉄は常温でクロムと同
じ体心立方格子を有し、格子定数もほぼ同じであり、ク
ロム−鉄合金の下地上にコバルト系材料をスパッタリン
グする際にコバルトのＣ軸が基板面に平行になる様にエ
ピタキシャル成長するのを阻害しなく、純クロムの上に
コバルト系材料をスパッタリングした場合とほぼ同等の
磁気特性が得られる。更にクロムに鉄を添加した０ｒ−
Ｆｅ合金とすることにより、ターゲツト材の靭性が増大
すると共に融点も下るので、ターゲツト材を溶解、鋳造
で容易に製造出来る様になり、ターゲット自体の価格も
低下させることが出来る。
本発明において、０ｒ−Ｆｅ合金ターゲツト材の鉄添加
量をう、０〜３０． ０ｗｔ％の範囲内に限定したのは
、３． ０ｗｔ％未満では靭性の増大が不充分でスパッ
タリング速度を上げることが出来なく、又３００ｗｔ％
を超えると下地層のクロム合金が磁性を帯びてノイズ等
の原因となるからである。
量をう、０〜３０． ０ｗｔ％の範囲内に限定したのは
、３． ０ｗｔ％未満では靭性の増大が不充分でスパッ
タリング速度を上げることが出来なく、又３００ｗｔ％
を超えると下地層のクロム合金が磁性を帯びてノイズ等
の原因となるからである。
本発明の磁気記録媒体は、アルミニウム基板を所定の厚
さに加工した後、表面を鏡面加工してから第一次下地層
として、硬質非磁性金属、例えばＮｉ−Ｐ合金を無電解
メッキするか或いは陽極酸化処理を施し、しかる後に第
二次下地層として０゜０５−０．４ ｐ ｍのクロム−
鉄（′３．０〜３０． ０ｗｔ％ ）合金薄膜をスパッ
タリングし、その上に０，０５〜０、２μｍ程度のコバ
ルト又はコバルト合金磁性薄膜をスパッタリング、メッ
キ等により施すことにより得られるが、第一次下地層を
施さずに、鏡面加工したアルミニウム基板上に直接第二
次下地層としてのクロム−鉄合金をスパッタリングして
もさしつかえない。
さに加工した後、表面を鏡面加工してから第一次下地層
として、硬質非磁性金属、例えばＮｉ−Ｐ合金を無電解
メッキするか或いは陽極酸化処理を施し、しかる後に第
二次下地層として０゜０５−０．４ ｐ ｍのクロム−
鉄（′３．０〜３０． ０ｗｔ％ ）合金薄膜をスパッ
タリングし、その上に０，０５〜０、２μｍ程度のコバ
ルト又はコバルト合金磁性薄膜をスパッタリング、メッ
キ等により施すことにより得られるが、第一次下地層を
施さずに、鏡面加工したアルミニウム基板上に直接第二
次下地層としてのクロム−鉄合金をスパッタリングして
もさしつかえない。
以下に本発明の実施例について説明する。
第１表に示す様にクロムに鉄を０〜３５ｗｔ％添加して
、０．５気圧のＡｒガス中で高周波溶解後鉄製の金型に
鋳造し、厚さ１５＋ｎｍ、巾２２０圏、長さ２２０ｍ＋
の鋳塊を得た。この鋳塊を機械加工により厚さ６鰭、直
径２００ｍｍの円板に仕上げ、第１図に示すマグネトロ
ンスパッタリング装置にセットしてターゲットとして使
用した。第１図において、１はターゲット、２はアルミ
ニウム基板、うは銅プレート、ヰａ、ＩＩｂは磁石であ
る。直径５２５”のアルミニウム基板２を鏡面研磨後筒
−次下地層としてＮｉ−Ｐ無電解メッキを施し、その上
に第二次下地層として前記クロム−鉄合金のターゲット
１を用いて、０１μｍスパッタリングした。
、０．５気圧のＡｒガス中で高周波溶解後鉄製の金型に
鋳造し、厚さ１５＋ｎｍ、巾２２０圏、長さ２２０ｍ＋
の鋳塊を得た。この鋳塊を機械加工により厚さ６鰭、直
径２００ｍｍの円板に仕上げ、第１図に示すマグネトロ
ンスパッタリング装置にセットしてターゲットとして使
用した。第１図において、１はターゲット、２はアルミ
ニウム基板、うは銅プレート、ヰａ、ＩＩｂは磁石であ
る。直径５２５”のアルミニウム基板２を鏡面研磨後筒
−次下地層としてＮｉ−Ｐ無電解メッキを施し、その上
に第二次下地層として前記クロム−鉄合金のターゲット
１を用いて、０１μｍスパッタリングした。
その際ターゲット１に割れが発生することなくスパッタ
リングが行なえる最高のスパッタリング速度を測定した
結果を第１表に示す。而して前記クロム合金下地層の上
にＣＯ−３０ａｔ％Ｎｉ−７，５ａｔ％Ｃｒ合金を０．
１μｍスパッタリングし、更に保護膜としてＣを０．０
３μｍスパッタリングして本発明の磁気記録媒体を得た
。該磁気記録媒体について最外周トラックの２．５ Ｋ
Ｈｚにおける再生出力を測定した結果を第１表に併記し
た。
リングが行なえる最高のスパッタリング速度を測定した
結果を第１表に示す。而して前記クロム合金下地層の上
にＣＯ−３０ａｔ％Ｎｉ−７，５ａｔ％Ｃｒ合金を０．
１μｍスパッタリングし、更に保護膜としてＣを０．０
３μｍスパッタリングして本発明の磁気記録媒体を得た
。該磁気記録媒体について最外周トラックの２．５ Ｋ
Ｈｚにおける再生出力を測定した結果を第１表に併記し
た。
第 １ 表
１ １ 組成（ｗｔ％） 最高スパッタ
リング 再生出力１ ” Ｆｅ ｃｒ 速
度（μｍＶ／ｍｉｎ ） （ｍ Ｖ ）１ ３＃
０ 残 ０．２１ ２．７０本
２ ３．Ｏｒ Ｏ，２５２，７１□ １発・３１０．Ｏｚ Ｏ，２９２，６９明 １
＋ １３．０’ ｐ Ｏ，３１２，
６８例 ５ ２０．Ｏｚ Ｏ，３３２
，６６６２５，０ｚ Ｏ，３７２，６１
７う０．０ １ ０．４
う ２．う６比 ｓ
ｏｌ 残 ０・０８２・７１較 ９
２．Ｏｚ Ｏ，０９２，７０例 １０
３３．０ １ ０．１４５ １．
９０従−１１０残 ０．０８ ２°
７０焼 １来
結 側聞 第１表から明らかなように、鉄を３．０〜５０．０ｗｔ
％含有するクロム−鉄合金をターゲットとして使用した
本発明例Ｎ（Ｌ １〜７においては、純クロムの鋳造品
を使用した比較例Ｎ１１８、純クロムより粉末焼結法に
よジターゲットを製造したＮ［Ｌｌｌ（従来例）に比べ
て、アルミニウム基板上へのスパッタリング速度が著し
く速くなっている。父上記Ｎ（Ｌ１〜７は純クロムをス
パッタリングしたＮ［Ｌｌｌとほとんど変らない再生出
力を示しており、磁気特性も従来例とほぼ同等である。
リング 再生出力１ ” Ｆｅ ｃｒ 速
度（μｍＶ／ｍｉｎ ） （ｍ Ｖ ）１ ３＃
０ 残 ０．２１ ２．７０本
２ ３．Ｏｒ Ｏ，２５２，７１□ １発・３１０．Ｏｚ Ｏ，２９２，６９明 １
＋ １３．０’ ｐ Ｏ，３１２，
６８例 ５ ２０．Ｏｚ Ｏ，３３２
，６６６２５，０ｚ Ｏ，３７２，６１
７う０．０ １ ０．４
う ２．う６比 ｓ
ｏｌ 残 ０・０８２・７１較 ９
２．Ｏｚ Ｏ，０９２，７０例 １０
３３．０ １ ０．１４５ １．
９０従−１１０残 ０．０８ ２°
７０焼 １来
結 側聞 第１表から明らかなように、鉄を３．０〜５０．０ｗｔ
％含有するクロム−鉄合金をターゲットとして使用した
本発明例Ｎ（Ｌ １〜７においては、純クロムの鋳造品
を使用した比較例Ｎ１１８、純クロムより粉末焼結法に
よジターゲットを製造したＮ［Ｌｌｌ（従来例）に比べ
て、アルミニウム基板上へのスパッタリング速度が著し
く速くなっている。父上記Ｎ（Ｌ１〜７は純クロムをス
パッタリングしたＮ［Ｌｌｌとほとんど変らない再生出
力を示しており、磁気特性も従来例とほぼ同等である。
一方鉄添加量が本発明の請求範囲よりも少ない比較測高
９は、従来例ＮｃＬ１１に比べてスパッタリング速度が
速くなっていなく、又鉄添加量が本発明の範囲よりも多
い比較測高１０は、Ｎα１１に比べてスパッタリング速
度は速くなっているが、再生出力が低下している。
９は、従来例ＮｃＬ１１に比べてスパッタリング速度が
速くなっていなく、又鉄添加量が本発明の範囲よりも多
い比較測高１０は、Ｎα１１に比べてスパッタリング速
度は速くなっているが、再生出力が低下している。
：、 このように本発明によれば、アルミニウム基板
上にコバルト又はコバルト合金磁性薄膜を有する磁気記
録媒体において、該磁性薄膜の下地層としてクロム系薄
膜をスパッタリングする際のスパッタリング速度を著し
く上げることが出来、磁気ディスクの生産性が大巾に向
上する。
上にコバルト又はコバルト合金磁性薄膜を有する磁気記
録媒体において、該磁性薄膜の下地層としてクロム系薄
膜をスパッタリングする際のスパッタリング速度を著し
く上げることが出来、磁気ディスクの生産性が大巾に向
上する。
第１図は本発明に用いだマグネトロンスパッタリング装
置の断面図である。 １・・・・・・ターゲット、２・・・・・・アルミニウ
ム基板、う・・・・・・銅プレート、４ａ・・・・・・
磁石、４ｂ・・・・・・磁石特許出願人 古河電気工
業株式会社 第１図
置の断面図である。 １・・・・・・ターゲット、２・・・・・・アルミニウ
ム基板、う・・・・・・銅プレート、４ａ・・・・・・
磁石、４ｂ・・・・・・磁石特許出願人 古河電気工
業株式会社 第１図
Claims (3)
- （１）アルミニウム基板上にコバルト又はコバルト合金
磁性薄膜を有する磁気記録媒体において、該磁性薄膜の
下地層として鉄を３．０〜３０．０ｗｔ％含有するクロ
ム合金薄膜を施すことを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）アルミニウム基板上に一次下地層としてメッキを
施した後、二次下地層として鉄を３．０〜３０．０ｗｔ
％含有するクロム合金薄膜を施すことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - （３）アルミニウム基板上に一次下地層として陽極酸化
処理を施した後、二次下地層として鉄を３．０〜３０．
０ｗｔ％含有するクロム合金薄膜を施すことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18298286A JPS6339128A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18298286A JPS6339128A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6339128A true JPS6339128A (ja) | 1988-02-19 |
Family
ID=16127694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18298286A Pending JPS6339128A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6339128A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63200316A (ja) * | 1987-02-14 | 1988-08-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| SG131748A1 (en) * | 2002-09-02 | 2007-05-28 | Inst Data Storage | Method of fabricating l10 ordered fept films with as a magnetic recording media |
-
1986
- 1986-08-04 JP JP18298286A patent/JPS6339128A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63200316A (ja) * | 1987-02-14 | 1988-08-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| SG131748A1 (en) * | 2002-09-02 | 2007-05-28 | Inst Data Storage | Method of fabricating l10 ordered fept films with as a magnetic recording media |
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