JPS63201917A - 磁気ディスクメモリの基板及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ディスクメモリ用の基盤及びこの基盤の製
造方法を対象とする。

（従来の技術） 大量記憶用のディスクメモリは磁気層を含み、この層の
中に２進法情報が、一般には磁化の方向の形で書き込ま
れる。読み取りヘッドがこのディスクの上方約０．５ミ
クロンのところを走り、層に含まれる磁気情報を読み取
る。

磁気層が付けられる基盤は幾つかの特性を持たなければ
ならない。即ち、安価であること、軽いこと（回転にお
ける急速な加速と減速を受は入れなければならない）、
平面性及び優れた表面状態を持つこと、である。

従来の技術による基盤は、アルミ箔から円盤を切り取る
ことによって得られる。このようにして、中心に穴を持
つディスクを得る。次に、この未加工の円盤は表面を平
らにされ、そして磨かれる。

アルミニウムは研摩が難しいため、ニッケル燐の層が付
けられる。次にニッケル燐の層は、±０．５ミクロンの
オーダーの平面性に達するため、かつ、適当な表面状態
に達するために再度磨かれる。

ニッケル燐の層を持つ基盤は、例えば、１９８４年７月
１８日に公告されたＲ、ヒキタの日本特許出願歯、５９
−１２４０２５に記述されている。

この技術には、特に原価が高くなるために不都合がある
が、原価が高くなるのは大部分が研摩操作のせいである
。

場合によっては、ディスクの表面を磨いた後、ダイアモ
ンド粉末を用いて０．５０ナノメータの深さのある同心
円状の微少な線刻を施し、これによってギャップのスペ
ーサがディスクの表面に張り付くのを避けることもある
。しかし、この操作は基盤の価格を上昇させるばかりで
ある。

もう一つの重大な不都合は、これらの基盤を使用すると
現れる。基盤が、情報の担体となる磁気薄層で被覆され
ると、アルミニウムの欠陥（夾雑物、不純物、等）がニ
ッケル燐の層を通して磁気層の中まで拡散され、その結
果、修復不能な欠陥を生む。

もう一つの技術は最近ＥＰ−０−１５２３２９に記述さ
れた。この技術は有機物層で被われた金属ディスクを使
うものであり、この有機物層の上に水酸化ケイ素或いは
シリカをベースとした材料の固い薄層が付けられる。こ
の技術は、幾つかの点では満足できるが、実施に移すの
が複雑である。

同様に、米国特許ＬＩＳ−Ａ−３２９０６９２によって
、合成樹脂或いはプレストレスト・ビニールで被覆され
たディスクまたはドラムも知られている。しかしこの場
合、平面族の状態は使用される箔に依存し、箔−ディス
ク間の接触は必ずしも満足できるとは限らない。

最後に、文書ＪＰ−Ａ−５８１８９８３６に対応する、
１９８４年２月１８日付けの日本特許アブストラクト第
８巻尚、３８によって、熱硬化性樹脂で被覆されたアル
ミニウムのディスクが知られている。この解決法の不都
合な点は、ＵＳ−Ａ−３２９０６９２に記述された技術
のそれと同じである。　　　　゛（発明の目的） 本発明は、上記の不都合を示さない、新しいディスクメ
モリ用の基盤を提案することを目的とする。

（発明の要約） 本発明は磁気ディスクメモリ用の基盤を対象とし、この
基盤はアルミニウムの円盤を含み、アルミニウムの円盤
の少なくとも一方の面はこの円盤に密着した有機材料の
箔で被覆され、この箔は書き込みの磁気層を取り付ける
ために滑らかな外表面を呈し、この基盤は、箔がプラス
チック製で、円盤状に加圧圧着されていることを特徴と
する。

本発明は、また、この種の基盤の製造方法も対象とする
。この方法によると、アルミニウム箔を用いて円盤を作
り、この円盤の少なくとも一方の面上に有機物の箔を付
ける。この方法は、有機材料の箔を付けるために、所定
の表面状態を持つ少なくとも１枚の板を用いてプラスチ
ック材の箔を円盤状に加熱圧着することを特徴とする特
に、板は、プラスチック箔に溝を刻印する同心円状の凸
部を持つ。

この種の方法においては、最終的に得られるディスクの
平面性を決めるのはプレス板の平面性である。他方、特
殊な形の凸部を得ることも可能であろう。これらの利点
は従来の技術には見られないものである。

（実施例） 第１図には、型取り後に丸く切り取られただけの、磨か
れていないアルミニウムの円盤１０が見られる。この円
盤は、ローラー１３及び１５からそれぞれ供給される２
枚のプラスチック箔１２及び１４の間に置かれている。

２枚の板１６及び１８が円盤の両側に置かれ、プレス２
０に接続される。光センサ２２が、例えば互いに１２０
°の角度を成して置かれ、ディスクＩＯを板に対して芯
出しをする。

プラスチック箔は、例えば、ポリカルボネート製、ナイ
ロン族、カプトン族、ポリイミド族、等であるか、或い
はアルミニウム上によく接着するように調製された有機
化合物製である。

板１６及び１８は互いに平行なプレス面を持ち、これに
よって、基盤の２つの面はひとたびプレスされると優れ
た平行性が保証され、しかもアルミニウムの円盤の２つ
の面の平行性に関係なくこれが保証される。

プラスチック箔の良好な接着を保証するために、円盤は
、プラスチック箔を所定の位置に於いてプレスする前に
、前もって樹脂で被覆することができる。この被覆は円
盤を接着液に浸すことによって得ることができる。

板１６及び１８は、更に板を近づける時に円盤を支える
芯出し用のガイドを持つことができる。

板がアルミニウムの円盤に対して更に押し付けられると
、プラスチック箔は円盤の周囲と中心で切り取られる。

粒子の汚染のあらゆる危険を排するために、基盤の外表
面が保護されている間にこの操作を行うことが実際に好
ましい。プレスの後、板１６及び１８は遠ざけられ、デ
ィスクを解放する。

各ディスクの一部をつなげたままにしておくために、プ
ラスチック箔を全部は切り取らない方が良い。するとデ
ィスクは互いにプラスチックの縁取りによフてつなげら
れる。このようにつないだものは、基盤を使用したい時
に、簡単にちぎれる。

基盤を製作後直ちに保護するために、第２図に示される
ように、プレスの直後に基盤をプラスチックの保護箔３
１及び３２の間に置き、これらの箔をその周囲３４に沿
って加熱接着することができる。

このようにして、中に基盤３０が入った、気密の保護カ
バーが作られる。

第３図は、プレス後に得られた結果をより詳細に示す。

圧着された箔３９及び４１の外表面３８及び４０は優れ
た表面状態を持ち、しかもそれは機械による研摩を行な
わなくても得られる。従って、円盤１０は、プラスチッ
ク箔で被覆されているので、はどほどの表面状態であっ
てよい（第３図では凹凸が誇張されている）。更に、円
盤の表面は極めて清潔度が高くなければならない必要も
ない。

たまたまこれらの表面に運ばれてくる粒子があっても、
それらはプラスチック箔とアルミニウムの円盤の間に閉
じ込められてしまうからである。

本発明の基盤では、書き込みの担体をなす（第３図に表
されている）磁気層４５及び４６はアルミニウム箔から
離されているの゛で、先に従来の技術に関して言及した
イオンによる汚染が避けられる。

本発明は、また、基盤の外表面に溝または線刻を非常に
簡単に実現できる。例えば、書き込みのトラックをきち
んと分離するために、こうするとクロストークが減ると
いう利点があるのだが、板１６及び１８は第４図に描か
れているように同心円状の凸部４７を持つことができる
。プレスの時にこれらの凸部はプラスチック箔の中に写
され、その場所に溝４８を形成する。すると磁気層４５
はこれらの間だけに残り、同心円状のトラックを形成す
る。

溝４８は、プラスチックに埋め込まれたトラック間の録
音部分となる。これらの録音部分は読み取りヘッドから
、均一な表面で得られる距離よりも遠い距離にある。従
フて、それらが発生する雑音はより小さい。

本発明のもう一つの利点は、ヘッドの張り付きの問題を
解決することである。先に指摘したように、ディスクの
表面が完全に平らな時は、書き込みヘッド及び読み取り
ヘッドを支持するスペーサがディスクに張り付くことが
ある。この問題に対する従来の解決法は、細かいブラシ
を用いて微小な線刻を人工的に作り出すことである。本
発明ではこのような線刻を、プレス操作の時に直接に、
邊かに簡単に得ることができる。即ち、適当な加工によ
って得られる微小な凸部を持つ板を使用するだけでよい
。

プレス面を極めて清潔に保つためには、１回プレスする
ごとに、或いは数回プレスするごとに、板を定期的にク
リーニングするのがよい。各面に２組みの板を使用する
ことができる。１組がプレスに用いられている間に、も
う１組がクリーニングされる。有機化合物を取り除くた
′めの酸素プラズマによるクリーニングを含む、既知の
あらゆるクリーニング法を用いることができる。

（発明の効果） 以上のごとく、本発明によると、安価で製造が容易で磁
気特性の優れた磁気ディスク用基盤が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による基盤を製作できる装置を表す。 第２図は、保護カバーの中にある基盤の断面を示す。 第３図は、基盤の断面の詳細を示す。 第４図は、基盤の外面に形成された微小な溝の外観を示
す。 特許出願人　コミッサリア　ア　レネルジイアトミック 特許出願代理人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、アルミニウムの円盤（１０）を含み、この円盤の少
   なくとも一方の表面はこのアルミニウムの円盤に密着し
   た有機材料の箔（３９、４１）で被われ、この箔は書き
   込みの磁気層（４５）を取り付けるために滑らかな外表
   面（３８、４０）を呈し、更に、箔がプラスチック製で
   、円盤状に加熱圧着されていることを特徴とする磁気デ
   ィスクメモリ用の基盤。 ２、プラスチックは、ポリカルボネート、ナイロン、カ
   プトン、ポリイミド、を含む一群の中から選択されるこ
   とを特徴とする、 請求項１に記載の基盤。 ３、アルミニウムの円盤とプラスチック箔の間に接着用
   の層を持つことを特徴とする、 請求項１に記載の基盤。 ４、プラスチック箔が、プレス後に、同心円状の溝（４
   ８）を持つことを特徴とする、 請求項１に記載の基盤。 ５、アルミニウム箔を用いて円盤（１０）を作り、この
   円盤（１０）の少なくとも一方の面に有機物の箔を付け
   、更に、 有機材料の箔を付けるためには、所定の表面状態を持つ
   少なくとも一枚の板（１６、１８）を用いて、プラスチ
   ック材の箔（１２、１４）を円盤上に加熱圧着すること
   を特徴とする、 請求項１の基盤の製造方法。 ６、板（１６、１８）が、プラスチック箔に溝（４８）
   を刻印する同心円状の凸部（４７）を持つことを特徴と
   する、 請求項５に記載の方法。 ７、更に、機密の保護カバーを作るために、得られた基
   盤（３０）を２枚のプラスチック箔（３１、３２）の間
   に通し、円形の輪（３４）に沿ってこの２枚の箔を加熱
   接着することを特徴とする、 請求項５に記載の方法。