JPS6320328B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6320328B2
JPS6320328B2 JP55144558A JP14455880A JPS6320328B2 JP S6320328 B2 JPS6320328 B2 JP S6320328B2 JP 55144558 A JP55144558 A JP 55144558A JP 14455880 A JP14455880 A JP 14455880A JP S6320328 B2 JPS6320328 B2 JP S6320328B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
copolymer
weight
alcohol
vinyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55144558A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5670548A (en
Inventor
Shupurintoshuniku Geruharuto
Noibauaa Ruudorufu
Buuru Geruharuto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPS5670548A publication Critical patent/JPS5670548A/ja
Publication of JPS6320328B2 publication Critical patent/JPS6320328B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、特にプロセンシタむズされた平版印
刷版の露光感光局を珟像及び恐らく定着及び保存
するための調合珟像液に関する。䞀般にその様な
局は感光成分ゞアゟニりム塩瞮合䜓、゚チレン
系䞍飜和化合物、アゞド又は類䌌物質及び殆ど
の堎合非感光性でコピヌ局に良奜な印刷性を䞎え
る氎䞍溶性重合䜓バむンダずからなる。 氎䞍溶性バむンダ、特に酞又はアルカリ氎溶液
に䞍溶のバむンダを含有する局は原図の䞋での露
光の埌で殆どの堎合、䜎沞点、毒性、可燃性、悪
臭の有機溶剀を比范的倚量に含有する珟像液を䜿
甚するこずによ぀おのみ珟像するこずが出来る。
その様な珟像液の䜿甚は著しい環境汚染問題に぀
ながり、蒞気及び䜿甚された珟像液を陀去するた
めに特別な装眮を必芁ずするこずが倚い。 含溶剀珟像液の䜜甚の仕方は次の様に理解する
こずが出来る。すなわち未硬化バむンダが溶剀に
よ぀お膚最し、それによ぀お倚かれ少なかれ機械
的な陀去が可胜ずはなるが、膚最した重合䜓粒子
盞互が即座に接着しお肉県で芋えるケヌクを圢成
し、次いでこのケヌクが印刷版のすでに珟像され
た郚分に接着しお珟像版のツブシ郚分又は繊现な
䞭間調郚分を被芆するこずが非垞に倚い。この過
皋は実際の䜜業で再沈殿ず称されおいる。それに
よ぀お印刷版の質が䜎䞋し、印刷甚に䜿甚䞍可胜
にすらなる。埓぀お補版を行うに圓り珟像機䞭で
ロヌルの粘着を防ぐためにケヌクを濟別する特殊
な濟過装眮を蚭ける必芁がしばしばある。䞀般に
ケヌク圢成及び再沈殿は珟像液䞭の溶剀の量を高
めるこずによ぀お避けるこずが出来るが、これは
䞊蚘した様な欠点をもたらす。 西ドむツ囜特蚱公開公報第2364631号は氎䞍溶
性重合䜓を含有する局甚の珟像液を蚘述しおい
る。同珟像液は溶剀ずしお有利にベンゞルアルコ
ヌルを含有する。それは同公報に挙げられおいる
特殊なコピヌ局には党く効果的に䜜甚するが、通
垞皮々のタむプの印刷版䞊により䞀般的に䜿甚す
るには適さない。この堎合にも可溶化性で、䞀般
に䜎沞点の溶剀又は湿最剀を添加するこずによ぀
おその氎溶解限床以䞊にベンゞルアルコヌルの含
量を高める詊みがなされた。しかし湿最剀をより
倚量に添加するず溶液の泡立ちを惹起し、䟋えば
スプレむダヌを䜿甚する自動補版機䞭ぞの適甚性
に䞍利に圱響するこずが認められた。 西ドむツ囜特蚱公開公報第2809774号からゞア
ゟニりム塩重瞮合生成物ず氎䞍溶性重合䜓ずから
なる局甚の、陰むオン湿最剀、ポリ−−ビニル
−−メチルアセトアミド又はポリビニルアルコ
ヌル、緩衝塩、ベンゞルアルコヌル及び䞉酢酞グ
リセリンを含有する珟像剀氎溶液が公知である。
この珟像液も特殊な局甚に良く適する。しかしそ
の溶剀含量には限界があり、又湿最剀を比范的倚
量に含有する堎合には発泡傟向を有する。 本発明の課題は以䞋の条件を備えた珟像液を提
䟛するこずである。  高床に毒性で悪臭、䜎沞点の溶剀を含有しな
い。  実際䞊無臭であるか又は少なくずも悪臭を有
さず、生物孊的に無害な溶剀を含有する。  印刷数の倚い印刷版甚に䜿甚されるず同時に
非垞に様々なバむンダ系に適甚出来る。  ケヌク圢成及び再沈殿を生じるこずなく又䜎
量の珟像液消費で印刷版を速やかに珟像する。  自動珟像機䞭で過床に発泡しない。 本発明は−ビニルアミン、ビニルアルコヌル
又はビニルアルコヌル誘導䜓のポリマヌず、氎溶
解床が10重量より少ないアルコヌルず、䞻成分
ずしおの氎ずを含有する露出感光コピヌ局珟像甚
の調合珟像液から出発する。 本発明による調合珟像液は、 (a) 匏 〔匏䞭は−又は
【匏】 を衚わすここでは氎玠原子又はメチル基を
衚わし、R1は氎玠原子、炭玠原子数が〜10
のアルキル基、炭玠原子数が〜10のアルコキ
シアルキル基又は炭玠原子数が〜10のアリヌ
ル基を衚わし、R2は炭玠原子数が〜のア
ルキル基又はアシル基を衚わす〕を有し、そ
のホモポリマヌが氎溶性である芪氎単䜍及び (b) そのホモポリマヌが氎䞍溶性であり、又眮換
分ずしお芳銙族基又は長鎖脂肪族基を含有する
ビニルモノマヌの疎氎単䜍 から構成される氎溶性又は氎䞭に分散しお安定な
分散液を生成し埗るコポリマヌを含有し、その堎
合䞊蚘疎氎単䜍の含有割合は同コポリマヌの0.1
氎溶液の衚面匵力が50よりも倧きくな
いこずを保蚌するのに十分なものであり、か぀同
コポリマヌの量は少なくずも、存圚するかも知れ
ない溶解限床以䞊のアルコヌル量を乳化するのに
十分であるこずを特城ずする。 本発明による調合珟像液䞭に含有される芪氎単
䜍ず疎氎単䜍からなるコポリマヌは、䟋えば〜
10重量氎䞭に溶解し埗るか又は分散剀又は乳化
剀を添加するこずなく氎䞭に分散しお安定な分散
液を生成するこずが出来る。 芪氎単䜍はそのホモポリマヌが氎溶性であるも
のでなければならない。同単䜍及び疎氎単䜍に加
えおポリマヌ䞭に、氎䞍溶性ホモポリマヌを圢成
するが衚面匵力を著しくは枛少しない別の単䜍、
䟋えば酢酞ビニル又は䜎䜍アクリル酞アルキルを
少量䟋えば10たでの量で含有させるこずも出来
る。 芪氎モノマヌの含量は少なくずも、䞊蚘した氎
䞭ぞの溶解床ないしは分散床を保蚌するのに十分
高いものでなければならない。 䞊蚘の匏の芪氎単䜍ずしおはビニルアミン誘導
䜓が有利に䜿甚され、その䞭R2が炭玠原子数
〜のアシル基であるものが有利である。R1は
有利に氎玠原子又は炭玠原子数が〜のアルキ
ル基である。 有利な疎氎単䜍は、アルキル基䞭に〜30個、
有利には60〜20個の炭玠原子を有する䞍飜和カル
ボン酞のアルキル゚ステルから、ビニル芳銙族化
合物から又はアルキル基䞭に〜30個、有利には
〜20個の炭玠原子を有するビニルアルキル゚ス
テルから誘導されるものである。䞍飜和カルボン
酞の䞭ではアクリル酞、メタクリル酞及びマレむ
ン酞が有利に䜿甚される。䞀般にコポリマヌ䞭の
疎氎モノマヌ単䜍の含量は0.5〜25モルであ
る。 適圓なコポリマヌの補造は䟋えば米囜特蚱明现
曞第3284429号、英囜特蚱明现曞第1082016号及び
西ドむツ囜特蚱公開公報第1720793号に蚘述され
おいる。 コポリマヌの分子量はその効果に決定的な圱響
は及がさない。䞀般に少なくずも1000であるべき
であるが、玄5000〜200000が有利である。 適圓な疎氎単䜍を圢成するモノマヌの䟋はノ
アヌサテむツクVersaticアシツドビニル゚ス
テル、む゜ノニル酞ビニル゚ステル、マレむン酞
ゞヘキシル゚ステル、アクリル酞゚チルヘキシ
ル、メタクリル酞デシル、アクリル酞ラりリル、
スチレン及び−オクチルスチレンである。 コポリマヌは有利に0.5〜10、有利には〜
の量で調合珟像液に添加される。仕䞊溶液の
粘床があたりにも高くな぀た堎合に添加量の䞊限
に達したずする。粘床はりベロヌデ法で枬定しお
25℃においお0.2cm2の倀を越えるべきではな
い。 氎の衚面匵力倀を著しくは枛少しない別の氎溶
性重合物質を少量0.1〜珟像液に添加す
るこずも出来る。その様な物質は䟋えばセルロヌ
ス゚ヌテル䟋えばメチルセルロヌス、カルボキシ
メチルセルロヌス、オキシアルキルセルロヌス、
アルギン酞の塩及び゚ステル、ポリビニルラクタ
ム䟋えばポリビニルピロリドン及び酢酞ビニルず
のそのコポリマヌ、ポリアクリル酞アミド、ポリ
ビニルアセチゞノン、ポリビニルアルコヌル、及
び−ビニル−−メチルアセトアミドの氎溶性
ホモポリマヌ及びコポリマヌである。もちろんそ
れらのポリマヌは珟像液䞭で該圓するPH倀におい
お別の成分ず盞和し埗なければならない。 調合珟像液䞭の別の䞍可欠な成分は氎溶解床が
箄10重量以䞋、有利には玄重量以䞋の、有
利には䞀䟡のアルコヌルである。芳銙脂肪族又は
シクロ脂肪族アルコヌルが最も適するこずが芋出
され、䟋えば−プニル゚タノヌル、−プ
ニル゚タノヌル、−プニルプロパノヌル−
、−プニルブタノヌル−、−プニル
ブタノヌル−、−プニルブタノヌル−、
−プノキシ゚タノヌル、−ベンゞルオキシ
゚タノヌル、−メトキシベンゞルアルコヌル、
−メトキシベンゞルアルコヌル、−メトキシ
ベンゞルアルコヌル、ベンゞルアルコヌル、シク
ロヘキサノヌル、−メチルシクロヘキサノヌ
ル、−メチルシクロヘキサノヌル及び−メチ
ルシクロヘキサノヌルが挙げられる。 脂肪族及び特に長鎖アルコヌルも䜿甚するこず
が出来るが、それらは芳銙脂肪族アルコヌル皋に
は効果を有さない。脂肪族アルコヌルの䞭では第
䞀アルコヌルが第二又は第䞉アルコヌルよりも適
する。その䟋はブタノヌル−、オクタノヌル−
、゚チレングリコヌルモノヘキシル゚ヌテル、
オクタノヌル−、オクタノヌル−、−゚チ
ルヘキサノヌル、゚チルヘキシルカルビノヌル、
シトロネロヌル、ゲラニオヌルである。 珟像液の䜜甚の仕方は恐らく次の様に説明する
こずが出来る。すなわち僅かしか氎に溶けないア
ルコヌルがコポリマヌによ぀お可溶化し、それに
よ぀お氎溶解性が僅少なアルコヌルを技術的に完
党な珟像液に必芁であるよりも倚い量で氎に溶か
すかないしは乳化させるこずが可胜になる。䟋え
ばオクタノヌル−及び−プノキシ゚タノヌ
ルの氎溶解床は宀枩においお以䞋ないしは
以䞋であるが、−ビニル−−メチルアセト
アミドモルずマレむン酞ビス−−゚チルヘ
キシルモルずから構成されるコポリマヌが䞁
床存圚する堎合には実際䞊無制限の量で氎䞭
に乳化させるこずが出来、それによ぀お数ケ月貯
蔵した埌ですら沈殿しない安定な゚マルゞペンが
生成する。 珟像液に添加されるアルコヌルの量は䞀般に
〜15重量、有利には2.5〜10重量の範囲であ
る。溶解限床以䞋のアルコヌル含量で効果的な珟
像液が埗られる堎合もある。しかし添加されるア
ルコヌルの量が溶解限床を越え、過剰量が乳化さ
れる堎合に最適の効果が達成される。 珟像液の倖芳はその組成のために殆どの堎合䞍
透明〜乳癜である。珟像液の最適な性質を埗るた
めに付加的に界面掻性剀、塩、可塑剀、酞、アル
カリ、銙料、䞊蚘の氎溶性ポリマヌ及び他の有機
溶剀を含有させるこずが出来る。しかしその量は
垞に各成分が盞互に盞和し、沈殿又は盞分離を生
じさせない様なものでなければならない。 界面掻性剀の䞭では陰むオン性のもの、䟋えば
ラりリル硫酞ナトリりム、オクチル硫酞ナトリり
ム、盞圓しお眮換されおいるスルホこはく酞゚ス
テルのナトリりム塩、む゜プロピルナフタリンス
ルホン酞ナトリりム、ナトリりムオレむン酞サル
コシド、ナトリりムオレむン酞むセチオネヌト、
ナトリりムオレむン酞メチルタりリド、ナトリり
ム脂肪族アルコヌルポリグリコヌル゚ヌテルサル
プヌト、ナトリりム脂肪族アルキルプノヌル
ポリグリコヌル゚ヌテルサルプヌト、脂肪族オ
レフむンスルホン酞ナトリりム、脂肪族アルキル
プノヌルスルホン酞ナトリりム又はそれらの混
合物、及び陜むオン性のもの、䟋えば塩化−セ
チルピリゞニりム、ハロゲン化トリメチルステア
リルアンモニりム及び塩化脂肪族アルキルベンゞ
ルゞメチルアンモニりムが有利である。しかし非
むオン性界面掻性剀、䟋えばアルキルプノヌル
ポリグリコヌル゚ヌテル又は脂肪族アルコヌルポ
リグリコヌル゚ヌテルを䜿甚するこずも出来る。
それらの界面掻性剀は比范的少量の乳化甚コポリ
マヌのみが含有されおいる堎合でも゚マルゞペン
の付加的な安定化をもたらす。界面掻性剀の量は
珟像条件䞋で゚マルゞペンが発泡するのを避ける
ために少量であるべきである。䞀般に0.05〜重
量である。 添加し埗る塩は䟋えばアルカリ金属及びアルカ
リ土類金属の氎溶性燐酞塩、硫酞塩、塩化物、硝
酞塩、珪酞塩、炭酞塩、硌酞塩、酢酞塩及び安息
銙酞塩である。䞀般にその量は0.1〜10重量で
ある。 添加し埗る酞は䟋えば燐酞、酒石酞、−ナル
゚ンスルホン酞及びくえん酞で、添加量は0.1〜
重量の範囲である。 䞊蚘のアルコヌル以倖でしばしば䜿甚される別
の有機溶剀は高沞点の極性溶剀、すなわちその沞
点がアルコヌルのそれず少なくずも同じ範囲内に
ある溶剀である。適圓な溶剀の矀はなかんずく10
以䞊氎に溶ける溶剀、䟋えば倚䟡アルコヌル及
びその郚分゚ヌテル及び゚ステル、グリコヌル酞
の盞圓する誘導䜓及びトリ゚タノヌルアミンを包
含する。曎に氎酞基を含有しない氎䞍溶性溶剀、
䟋えば完党゚ヌテル化又ぱステル化した䞀䟡又
は有利には倚䟡アルコヌル䟋えばトリアセチルグ
リセリン、フタル酞ゞブチル゚ステル及び゚チレ
ングリコヌルのゞアルキル゚ステルが適する。そ
れらの有機溶剀の䞭では少なくずも郚分的に゚ヌ
テル化又ぱステル化されおいおもよい倚䟡アル
コヌルが有利である。それら付加的な溶剀は䞀般
に0.1〜10重量、有利には〜重量の量で
添加される。それら有機溶剀は珟像工皋自䜓䞭で
沈殿を少しも又は僅少な皋床にしか生じさせない
ず掚定される。それらは䞻ずしお珟像液が珟像機
䞭の塗垃甚プラシおんパツド、ロツド又はブラツ
シ䞊で也く堎合にその湿床を保持ないしは液を可
塑化する目的を有する。 本発明による調合珟像液は倚数の非垞に様々な
感光局甚に極めおよく適し、極めお繊现な䞭間調
郚分においおすら硬化局成分を䟵害又は損傷する
こずなく未硬化局成分の即座の膚最及び完党な分
散を生じさせる。障害ずなるケヌクを圢成するこ
ずもなく又ツブシ郚分又は繊现な䞭間調郚分ぞの
再沈殿を生じるこずもない。芪氎性疎氎性コポ
リマヌが分子溶解しない局構成成分のよりよい又
より安定な分散を惹起するこずは党く明らかであ
る。 コポリマヌなしに珟像液を補造する堎合には、
溶剀を氎䞭に溶解させるために付加的な界面掻性
剀が必芁であり、それによ぀お劚害的な激しい発
泡が生じるか又は䟵害性の匷すぎる珟像液が生成
する。その様な珟像液も未硬化局成分を膚最さ
せ、それを陀去するこずが出来るが、倚くの堎合
それらは䞍溶解成分の凝結及び集凝を防止するこ
ずが出来ず、その結果再沈殿が生じる。他方本発
明による調合珟像液䞭に溶剀が䜿甚されず、重合
成分が含有される堎合には珟像液の膚最胜力は䞍
十分である。その様な珟像液は効力がない。 本発明による調合珟像液は䞻ずしおゞアゟ重瞮
合物及び氎䞍溶性重合バむンダを含有するネガチ
ブ局甚に有利に䜿甚される。しかし露出された光
重合性コピヌ局も同珟像液で珟像するこずが出来
る。その様な局甚の適圓なバむンダは重合ビニル
゚ステル䟋えばポリ酢酞ビニル、ポリプロピオン
酞ビニル、ポリ安息銙酞ビニル、ポリむ゜ノニル
酞ビニル、ポリビニルノアヌサテヌト、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン及びそれらポリマヌ
の郚分鹞化誘導䜓アルコヌル成分の炭玠原子数
が〜20の重合アクリル−及びメタクリル酞゚ス
テル様々な量のOH基及び酢酞根を付加的に含
有しおいおよいポリビニルアセタヌル䟋えばポリ
ビニルホルマヌル、ポリビニルブチラヌル及びポ
リビニルベンザル䟋えばクロトン酞、マレむン
酞゚ステル及びフマル酞゚ステル、アクリル酞及
びメタクリル酞ず䞊蚘物質矀ずのコポリマヌス
チレンのホモポリマヌ又は䞊蚘のモノマヌずのコ
ポリマヌ改質及び非改質゚ポキシド暹脂䟋えば
その遊離゚ポキシド基が有機又は無機酞ず反応し
おいる暹脂プノヌルホルムアルデヒド暹脂及
びクレゟヌルホルムアルデヒド暹脂、尿玠ホルム
アルデヒド暹脂、メラミンホルムアルデヒド暹
脂、分枝及び非分枝のポリりレタン暹脂及びむ゜
シアネヌト末端基を有するポリりレタン−メ
チロヌルアクリルアミド又はアセトアセチル゚チ
ルアクリレヌト、ビニル゚ステル、アクリレヌ
ト、メタクリレヌト等の様な反応性モノマヌを含
有するコポリマヌアルキド暹脂、ポリアミド暹
脂、ポリカヌボネヌト及びポリ゚チレン暹脂カ
ルボキシル基で改良されおいるものも含むであ
る。 その様なバむンダを感光成分ず組合せお感光局
を圢成する方法は専門家には公知である。䞀般に
該局は顔料、染料、指瀺薬、酞、可塑剀、氎溶性
ポリマヌ、界面掻性剀等も含有する。それらの添
加物も専門家には公知である。適圓な局は䟋えば
西ドむツ囜特蚱公開公報第2024244号、同第
2034654号、同第2034655号、同第2039861号、同
第2331377号、同第2739774号、同第2822887号、
同第2834059号及び米囜特蚱明现曞第3660097号に
蚘述されおいる。 適圓な局支持䜓は䞀般に印刷版甚に垞甚されお
いる物質䟋えば玙、プラスチツクフむルム、アル
ミニりム、銅、亜鉛、鋌等である。特に有利なも
のはこの目的のために通垞機械的、化孊的又は電
気化孊的に粗面にされ、次いで恐らくは陜極酞化
されたアルミニりムである。この担䜓物質をポリ
ビニルホスホン酞、燐酞塩、珪酞、塩、ヘキサフ
ルオロゞルコン酞塩、クロム酞塩、硌酞塩、ポリ
アクリルアミド、セルロヌス誘導䜓等で凊理する
こずは有利であり埗る。 本発明による調合珟像液は良奜な珟像効果を有
する他に感光印刷版の補版に有甚な別の有利な性
質を有する。すなわち珟像埌版面䞊に調合珟像液
を残し、也燥させるか又は䟋えば擊るこずによ぀
お也燥するこずが可胜である。その堎合には版面
甚の保存剀ずしお䜜甚するから、付加的な保存剀
䟋えばアラビダゎムは䞍必芁である。 本発明による調合珟像液の曎に別の利点は珟像
機䞭での䞍溶解暹脂の沈殿を効果的に防止するこ
ずである。公知珟像液で起るその様な沈殿はもし
それが珟像機の手の屈き難い堎所に生じた堎合重
倧な問題をひき起す。本発明による調合珟像液は
印刷版を珟像するず同時にそれを汚染又は損傷す
るこずなくその様な叀い沈殿を珟像機から陀去す
るこずすら可胜である。埓぀お同調合珟像液は疎
氎性氎䞍溶性の汚れ䟋えば油脂性物質、暹脂、シ
リコヌン、染料等を陀去するためにあらゆる皮類
の物質甚の枅浄剀ずしお䜿甚するこずも出来る。 以䞋の実斜䟋は本発明の有利な実斜圢匏を瀺
す。量を瀺す数倀、及び郚は他に蚘茉のない限
り重量による。衚面匵力は25℃においお枬定し
た。 䟋  −メトキシゞプニルアミン−−ゞアゟニ
りムクロラむドモル4′−ビスメトキシメチ
ルゞプニル゚ヌテルモルずの重瞮合物スル
ホン酞メセチレンずしお分離、酢酞ビニル
ずマレむン酞ゞブチルずのコポリマヌ、マラ
カむトグリヌンC.I.420000.4、燐酞85
0.1及びメタニルむ゚ロヌC.I.130650.1を
゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル150mlず
テトラヒドロフラン50ml䞭に溶かし、也燥重量
0.8m2の局が生成する様に局支持䜓䞊に塗垃
した。同局支持䜓は電気化孊的に粗面にされ、陜
極酞化された酞化物重量m2のアルミニりム
で、ポリビニルホスホン酞の氎溶液で埌凊理され
たものである。 埗られたオフセツト印刷版をネガチブ原図の䞋
で垞甚の露光装眮䞭で5000Wのハロゲン化金属ラ
ンプを䜿甚しお30秒間露光し、氎100、−フ
゚ニルブタノヌル− 4.5、−ビニル−
−メチルアセトアミドずマレむン酞ゞオクチル
8812ずのコポリマヌ、燐酞850.5
、オクチル硫酞ナトリりム0.2及び硫酞マグ
ネシりムからなる混合物を泚いで珟像した。
コポリマヌの0.1氎溶液の衚面匵力は33
であ぀た。版を氎で滌いで印刷機䞭での䜿甚準
備が完了した。ツブシ郚分にも、繊现な䞭間郚分
にも又線芁玠にも再沈殿又は未珟像局の残枣は芋
出されなか぀た。 同じ方法で珟像された別の版をリンスした埌で
その䞊に新しい珟像液を泚ぎ、次いで版をパツド
で擊぀お也燥させた。週間埌に版を再び氎で滌
いだ。同版は珟像盎埌に䜿甚された版ず同じ印刷
挙動を瀺した。 比范のために珟像液䞭のコポリマヌの代りに同
量のポリ−−ビニル−−メチルアセトアミド
を䜿甚しお䟋の方法を繰返した。珟像効果は実
際䞊同じであ぀たが、図の繊现な䞭間調郚分及び
ツブシ郚分にかなりの量の芪油性集凝物質が再沈
殿した。同ホモポリマヌの0.1氎溶液は60
の衚面匵力を有した。 䟋  −メトキシゞプニルアミン−−ゞアゟニ
りムクロラむドモルず4′−ビスメトキシメ
チルゞプニル゚ヌテルモルずからの重瞮合物
スルホン酞メタンずしお分離、アクリル
酞ブチルず酢酞ビニルモル比ずのコポ
リマヌ、ノむクトリア ピナア ブルヌ
FGAC.I.ベヌシツク ブルヌ810.3及び燐酞
850.2を゚チレングリコヌルモノメチル゚
ヌテル200mlに溶かし、也燥重量m2の局が
圢成される様にアルミニりム支持䜓䞊に塗垃し
た。同局支持䜓は研磚性氎性スラリヌで擊過しお
粗面にされ、次いでポリビニルホスホン酞の氎溶
液で凊理されたものである。䟋に蚘茉の様に原
図䞋で露光した埌で、氎100、オクタノヌル−
 10、オクチル硫酞ナトリりム1.5、メタ
珪酞ナトリりム0.4、−ビニル−−メチル
アセトアミドずスルホン酞゚テンモル比
ずからの氎溶性コポリマヌ及び−ビニ
ル−−メチルアセトアミドずアクリル酞−゚
チルヘキシル91ずからのコポリマヌ
の混合物を䜿甚しお珟像を行぀た。 䟋  䟋のゞアゟ重瞮合物、ポリビニルブチラ
ヌルの50氎性分散液、顔料分散液−
Cu−フタロシアニンC.I.7416010、ポリビ
ニルホルマヌル10及び゚チレングリコヌルメチ
ル゚ヌテルアセテヌト80からなる及びメ
チルオレンゞ0.2をシクロヘキサノン80ずテ
トラヒドロフラン40䞭に溶かし、䟋に蚘茉の
局支持䜓䞊に蚘茉の方法で塗垃した。珟像は氎
100、−メトキシベンゞルアルコヌル、
ビニルアルコヌル、酢酞ビニル及びビニルノアヌ
サテヌトモル比94からなるコポリマ
ヌ、オクチル硫酞ナトリりム1.1及び燐酞
85の溶液で行぀た。その様に埗られた
印刷版から印刷機䞭で非垞に倚数のプリントが刷
られた。コポリマヌ0.1氎溶液の衚面匵力は44
であ぀た。 䟋  䟋のゞアゟ重瞮合物1.15、メタクリル酞メ
チルずメタクリル酞ずからの酞䟡110のコポリマ
ヌ3.45、䟋に蚘茉の顔料分散液、燐酞
850.1及びメタニルむ゚ロヌ0.04を゚チ
レングリコヌルモノメチル゚ヌテル100䞭に溶
かし、䟋に蚘茉の局支持䜓䞊に也燥重量0.8
m2の局が圢成される様に塗垃した。原図䞋で
露光した埌で、氎100郚䞭のベンゞルアルコヌル
郚、燐酞85郚、−ビニル−−メチ
ルアセトアミドを含む䟋に蚘茉のコポリマヌ
郚、オクチル硫酞ナトリりム郚の溶液で珟像を
行぀た。その結果完党に珟像された印刷版が圢成
され、これから枚葉玙オフセツト印刷機䞭で200
〜30000枚の良奜なプリントが刷られた。 䟋  䟋のゞアゟ瞮合物2.4、未可塑化尿玠暹脂
の䞭皋床の粘床の65ブタノヌル溶液28.8、燐
酞850.45及びノむクトリア ピナア
ブルヌFGAC.I.ベヌシツク ブルヌ811.2を
゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル300mläž­
に溶かし、䟋に蚘茉の局支持䜓䞊に也燥重量
1.4m2の局が圢成される様に塗垃した。原図
䞋で露光した埌で、氎100郚、−メトキシベン
ゞルアルコヌル郚、䟋に蚘茉のコポリマヌ
郚、燐酞85郚及びオクチル硫酞ナトリり
ム郚からなる混合物で速やかに又ケヌクを圢成
するこずなく珟像が行われた。 䟋  也燥脂肪酞をベヌスずし、䞭皋床の油性ず酞䟡
45を有するアルキド暹脂の氎皀釈性50ブタノヌ
ル溶液20℃における溶液の動的粘床160〜250
Pa.s、䟋に蚘茉のゞアゟ瞮合物、
燐酞850.2及びフクシンC.I.425100.3
を゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル150
mlずテトラヒドロフラン50ml䞭に溶かし、䟋に
蚘茉の局支持䜓䞊に也燥重量m2の局が圢成
される様に塗垃した。原図䞋での露光埌に−フ
゚ニル゚タノヌル郚、メタ珪酞ナトリりム0.3
郚、ナトリりム脂肪族アルコヌルポリグリコヌル
゚ヌテルサルプヌト郚、−ビニル−−メ
チルアセトアミドずアクリル酞−゚チルヘキシ
ル91ずからのコポリマヌ郚、第䞉燐酞
ナトリりム郚及び氎100郚からなる溶液䞭で速
やかに又完党に珟像された。 䟋  䟋に蚘茉のゞアゟ瞮合生成物1.15、ゞむ゜
シアン酞4′−ゞプニルメタン及びアゞピン
酞ずブタンゞオヌル−ずのポリ゚ステルゞ
オヌルずから補造された本質的に線状のポリりレ
タン3.45、䟋に蚘茉の顔料分散液、メタ
ニルむ゚ロヌ0.04及び燐酞850.1を゚
チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル100ml䞭に
溶かし、䟋に蚘茉の局支持䜓䞊に也燥重量
m2の局が圢成される様に塗垃した。原図䞋で
の露光埌に氎83、−プニルブタノヌル−
、オクチル硫酞ナトリりム及び䟋に
蚘茉のコポリマヌからなる混合物で珟像を行
぀た。適正に珟像された印刷版が埗られ、これか
ら枚葉玙オフセツト印刷機䞭で玄15000枚の完党
なプリントが刷られた。 䟋  分子量玄30000、氎酞基含量及びアセテヌ
ト基含量26のポリビニルホルマヌル、䟋
に蚘茉のゞアゟ瞮合物、燐酞850.3、
ノむクトリア ピナア ブルヌFGA0.4、メ
タニルむ゚ロヌ0.2を゚チレングリコヌルモノ
メチル゚ヌテル100ml䞭に溶かし、䟋に蚘茉の
局支持䜓䞊に也燥重量0.5m2の局が圢成され
る様に塗垃した。原図䞋での露光埌、䟋に蚘茉
されおいる通りであるがベンゞルアルコヌルの代
りに同量の−プノキシ゚タノヌルを䜿甚した
珟像液で珟像を行い、欠陥のない印刷版を埗た。 䟋  䟋に蚘茉ず同様の方法を甚いたが、盞異点ず
しおポリりレタンバむンダの代りに同量の、垂販
補品の粘床が20℃においお3000〜3600Pa.sの65
ブタノヌル溶液の圢の非可塑化尿玠暹脂䞭皋
床の粘床ず65〜75℃の軟化点及び450〜525の゚
ポキシド圓量を有する非改質゚ポキシド暹脂ずを
含有する混合物を䜿甚した。䞡暹脂の重量比は固
䜓物質に関しおであ぀た。䟋に蚘茉の局
支持䜓䞊に塗垃しお局を埗、これを原図䞋で露光
した埌で䟋に蚘茉の珟像液で珟像し、オフセツ
ト印刷機に䜿甚しお玄15000枚の良奜なプリント
を埗た。 䟋 10 キシレン゚チレングリコヌル゚チル゚ヌテル
アセテヌト䞭の含氎酞基アクリル暹脂
氎酞基含量4.8の50溶液25℃における動
的粘床1550Pa.s、酢酞ビニルずアクリ
ルブチルモル比ずのコポリマヌの56
氎性分散液、䟋に蚘茉のゞアゟ瞮合物
、マラカむトグリヌン0.5、燐酞850.2
及びメチルオレンゞ0.2を゚チレングリコヌ
ルモノメチル゚ヌテル150mlずテトラヒドロフラ
ン50mlに溶かし、䟋に蚘茉の局支持䜓䞊に也燥
重量1.3m2の局が埗られる様に塗垃した。原
図䞋での露光埌に−メチル−−ビニルアセト
アミドずアクリル酞−゚チルヘキシル91
ずのコポリマヌ、−メトキシベンゞル
アルコヌル、オクチル硫酞ナトリりム0.2
及び燐酞85を含む氎溶液で珟像した。
申分なく珟像された印刷版が埗られた。 䟋 11 ゚ポキシド圓量が450〜525の゚ポキシド暹脂
、ゞプニルアミン−−ゞアゟニりムクロラ
むドずホルムアルデヒドずの瞮合生成物−オ
キシ−−メトキシベンゟプノン−−スルホ
ネヌトずしお分離、燐酞850.2及
びフクシン0.3を゚チレングリコヌルモノメチ
ル゚ヌテルずテトラヒドロフランずの
混合物200ml䞭に溶かし、局支持䜓䞊に也燥重量
m2の局が圢成される様に塗垃した。同局支
持䜓はワむダヌブラツシで粗面にされ、次いでポ
リビニルホスホン酞の氎溶液で凊理されたアルミ
ニりム箔であ぀た。原図䞋での露光埌に、氎100
、−プニル゚タノヌル、−ビニル−
−メチルアセトアミドずアクリル酞オクチル
91ずのコポリマヌ及びメタ珪酞ナト
リりム0.3からなる混合物で珟像した。 䟋 12 䟋に蚘茉のゞアゟ重瞮合物1.15、−
トリレンゞむ゜シアネヌトモル、ブタンゞオヌ
ル− モル、ポリプロピレングリコヌル
分子量1000モル及び−トリメ
チロヌルプロパンモルから補造され末端基ずし
お遊離む゜シアネヌト基を有するポリりレタンプ
レポリマヌ3.45、䟋の顔料分散液1.0、メ
タニルむ゚ロヌ0.04及び燐酞850.2を
゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル100mläž­
に溶かし、䟋に蚘茉の局支持䜓䞊に也燥重量
m2の局が圢成される様に塗垃した。原図䞋で
の露光埌に䟋に蚘茉の珟像液で珟像しお申分な
く珟像された印刷版を埗た。これから玄60000枚
の良奜なプリントが刷られた。 䟋 13 ゚チレン、酢酞ビニル及び塩化ビニルからのタ
ヌポリマヌの50氎性分散液10、䟋のゞアゟ
瞮合物1.5、燐酞850.3及びノむクト
リア ピナア ブルヌFGA0.1を゚チレングリ
コヌルモノメチル゚ヌテル、テトラヒドロフラン
及び酢酞ブチルの混合物100mläž­
に溶かし、䟋に蚘茉の局支持䜓䞊に也燥重量
1.3m2の局が圢成される様に塗垃した。原図
䞋での露光埌に−ビニル−−メチルアセトア
ミドずマレむン酞ビス−−゚チル−ヘキシル
8812ずのコポリマヌ、燐酞、硫酞
マグネシりム、−メトキシベンゞルアルコ
ヌル及び゚チレングリコヌルを含む氎溶
液で珟像を行い、申分なく珟像された印刷版を埗
た。 以前に垞甚の珟像液を䜿甚しお長期間にわた぀
お䜜業した通垞の珟像機䞭でも䞊蚘印刷版の申分
のない珟像が可胜であ぀た。機械の手の届き難い
堎所に以前の氎䞍溶性瞮合暹脂又はポリビニル暹
脂の残枣が沈降しおいた。それらの残枣は本発明
による珟像液によ぀お珟像版の質に䜕ら認められ
る皋の䞍利な圱響を及がすこずなく陀去された。 䟋 14 酢酞ビニル、ビニルノアヌサテヌト及びアクリ
ル酞ブチルからなるタヌポリマヌの氎性分散液
固䜓分50、マラカむトグリヌン0.4、
燐酾0.2及び䟋に蚘茉のゞアゟ瞮合物を
シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン及び酢酞
ブチルの混合物150ml䞭に溶かし、
䟋に蚘茉のアルミニりム局支持䜓䞊に也燥重量
0.7m2の局が圢成される様に塗垃した。原図
䞋での露光埌に−プニルプロパノヌル−
、アクリル酞−゚チルヘキシルず−ビニ
ル−−メチルアセトアミド91ずのコポ
リマヌ3.8、燐酞85及びラりリル硫
酞ナトリりム0.5を含有する氎溶液で珟像した。
申分のない珟像印刷版が埗られ、これから枚葉玙
オフセツト印刷機䞭で100000枚以䞊の良奜なプリ
ントが刷られた。 䟋 15 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル13䞭
のメタクリル酞メチルずメタクリル酞ずからの酞
䟡105のコポリマヌ1.4、トリアクリル酞トリメ
チロヌル゚タン1.4、−ゞオキシ゚トキ
シヘキサン0.4及びベンズ−(a)−アクリゞン
0.05の溶液を濟過し、電解法で粗面にされ、陜
極酞化された酞化局重量m2のアルミニりム
䞊に也燥重量m2の局が圢成される様な量で
塗垃した。 版を原図䞋で露光した埌で、氎100䞭のメタ
珪酞ナトリりム、塩化ストロンチりム0.05
、ラりリル硫酞ナトリりム0.03、−ビニル
−−メチルアセトアミドずアクリル酞オクチル
91ずのコポリマヌ及び−プノキ
シ゚タノヌルの溶液で珟像した。䞊蚘コポリ
マヌの0.1溶液の衚面匵力は39であ぀
た。申分なく珟像されたオフセツト印刷版が埗ら
れ、これから100000枚以䞊の良奜なプリントが刷
られた。 䟋 16 保護コロむドずしおセルロヌス゚ヌテルを含有
するポリ酢酞ビニルの可塑性分散液固䜓分60
、゚チレングリコヌル氎䞭
のピグメント グリヌンC.I.74260の40分
散液、䟋のゞアゟ瞮合物及び燐酞85
0.3を゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル100ml䞭に溶かし、電気化孊的に粗面にされ
珪酞ナトリりム溶液で凊理されたアルミニりム局
支持䜓䞊に也燥重量m2の局が圢成される様
に塗垃した。原図䞋での露光埌に、氎100、䟋
に蚘茉のコポリマヌ2.8、−プニル−
−ブタノヌル4.5及び第二燐酞ナトリりム
の珟像液で珟像した。同版はケヌクを圢成するこ
ずなしに速やかに珟像するこずが出来、これから
印刷機䞭で数千枚の良奜なプリントが刷られた。 䟋 17 −トリオキシベンゟプノンモル
ずナフトキノン−−ゞアゞド−(2)−−
スルホン酞クロラむドモルずの゚ステル化生成
物0.76、2′−ゞオキシゞナフチル−
1′−メタンモルずナフトキノン−−
ゞアゞド−(2)−−スルホン酞クロラむドモル
ずの゚ステル化生成物0.58、ナフトキノン−
−ゞアゞド−(2)−−スルホン酞クロラ
むド0.19、軟化点が105〜120℃のクレゟヌルホ
ルムアルデヒドノボラツク5.85及びクリスタル
ノアむオレツトC.I.425550.07を゚チレン
グリコヌルモノメチル゚ヌテル40、テトラヒド
ロフラン50及び酢酞ブチル10の混合物䞭に溶
かした。同溶液を䟋に蚘茉のアルミニりム支持
䜓䞊に也燥重量1.0m2の局が圢成される様に
塗垃した。原図䞋での露光埌にベンゞルアルコヌ
ル、トリ゚タノヌルアミン、䟋に蚘茉
のコポリマヌ、珪酞ナトリりム、メタ珪
酞ナトリりム0.2、第䞉燐酞ナトリりム及
びオクチル硫酞ナトリりムを含有する氎溶液
で珟像した。申分のない印刷版が埗られ、これか
ら枚葉玙オフセツト機䞭で100000枚以䞊の良奜な
プリントが刷られた。 䟋 18 䟋に蚘茉のゞアゟ瞮合物、−Cu−フ
タロシアニンずポリビニルブチラヌル
ずから補造された顔料粉末、燐酞及びメ
タニルむ゚ロヌ0.1を゚チレングリコヌルモノ
メチル゚ヌテル100ml䞭に溶かし、也燥重量0.5
m2の局が圢成される様に局支持䜓䞊に塗垃し
た。この䟋に䜿甚された局支持䜓ず䟋に蚘茉の
それずの唯䞀の差異はこの䟋の局支持䜓の酞化物
重量がより䜎くm2であるこずである。原図
䞋での露光埌に版を䟋10に蚘茉の珟像液を含有す
るクベツト䞭に浞した。玄1/2分埌に版を取出し、
氎で短時間滌いだ。その様に圢成された印刷版か
らアルコヌル湿し装眮を有する印刷機䞭で玄
100000枚のシヌトを印刷出来た。 䟋 19 ゚チレン、酢酞ビニル及び塩化ビニルからなる
タヌポリマヌの50氎性分散液、䟋に蚘茉
のゞアゟ重瞮合物1.5、燐酞850.08、
ノむクトリア ピナア ブルヌFGA0.16及
びメタニルむ゚ロヌ0.11を゚チレングリコヌル
モノメチル゚ヌテル116、テトラヒドロフラン
59及び酢酞ブチル17の混合物䞭に溶かし、䟋
に蚘茉の局支持䜓䞊に也燥重量0.8m2の局
が圢成される様に塗垃した。原図䞋での露光埌
に、−メチル−−ビニルアセトアミドずマレ
むン酞ビス−−゚チルヘキシル8812ず
のコポリマヌ2.9、燐酞氎玠二ナトリりム、
ベンゞルアルコヌル4.3、オクチル硫酞ナトリ
りム0.2及びゞ゚チレングリコヌル4.0を含む
氎溶液で珟像しお申分のない印刷版を埗、これか
ら枚葉玙オフセツト印刷機䞭で100000枚以䞊の良
奜なプリントが刷られた。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  原図䞋で露光された感光コピヌ局を掗出する
    ための、−ビニルアミン、ビニルアルコヌル又
    はビニルアルコヌル誘導䜓のポリマヌず、氎溶解
    床が10重量よりも少ないアルコヌルず、䞻成分
    ずしおの氎ずを含有する調合珟像液においお、前
    蚘ポリマヌが (a) 匏 〔匏䞭は−又は 【匏】 を衚わし、䞊蚘は氎玠原子又はメチル基を衚
    わし、R1は氎玠原子、それぞれ炭玠原子数が
    〜10のアルキル基又はアルコキシアルキル基
    又は炭玠原子数が〜10のアリヌル基を衚わ
    し、R2はそれぞれ炭玠原子数が〜のアル
    キル基又はアシル基を衚わす〕を有し、そのホ
    モポリマヌが氎溶性である芪氎単䜍及び (b) そのホモポリマヌが氎䞍溶性であり又眮換分
    ずしお芳銙族基又は長鎖脂肪族基を含有するビ
    ニルモノマヌの疎氎単䜍 から構成される氎溶性又は氎䞭に分散しお安定な
    分散液を生成し埗るコポリマヌを含有し、その堎
    合䞊蚘疎氎単䜍の含有割合は同コポリマヌの0.1
    氎溶液の衚面匵力が50よりも倧きくな
    いこずを保蚌するのに十分なものであり、か぀同
    コポリマヌの量は存圚する可胜性のある溶解限床
    以䞊のアルコヌル量を乳化するのに少なくずも十
    分なものであるこずを特城ずする感光コピヌ局を
    掗出するための調合珟像液。  氎溶解床が10重量より少ないアルコヌルを
    〜15重量及びコポリマヌを0.5〜10重量含
    有する特蚱請求の範囲第項蚘茉の調合珟像液。  付加的にむオン湿最剀を0.05〜重量含有
    する特蚱請求の範囲第項蚘茉の調合珟像液。  付加的に塩を0.1〜10重量含有する特蚱請
    求の範囲第項蚘茉の調合珟像液。  付加的に酞を0.1〜重量含有する特蚱請
    求の範囲第項蚘茉の調合珟像液。  郚分゚ヌテル化又ぱステル化されおいおも
    よくたた少なくずも10重量に溶ける倚䟡アルコ
    ヌル又は完党゚ヌテル化又ぱステル化されおい
    る氎䞍溶性倚䟡アルコヌル0.1〜10重量を付加
    的に含有する特蚱請求の範囲第項蚘茉の調合珟
    像液。  が基R1R2ここでR2は炭玠原子数が
    〜のアシル基を衚わすを衚わす匏の芪氎
    単䜍を有するコポリマヌを含有する特蚱請求の範
    囲第項蚘茉の調合珟像液。  炭玠原子数〜30のアルキル基を有する䞍飜
    和カルボン酞のアルキル゚ステルから、ビニル芳
    銙族化合物から又は炭玠原子数〜30の脂肪族カ
    ルボン酞のビニル゚ステルから誘導された疎氎単
    䜍を有するコポリマヌを含有する特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の調合珟像液。
JP14455880A 1979-10-17 1980-10-17 Development solution for washing out photosensitive copy layer and method of developing exposed photosensitive copy layer Granted JPS5670548A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19792941960 DE2941960A1 (de) 1979-10-17 1979-10-17 Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5670548A JPS5670548A (en) 1981-06-12
JPS6320328B2 true JPS6320328B2 (ja) 1988-04-27

Family

ID=6083667

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14455880A Granted JPS5670548A (en) 1979-10-17 1980-10-17 Development solution for washing out photosensitive copy layer and method of developing exposed photosensitive copy layer

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4339530A (ja)
EP (1) EP0027932B1 (ja)
JP (1) JPS5670548A (ja)
AT (1) ATE3473T1 (ja)
AU (1) AU535273B2 (ja)
BR (1) BR8006657A (ja)
CA (1) CA1156085A (ja)
DE (2) DE2941960A1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8405549D0 (en) * 1984-03-02 1984-04-04 Sericol Group Ltd Screen printing compositions
DE3439597A1 (de) * 1984-10-30 1986-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers
DE3504658A1 (de) * 1985-02-12 1986-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US4592992A (en) * 1985-04-11 1986-06-03 American Hoechst Corporation Developer compositions for lithographic plates
DE3600116A1 (de) * 1986-01-04 1987-07-09 Basf Ag Verfahren zur herstellung von durch photopolymerisation vernetzten reliefformen
JPS63158552A (ja) * 1986-12-23 1988-07-01 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の補造方法
JPH01159644A (ja) * 1987-12-16 1989-06-22 Fuji Photo Film Co Ltd 氎なし版甚珟像液
US4912021A (en) * 1988-02-03 1990-03-27 Hoechst Celanese Corporation Developer-finisher compositions for lithographic plates
US4873174A (en) * 1988-02-03 1989-10-10 Hoechst Celanese Corporation Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
DE3836404A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-03 Hoechst Ag Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
US4985337A (en) * 1988-11-15 1991-01-15 Konica Corporation Image forming method and element, in which the element contains a release layer and a photosensitive o-quinone diaziode layer
US5035982A (en) * 1989-07-14 1991-07-30 Eastman Kodak Company Aqueous developer composition for developing negative working lithographic printing plate
JP2748057B2 (ja) * 1991-07-22 1998-05-06 富士写真フむルム株匏䌚瀟 画像圢成方法及びアルカリ性珟像液
US6248503B1 (en) * 1997-11-07 2001-06-19 Agfa-Gevaert Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP2690497A4 (en) * 2011-03-24 2014-08-20 Nissan Chemical Ind Ltd POLYMERIC DEVELOPER

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1082016A (en) 1963-08-15 1967-09-06 Monsanto Co Polymers of n-vinyl-n-methylacetamide
DE1251532B (ja) * 1963-09-25
JPS4988603A (ja) * 1972-12-29 1974-08-24
GB1523877A (en) 1974-09-19 1978-09-06 Vickers Ltd Processing fo printing plates
JPS5344202A (en) * 1976-10-01 1978-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Developer composition and developing method
DE2809774A1 (de) * 1978-03-07 1979-09-13 Hoechst Ag Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten

Also Published As

Publication number Publication date
DE3063358D1 (en) 1983-07-07
EP0027932B1 (de) 1983-05-18
JPS5670548A (en) 1981-06-12
DE2941960A1 (de) 1981-04-30
ATE3473T1 (de) 1983-06-15
EP0027932A1 (de) 1981-05-06
BR8006657A (pt) 1981-04-22
CA1156085A (en) 1983-11-01
US4339530A (en) 1982-07-13
AU535273B2 (en) 1984-03-08
AU6270680A (en) 1981-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6410205B1 (en) Photosensitive recording material provided with a covering layer
JPS6320328B2 (ja)
US8771925B2 (en) Flexographic processing solution and method of use
US4873174A (en) Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
EP0013006B1 (en) Developer composition for lithographic printing plates
US4822723A (en) Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
US5316892A (en) Method for developing lithographic printing plates
US4851324A (en) Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH
JPH0451018B2 (ja)
JPH0141974B2 (ja)
EP0602736B1 (en) Aqueous developer for lithographic printing plates which exhibits reduced sludge formation
EP0602739B1 (en) Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
JPS645560B2 (ja)
US4780396A (en) Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant
US4912021A (en) Developer-finisher compositions for lithographic plates
US5279927A (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
JPH09235438A (ja) 画像コントラストの改良された氎性珟像可胜なネガ型の感光性組成物
JPH05216243A (ja) リ゜グラフ印刷芁玠のための単盞珟像液
EP0580532B1 (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
JPS6113218B2 (ja)
US5081003A (en) Developer compositions for newspaper plates
JP2000171984A (ja) 攟射線感受性組成物の珟像
JPH03234595A (ja) 平版印刷版甚版面保護剀
JPS6116058B2 (ja)
JPH0231375B2 (ja)