JPS6320488A - アモルフアス磁性金属の処理方法 - Google Patents
アモルフアス磁性金属の処理方法Info
- Publication number
- JPS6320488A JPS6320488A JP16386086A JP16386086A JPS6320488A JP S6320488 A JPS6320488 A JP S6320488A JP 16386086 A JP16386086 A JP 16386086A JP 16386086 A JP16386086 A JP 16386086A JP S6320488 A JPS6320488 A JP S6320488A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amorphous magnetic
- metal
- magnetic metal
- etching
- lapping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 abstract description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract description 2
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、アモルファス磁性金属の処理方法に係り、
特にラッピング処理後にエツチング処理を加えることに
よって、加工変質層をなくして電磁変換特性の向上を図
った。アモルファス磁性金属の処理方法に関するもので
ある。
特にラッピング処理後にエツチング処理を加えることに
よって、加工変質層をなくして電磁変換特性の向上を図
った。アモルファス磁性金属の処理方法に関するもので
ある。
耐摩耗性に優れ、加工精度が良好なフェライトが磁気ヘ
ッド材料として長（用いられてきたが、近年、メタル媒
体、蒸着媒体などの高抗磁力媒体の出現により、飽和磁
束密度が小さいゆえに書込能力に限界があるフェライト
に代わって飽和磁束密度がフェライトに比べて非常に大
きいメタル系材料１例えばアモルファス磁性金属が高抗
磁力媒体用の磁気ヘッド材料として用いられている。ア
モルファス磁性金属は、１０〜５０μｍ程度の薄い箔と
して製造されるので。
ッド材料として長（用いられてきたが、近年、メタル媒
体、蒸着媒体などの高抗磁力媒体の出現により、飽和磁
束密度が小さいゆえに書込能力に限界があるフェライト
に代わって飽和磁束密度がフェライトに比べて非常に大
きいメタル系材料１例えばアモルファス磁性金属が高抗
磁力媒体用の磁気ヘッド材料として用いられている。ア
モルファス磁性金属は、１０〜５０μｍ程度の薄い箔と
して製造されるので。
アモルファス磁性金属を磁気ヘッド材料として使用する
場合にはアモルファス磁性金属の両側に補強材を接合し
ている。アモルファス磁性金属を用いたビデオ用の磁気
ヘッドは２例えば次のような過程を経て製造されている
。すなわち。
場合にはアモルファス磁性金属の両側に補強材を接合し
ている。アモルファス磁性金属を用いたビデオ用の磁気
ヘッドは２例えば次のような過程を経て製造されている
。すなわち。
アモルファス磁性金属と補強材の複合体を分割してコア
ブロック半休を形成し、該コアブロック半休に巻線用溝
およびギャップを形成した後。
ブロック半休を形成し、該コアブロック半休に巻線用溝
およびギャップを形成した後。
該コアブロック半休同士を接合してコアブロックを形成
し、該コアブロックをスライスして一枚のアモルファス
磁性金属が二枚の補強材によって挟着された。いわゆる
サンドインチ構造のコアを形成した後、該コアに巻線を
装着したものである。コアブロック半体形成の基礎とな
るアモルファス磁性金属と補強材の複合体は。
し、該コアブロックをスライスして一枚のアモルファス
磁性金属が二枚の補強材によって挟着された。いわゆる
サンドインチ構造のコアを形成した後、該コアに巻線を
装着したものである。コアブロック半体形成の基礎とな
るアモルファス磁性金属と補強材の複合体は。
複数のアモルファス磁性金属と複数の補強材が交互に積
層接合されたものである。
層接合されたものである。
なお、アモルファス磁性金属と補強材の複合体として、
コアブロック半体形成の基礎となるもののほか、−枚の
アモルファス磁性金属が二枚の補強材によって挟着され
た。いわゆるサンドインチ構造のコア半休も含まれる。
コアブロック半体形成の基礎となるもののほか、−枚の
アモルファス磁性金属が二枚の補強材によって挟着され
た。いわゆるサンドインチ構造のコア半休も含まれる。
この場合。
コア半休の接合によってコアは形成される。いずれにし
ろ、積層接合の前に、所定の大きさに切断されたアモル
ファス磁性金属には回転定盤と研削砥粒による機械加工
、いわゆるラッピング処理がなされている。
ろ、積層接合の前に、所定の大きさに切断されたアモル
ファス磁性金属には回転定盤と研削砥粒による機械加工
、いわゆるラッピング処理がなされている。
ラッピング処理は、アモルファス磁性金属の表面を平滑
にするとともに所定の厚さを得るためなされているが、
湿式ラッピング処理（砥粒は酸化アルミニウムまたは炭
化ケイ素、砥粒径は５〜１０μｍ、加工力は大きい）で
あるため。
にするとともに所定の厚さを得るためなされているが、
湿式ラッピング処理（砥粒は酸化アルミニウムまたは炭
化ケイ素、砥粒径は５〜１０μｍ、加工力は大きい）で
あるため。
表面のあらさば０．５μ−と粗く、加工変質層は１〜５
μｍと大きい。このラッピング処理には。
μｍと大きい。このラッピング処理には。
表面が粗いため接着剤のぬれ面積が大きく、補強材との
接着強度が大きいという利点があるが。
接着強度が大きいという利点があるが。
その反面、加工変質層が大きいため電磁変換特性が悪い
という問題点がある。この問題点を解決するため、ラッ
ピング処理の代わりに機械的ボリシング処理（砥粒はダ
イヤモンド、砥粒径は０．５ μｍ、加工力は小さい）
が考えられる。
という問題点がある。この問題点を解決するため、ラッ
ピング処理の代わりに機械的ボリシング処理（砥粒はダ
イヤモンド、砥粒径は０．５ μｍ、加工力は小さい）
が考えられる。
機械的ボリシング処理によれば、加工変質層は０．０５
〜０．１μｍと小さく、電磁変換特性２例えば記録再生
出力は、ラッピング処理に比べて８ミリＶＴＲ用で約３
ｄＢ向上する。しかし、その反面２表面のあらさば０．
０３μｍと細かく１表面は鏡面になって接着強度は小さ
くなるので。
〜０．１μｍと小さく、電磁変換特性２例えば記録再生
出力は、ラッピング処理に比べて８ミリＶＴＲ用で約３
ｄＢ向上する。しかし、その反面２表面のあらさば０．
０３μｍと細かく１表面は鏡面になって接着強度は小さ
くなるので。
ラッピング処理の代わりに機械的ポリシング処理を到底
採用できない。
採用できない。
この発明は、このような従来技術の問題点を解決する目
的でなされたものである。
的でなされたものである。
（問題点を解決するための手段〕
上記問題点を解決するための手段を以下説明する。この
発明は、所定の大きさに切断されたアモルファス磁性金
属をラッピング処理した後にエツチング処理を加えたも
のである。
発明は、所定の大きさに切断されたアモルファス磁性金
属をラッピング処理した後にエツチング処理を加えたも
のである。
エツチング処理によって表面のあらさはそのままに、加
工変質層が除去される。
工変質層が除去される。
エツチング処理は、塩化第２鉄水溶液または王水＋塩酸
による化学的エツチング処理である。
による化学的エツチング処理である。
エツチング処理によって１表面は表面の凹凸がそのまま
の形で削り取られる。このとき、加工変質層も削り取ら
れて、加工変質層はなくなる。
の形で削り取られる。このとき、加工変質層も削り取ら
れて、加工変質層はなくなる。
このようにして得られたアモルファス磁性金属と補強材
の複合体は、以後の加工工程に耐える充分な接着強度を
有するとともに８係る複合体を使用した８ミリＶＴＲ用
の磁気ヘッドの記録再生出力は２図のＡのように、従来
のラッピング処理だけの磁気ヘッド（図のＢ）に比較し
て使用周波数帯域で約３ｄＢ向上した。
の複合体は、以後の加工工程に耐える充分な接着強度を
有するとともに８係る複合体を使用した８ミリＶＴＲ用
の磁気ヘッドの記録再生出力は２図のＡのように、従来
のラッピング処理だけの磁気ヘッド（図のＢ）に比較し
て使用周波数帯域で約３ｄＢ向上した。
以上説明してきたように、この発明は、ラッピング処理
後にエツチング処理を加えたものである。それゆえ９表
面のあらさはそのままに。
後にエツチング処理を加えたものである。それゆえ９表
面のあらさはそのままに。
加工変質層が削り取られる。したがって、この発明によ
れば、電磁変換特性は向上するという効果が得られる。
れば、電磁変換特性は向上するという効果が得られる。
図はこの発明と従来技術の周波数特性を示す図である。
Claims (1)
- １、所定の大きさに切断されたアモルファス磁性金属を
ラッピング処理した後にエッチング処理を加えたことを
特徴とするアモルファス磁性金属の処理方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16386086A JPS6320488A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | アモルフアス磁性金属の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16386086A JPS6320488A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | アモルフアス磁性金属の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6320488A true JPS6320488A (ja) | 1988-01-28 |
Family
ID=15782134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16386086A Pending JPS6320488A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | アモルフアス磁性金属の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6320488A (ja) |
-
1986
- 1986-07-14 JP JP16386086A patent/JPS6320488A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2554041B2 (ja) | 磁気ヘッドコアの製造方法 | |
| JPS638524B2 (ja) | ||
| JPS6238518A (ja) | 複合型磁気ヘツド | |
| JP2680750B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62102409A (ja) | 磁気ヘツドコア | |
| JPH04221408A (ja) | 積層型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPS62222412A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPH0223923B2 (ja) | ||
| JPS62246112A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2810820B2 (ja) | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0138723Y2 (ja) | ||
| JPH05217112A (ja) | 積層型磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0370282B2 (ja) | ||
| JPH0580724B2 (ja) | ||
| JPH0775048B2 (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS60185214A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS62159314A (ja) | 磁気ヘツド製造用複合材 | |
| JPS63108510A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH03194709A (ja) | 狭トラック複合型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2005346751A (ja) | 積層型磁気ヘッドの製造方法 | |
| WO2004019319A1 (ja) | 磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 | |
| JPS63288407A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS5948448B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH06215327A (ja) | 浮動型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0363907A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 |