JPS6238518A - 複合型磁気ヘツド - Google Patents
複合型磁気ヘツドInfo
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- JPS6238518A JPS6238518A JP17781885A JP17781885A JPS6238518A JP S6238518 A JPS6238518 A JP S6238518A JP 17781885 A JP17781885 A JP 17781885A JP 17781885 A JP17781885 A JP 17781885A JP S6238518 A JPS6238518 A JP S6238518A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
- G11B5/1872—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. compensation of "contour effect"
- G11B5/1874—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. compensation of "contour effect" specially adapted for composite pole pieces, e.g. for avoiding "pseudo-gap"
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はディスクファイル等の高周波信号の記録再生に
適した磁気ヘッドに関する。特に本発明は絶縁層を介し
て複数の磁性膜を基板上に積層してなシ高保持力媒体に
対して好適な複合型磁気ヘッドに関する。
適した磁気ヘッドに関する。特に本発明は絶縁層を介し
て複数の磁性膜を基板上に積層してなシ高保持力媒体に
対して好適な複合型磁気ヘッドに関する。
高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力Ｈｃを大きくすれば高密度記録に有利であることは
よく知られているが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を
記録するためには大きな浅部磁界が必要である。しかし
、現在の磁気ヘッドに用いられているフェライト材は、
その飽和磁束密度Ｂ、が３，８００〜５．２００Ｇ程度
であるため、得られる記録磁界の強さに限界があシ、磁
気記録媒体の保磁力Ｈｃが１００００．”を越える場合
には、十分な記録ができない欠点がある。一方、金属磁
性材料でよく知られるＦ６→Ｚ−Ｓ を合金（センダス
ト）Ｎｉ−Ｆｅ合金（パーマロイ）等の結晶質合金ある
いは、非晶質合金を用いた磁気ヘッドは一般にフェライ
トよシ飽和磁束密度が高く、かつ摺動ノイズが小さいと
いう優れた特性を有する。しかし、これらの金属磁性材
料をバルク材で使用した場合うず電流損失によシ数ＭＨ
ｚの高周波数領域での周波数特性がフェライトより低下
し、再生出力が低くなる欠点を有する。そこで、上記の
ような金属磁性材を薄膜として、基板上く形成し、かつ
該薄膜を絶縁層を介し積層した構成の磁気ヘッドが提案
されている。たとえば、第４図に従来の磁気へラドコア
の斜視図を示すが、コア部１が金属磁性薄膜を成膜する
基板部であシ、記録再生用の作動ギャップの両側２，２
′がスノ臂、夕等によって形成されＸ型に斜した金属磁
性材料からなる複合型磁気ヘッドが提案されている。し
かしこのようなヘッドの場合、製造工程においてはＣ，
Ｉコアを接合した後好ましくは２〜１０μｍの微少ギャ
ップ深さとなる様所定のギャップ深さまで加工した際、
図４（ｂ）Ｋ示すごとく巻線用のＣ窓を施された側（Ｃ
コア）の基板部１および磁性膜２とがギャップ部に対し
平行となり、たとえば基板部１と磁性膜２との相互間に
密着力が不足し空隙や段差が発生すると、擬似的なギャ
ップとして作用しいわゆる；ンター効来が発生し、記録
再生に支障がでる可能性がある欠点を有する。また、磁
性膜２のエーペックス部にスパッタ時の回り込み等の影
響で曲率半径をもったト長、りとなるためヘッド効率が
低くなる欠点があった。なお上記ヘッド構造以外に特願
昭５８−１０５８４６では上記コンタ−効果を防ぐため
に磁性膜を積層するフェライトのトラ、り部を複数個の
７字溝を設けたものや、円弧状の溝加工を施してコンタ
−効果を対策しようという提案もなされた。
磁力Ｈｃを大きくすれば高密度記録に有利であることは
よく知られているが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を
記録するためには大きな浅部磁界が必要である。しかし
、現在の磁気ヘッドに用いられているフェライト材は、
その飽和磁束密度Ｂ、が３，８００〜５．２００Ｇ程度
であるため、得られる記録磁界の強さに限界があシ、磁
気記録媒体の保磁力Ｈｃが１００００．”を越える場合
には、十分な記録ができない欠点がある。一方、金属磁
性材料でよく知られるＦ６→Ｚ−Ｓ を合金（センダス
ト）Ｎｉ−Ｆｅ合金（パーマロイ）等の結晶質合金ある
いは、非晶質合金を用いた磁気ヘッドは一般にフェライ
トよシ飽和磁束密度が高く、かつ摺動ノイズが小さいと
いう優れた特性を有する。しかし、これらの金属磁性材
料をバルク材で使用した場合うず電流損失によシ数ＭＨ
ｚの高周波数領域での周波数特性がフェライトより低下
し、再生出力が低くなる欠点を有する。そこで、上記の
ような金属磁性材を薄膜として、基板上く形成し、かつ
該薄膜を絶縁層を介し積層した構成の磁気ヘッドが提案
されている。たとえば、第４図に従来の磁気へラドコア
の斜視図を示すが、コア部１が金属磁性薄膜を成膜する
基板部であシ、記録再生用の作動ギャップの両側２，２
′がスノ臂、夕等によって形成されＸ型に斜した金属磁
性材料からなる複合型磁気ヘッドが提案されている。し
かしこのようなヘッドの場合、製造工程においてはＣ，
Ｉコアを接合した後好ましくは２〜１０μｍの微少ギャ
ップ深さとなる様所定のギャップ深さまで加工した際、
図４（ｂ）Ｋ示すごとく巻線用のＣ窓を施された側（Ｃ
コア）の基板部１および磁性膜２とがギャップ部に対し
平行となり、たとえば基板部１と磁性膜２との相互間に
密着力が不足し空隙や段差が発生すると、擬似的なギャ
ップとして作用しいわゆる；ンター効来が発生し、記録
再生に支障がでる可能性がある欠点を有する。また、磁
性膜２のエーペックス部にスパッタ時の回り込み等の影
響で曲率半径をもったト長、りとなるためヘッド効率が
低くなる欠点があった。なお上記ヘッド構造以外に特願
昭５８−１０５８４６では上記コンタ−効果を防ぐため
に磁性膜を積層するフェライトのトラ、り部を複数個の
７字溝を設けたものや、円弧状の溝加工を施してコンタ
−効果を対策しようという提案もなされた。
しかしながら、特願昭５８−１０５８４６に提案された
複合型磁気ヘッドにおいては、トラックに相当する基板
部が複数個の７字溝、あるいは円弧状の溝を設けられて
いるので狭トラ、り化に対して限界があること等の点で
難点がある。また前述した図４の場合、ヘッド完成時に
基板部（Ｃコア側）および磁性膜部がギヤ、グと平行と
な）、その部分で疑似ギャップの発生が認められ、ヘッ
ド効率が低下する。
複合型磁気ヘッドにおいては、トラックに相当する基板
部が複数個の７字溝、あるいは円弧状の溝を設けられて
いるので狭トラ、り化に対して限界があること等の点で
難点がある。また前述した図４の場合、ヘッド完成時に
基板部（Ｃコア側）および磁性膜部がギヤ、グと平行と
な）、その部分で疑似ギャップの発生が認められ、ヘッ
ド効率が低下する。
従って本発明の目的はＶ字型に形成された各コアがたが
いく対向しかつトラ、り幅もエーペックス部での曲率半
径を士１分削除した構造にしているため、疑似ギャップ
が実質的になく高効率の磁気ヘッドを提供するものであ
る。
いく対向しかつトラ、り幅もエーペックス部での曲率半
径を士１分削除した構造にしているため、疑似ギャップ
が実質的になく高効率の磁気ヘッドを提供するものであ
る。
本発明者等は、上記問題点に鑑み鋭意研究の結果、多層
磁性膜付後、ガラス等でトラック部をモールド保護した
のち、所定のトラ、り幅加工を施して図１（ａ）〜（ｄ
）Ｋ示す如く巻線を施すＣ型コアの磁性膜部のニーペッ
クス部の曲率部を十分削除すること、およびフェライト
のニーペックスがギヤ、ゾ深さ出し加工においてもギャ
ップと平行にならない領域までの以上二つの条件を十分
満足する様に磁性膜をギャップと平行に削除することに
よシ疑似ギャップを実質的に防止できることを発見し本
発明を完成した。
磁性膜付後、ガラス等でトラック部をモールド保護した
のち、所定のトラ、り幅加工を施して図１（ａ）〜（ｄ
）Ｋ示す如く巻線を施すＣ型コアの磁性膜部のニーペッ
クス部の曲率部を十分削除すること、およびフェライト
のニーペックスがギヤ、ゾ深さ出し加工においてもギャ
ップと平行にならない領域までの以上二つの条件を十分
満足する様に磁性膜をギャップと平行に削除することに
よシ疑似ギャップを実質的に防止できることを発見し本
発明を完成した。
すなわち、本発明の複合型磁気ヘッドは絶縁層７を介し
て複数の磁性膜が積層された１対の基板をギャップを介
して接合してなシ、前記磁性膜はトラ、り幅の部分を残
してＸ形に斜交しておシ、かつ前記段付は加工によシ疑
似ギャップを実質的に防止できるとともに良好な記録再
生特性を得ることを特徴とするものである＠ 〔実施例〕 本発明を以下の実施例によυ詳細に説明する。
て複数の磁性膜が積層された１対の基板をギャップを介
して接合してなシ、前記磁性膜はトラ、り幅の部分を残
してＸ形に斜交しておシ、かつ前記段付は加工によシ疑
似ギャップを実質的に防止できるとともに良好な記録再
生特性を得ることを特徴とするものである＠ 〔実施例〕 本発明を以下の実施例によυ詳細に説明する。
〔実施例１〕
第２図は本発明の磁気ヘッドの一実施例を概略的に示す
図である。磁気コア６の拡大図を第３図に示した。この
ヘッドはスライダー４と磁気コア６と埋込みガラス５と
からなシ、磁気コア６はスライダー４の２本のエアーベ
アリング面の一方の面に形成されたスリット中にガラス
等の材料でモールドにより固定されている。
図である。磁気コア６の拡大図を第３図に示した。この
ヘッドはスライダー４と磁気コア６と埋込みガラス５と
からなシ、磁気コア６はスライダー４の２本のエアーベ
アリング面の一方の面に形成されたスリット中にガラス
等の材料でモールドにより固定されている。
磁気コア６の１例の詳細な構造は第１図（＆）〜（ｄ）
に示す通シである。Ｍｕ−Ｚｎフェライト１上にスバ、
り法で形成された金属磁性膜２，２′と絶縁層７とが交
互に積層した構造となっている。金属磁性膜は例えばＦ
＠−Ａ１． Ｓ ｉ合金（センダスト）、Ｎ１−Ｆ・合
金（・（−マロイ）、Ｆｓ −８１合金等の高透磁率の
合金あるいはＣｏ−Ｚｒ系の非晶質合金をスバ、り等に
よシ形成することができる。また絶縁層はＴＩ 、 Ａ
ｔ２０５ 、８１０□のような非磁性絶縁体をスパッタ
等によシ形成することができる。１対の磁気コア部材の
１方であるＣコアのトラック部すなわち、第１図（Ｃ）
に示す様に磁性膜２をギャップと平行に段付けを施すこ
とによって第１図（ｄ）の点線に示すエーペックス部の
曲率部を十分削除しかつ、第１図（Ｃ）に示すように基
板のエーペックスがギャップ深さ出し加工においてギャ
ップと平行にならない領域まで削除する構造となりてい
る。
に示す通シである。Ｍｕ−Ｚｎフェライト１上にスバ、
り法で形成された金属磁性膜２，２′と絶縁層７とが交
互に積層した構造となっている。金属磁性膜は例えばＦ
＠−Ａ１． Ｓ ｉ合金（センダスト）、Ｎ１−Ｆ・合
金（・（−マロイ）、Ｆｓ −８１合金等の高透磁率の
合金あるいはＣｏ−Ｚｒ系の非晶質合金をスバ、り等に
よシ形成することができる。また絶縁層はＴＩ 、 Ａ
ｔ２０５ 、８１０□のような非磁性絶縁体をスパッタ
等によシ形成することができる。１対の磁気コア部材の
１方であるＣコアのトラック部すなわち、第１図（Ｃ）
に示す様に磁性膜２をギャップと平行に段付けを施すこ
とによって第１図（ｄ）の点線に示すエーペックス部の
曲率部を十分削除しかつ、第１図（Ｃ）に示すように基
板のエーペックスがギャップ深さ出し加工においてギャ
ップと平行にならない領域まで削除する構造となりてい
る。
金属磁性体としてセンダストを使用する場合、好ましい
組成はＡ１３〜７ａｔ％、Ｓｌが７〜１１ａｔ％および
Ｆｅが８２〜９Ｑａｔ％である。高透磁率を得る目的で
）−１４，５〜６．５ ａｔ％、Ｓ１８．Ｏ〜ｉｏ、５
ａｔｓ、Ｆｅ８３〜８７ａｔ％の組成のものがさらに好
ましい。また絶縁層としては５１０２が好ましい。本発
明の特徴は磁性膜部を前述の様に削除することによって
ギャップ深さ出し加工後も実質的にギャップ部と基板お
よび磁性膜とが斜交している点である。なお、磁性膜の
削除量は磁性膜厚が３μｍＸ３層なので４μｍ〜５μｍ
とした。
組成はＡ１３〜７ａｔ％、Ｓｌが７〜１１ａｔ％および
Ｆｅが８２〜９Ｑａｔ％である。高透磁率を得る目的で
）−１４，５〜６．５ ａｔ％、Ｓ１８．Ｏ〜ｉｏ、５
ａｔｓ、Ｆｅ８３〜８７ａｔ％の組成のものがさらに好
ましい。また絶縁層としては５１０２が好ましい。本発
明の特徴は磁性膜部を前述の様に削除することによって
ギャップ深さ出し加工後も実質的にギャップ部と基板お
よび磁性膜とが斜交している点である。なお、磁性膜の
削除量は磁性膜厚が３μｍＸ３層なので４μｍ〜５μｍ
とした。
この削除方法は研削、ラッピングによるいわゆる機械加
工や化学的に除去する方法があるが本実施例の場合機械
研削を採用した。なお研削に用いた砥石はダイヤモンド
砥石で結合剤はレジンである・砥粒径は２〜６μｍ１集
中度１００を用いた。
工や化学的に除去する方法があるが本実施例の場合機械
研削を採用した。なお研削に用いた砥石はダイヤモンド
砥石で結合剤はレジンである・砥粒径は２〜６μｍ１集
中度１００を用いた。
また絶縁膜厚は５ｓｏ２で厚さは０．０５μｍとした。
ス、ｐ４ツタによシ形成し九多層金属膜の透磁率を向上
させるためにＮ２等の不活性ガス中で４００℃〜８００
℃の熱処理を施す。好ましくは５００℃〜７００℃の温
度で０．３〜２時間、好ましくは０．５〜１時間行なう
。熱処理をガラスモールドと同時に行なってもよい。
させるためにＮ２等の不活性ガス中で４００℃〜８００
℃の熱処理を施す。好ましくは５００℃〜７００℃の温
度で０．３〜２時間、好ましくは０．５〜１時間行なう
。熱処理をガラスモールドと同時に行なってもよい。
以上のようにして得られたヘッドを第２図に示すスライ
ダーへ埋設しヘッドの電磁変換特性を調べた結果が第５
図である。この時の試験条件は以下の通シである。巻線
は銅製の３５μｍθ種ウレタンエナメルパラレルワイヤ
ーをバイファイラ２層巻に合計２８回巻線した。媒体は
Ｈｅ ６９９０６“の８０Ｃｏ−２ＯＮｉスパッタ媒体
を用いた。
ダーへ埋設しヘッドの電磁変換特性を調べた結果が第５
図である。この時の試験条件は以下の通シである。巻線
は銅製の３５μｍθ種ウレタンエナメルパラレルワイヤ
ーをバイファイラ２層巻に合計２８回巻線した。媒体は
Ｈｅ ６９９０６“の８０Ｃｏ−２ＯＮｉスパッタ媒体
を用いた。
磁気ヘッドの浮上量は０．２５１Ｉｒｎであった。第５
図かられかる様に本発明の磁気ヘッドは相対出力比で従
来品に較べ約１２チ向上している。この理由としては本
発明によれば段付は効果によって記録時にエーペックス
部よシ洩れる漏洩磁束が少なくヘッド先端部に急使な磁
界が発生しやすくなったため、すなわちヘッド効率が従
来品に較べ大幅に改良されたためと考えられる。当然な
がら本発明のヘッドにおいては疑似ギャップも見られな
かった。
図かられかる様に本発明の磁気ヘッドは相対出力比で従
来品に較べ約１２チ向上している。この理由としては本
発明によれば段付は効果によって記録時にエーペックス
部よシ洩れる漏洩磁束が少なくヘッド先端部に急使な磁
界が発生しやすくなったため、すなわちヘッド効率が従
来品に較べ大幅に改良されたためと考えられる。当然な
がら本発明のヘッドにおいては疑似ギャップも見られな
かった。
〔実施例２〕
ＮｉＯ： Ｍｎ０−３０ ： ７０ ｍｏｌ ％よシな
る非磁性基板（熱膨張係数１３１ Ｘ １０−’ ｄ＠
ｇ−’ ）の表面をダイヤモンド砥粒１μｍ径で鏡面に
研摩したのち、実施例１と同様な処理を行ないその上に
Ｃｏ Ｂ６，５Ｎｂ １０，５ Ｚｒ ＬＯの非晶質合
金磁性膜をスパッタにて成膜した。スバ、りは平板マグ
ネトロン型の装置を用い以下の条件によシ行なった。
る非磁性基板（熱膨張係数１３１ Ｘ １０−’ ｄ＠
ｇ−’ ）の表面をダイヤモンド砥粒１μｍ径で鏡面に
研摩したのち、実施例１と同様な処理を行ないその上に
Ｃｏ Ｂ６，５Ｎｂ １０，５ Ｚｒ ＬＯの非晶質合
金磁性膜をスパッタにて成膜した。スバ、りは平板マグ
ネトロン型の装置を用い以下の条件によシ行なった。
ターゲット １２６合金ターダ、トアルゴン圧
５ Ｘ Ｉ Ｑ Ｔｏｒｒ基板温度 １１０
℃ 電極間距離 １０８■ 磁性膜膜厚 ３ ＩｔｒｎＸ ３ ／ｉｌ絶縁層５
ｉｏ２は０．０５μｍであった。
５ Ｘ Ｉ Ｑ Ｔｏｒｒ基板温度 １１０
℃ 電極間距離 １０８■ 磁性膜膜厚 ３ ＩｔｒｎＸ ３ ／ｉｌ絶縁層５
ｉｏ２は０．０５μｍであった。
以上の方法によシ第１図に示す構造の磁気へ。
ドチッｆを作成した。トラック幅は１５μｍ、ギヤ、７
＃長は０．３１μｍであった。このヘッド評価結果実施
例１と同様疑似ギャップが見られず第５図に示す様に高
効率でありた。
＃長は０．３１μｍであった。このヘッド評価結果実施
例１と同様疑似ギャップが見られず第５図に示す様に高
効率でありた。
以上に詳述した効果は基板材が磁性あるいは非磁性であ
るかの如何によらず、また合金薄膜材の材質にもよらな
い広範囲に渡って効果を示す。
るかの如何によらず、また合金薄膜材の材質にもよらな
い広範囲に渡って効果を示す。
以上詳述した様に本発明の複合型磁気ヘッドにおいて多
層磁性膜が実質的にＸ型に斜交しているのみならず磁性
膜部のニー４．クス部も曲率半径を持たないので疑似ギ
ャップがなく高効率のへ。
層磁性膜が実質的にＸ型に斜交しているのみならず磁性
膜部のニー４．クス部も曲率半径を持たないので疑似ギ
ャップがなく高効率のへ。
ドを提供出来るという著しい効果をもたらす。
第１図（ａ） 、 （ｂ）は本発明の複合型磁気ヘッド
の概略図および上面図を示す。第１図（ｅ） 、 （ｄ
）は第１図（ｂ）の各断面図を示す。 第２図は本発明の磁気コアをヘッドに組立てた磁気ヘッ
ドの斜視図。第３図は第２図の磁気コア部の拡大図。 第４図（ａ） 、 （ｂ）は従来の複合型磁気ヘッドの
概略図および上面図を示す。第４図（ｅ） 、 （ｄ）
は第４図（ｂ）の各断面図を示す。 第５図は電磁変換特性の評価結果を示す。 １：基板、２．２’：磁性膜、３ニガラス、４ニスライ
ダー、５：埋込みガラス、６：磁気コア、７．７’：絶
縁層、８：ギャップ。 第１図 ×−ｘ町■ 第３図 ″Ｘ３ 第５図 書込電流 （ｍＡｐ−ｐ ） 昭和６０年 特訂願 第１７７８１、 発明の名称 複合型磁気ヘッド 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内二丁目１番２号名称 （５
０８）日立金属株式会社 補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄。 「発明の詳細な説明］の欄、および 「図面の簡単な説明」の欄。 補正の内容 別紙の通り 補正の内容 ■、明細内の１特許請求の範囲」の欄の記載を、下記の
如く訂正する。 記 「１．一対の基板上にユ高飽和磁束密度の合金磁性膜を
成膜しギュップを介して接合されかつ該磁性膜がＸ型に
斜交した形状を有する磁気ヘッドにおいて巻線を施すＣ
型コアの磁性膜部のエーペックス部にギャップ部と平行
に段付けを施すことによってエーペックス部の曲率部を
十分に削除した構造を特徴とする複合型磁気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッドにお
いて磁性膜をギャップと平行に削除する時、フェライト
のエーペックスがギャップ深さ出し加■においてギャッ
プと平行にならない領域までエーペックス部を削除した
構造を特徴とする複合型磁気ヘッドリ ■、明細書の「発明の詳細な説明」の欄の記載を次の通
り訂正する。 １、第２頁第１３行の「１０００００″」を［１０００
Ｑ ＃ ｅ Ｊに訂正する。 ２、第６頁第１８行のｒＦｃ −ＡＩ Ｓｉ合金」をｒ
ｒ”ｅ −ＡＩ−Ｓｉ合金Ｊ ｋ訂正ｆる。 ３、第８頁第１９〜２０行の「ト１ｃ６９９０ｅ Ｊを
「＠ ｃ６９９０ ｅ Ｊに訂正する。 ■、明細書の「図面の簡単な説明」の欄の記載を次の通
り訂正する。 １、第１１頁第１２行のｒ７，７’ ：絶縁層」を「
７：絶縁層」に訂正する。 以上
の概略図および上面図を示す。第１図（ｅ） 、 （ｄ
）は第１図（ｂ）の各断面図を示す。 第２図は本発明の磁気コアをヘッドに組立てた磁気ヘッ
ドの斜視図。第３図は第２図の磁気コア部の拡大図。 第４図（ａ） 、 （ｂ）は従来の複合型磁気ヘッドの
概略図および上面図を示す。第４図（ｅ） 、 （ｄ）
は第４図（ｂ）の各断面図を示す。 第５図は電磁変換特性の評価結果を示す。 １：基板、２．２’：磁性膜、３ニガラス、４ニスライ
ダー、５：埋込みガラス、６：磁気コア、７．７’：絶
縁層、８：ギャップ。 第１図 ×−ｘ町■ 第３図 ″Ｘ３ 第５図 書込電流 （ｍＡｐ−ｐ ） 昭和６０年 特訂願 第１７７８１、 発明の名称 複合型磁気ヘッド 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内二丁目１番２号名称 （５
０８）日立金属株式会社 補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄。 「発明の詳細な説明］の欄、および 「図面の簡単な説明」の欄。 補正の内容 別紙の通り 補正の内容 ■、明細内の１特許請求の範囲」の欄の記載を、下記の
如く訂正する。 記 「１．一対の基板上にユ高飽和磁束密度の合金磁性膜を
成膜しギュップを介して接合されかつ該磁性膜がＸ型に
斜交した形状を有する磁気ヘッドにおいて巻線を施すＣ
型コアの磁性膜部のエーペックス部にギャップ部と平行
に段付けを施すことによってエーペックス部の曲率部を
十分に削除した構造を特徴とする複合型磁気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッドにお
いて磁性膜をギャップと平行に削除する時、フェライト
のエーペックスがギャップ深さ出し加■においてギャッ
プと平行にならない領域までエーペックス部を削除した
構造を特徴とする複合型磁気ヘッドリ ■、明細書の「発明の詳細な説明」の欄の記載を次の通
り訂正する。 １、第２頁第１３行の「１０００００″」を［１０００
Ｑ ＃ ｅ Ｊに訂正する。 ２、第６頁第１８行のｒＦｃ −ＡＩ Ｓｉ合金」をｒ
ｒ”ｅ −ＡＩ−Ｓｉ合金Ｊ ｋ訂正ｆる。 ３、第８頁第１９〜２０行の「ト１ｃ６９９０ｅ Ｊを
「＠ ｃ６９９０ ｅ Ｊに訂正する。 ■、明細書の「図面の簡単な説明」の欄の記載を次の通
り訂正する。 １、第１１頁第１２行のｒ７，７’ ：絶縁層」を「
７：絶縁層」に訂正する。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一対の基板上は高飽和磁束密度の合金磁性膜を成膜
しギャップを介して接合されかつ該磁性膜がＸ型に斜交
した形状を有する磁気ヘッドにおいて巻線を施すＣ型コ
アの磁性膜部のエーペックス部にギャップ部と平行に段
付けを施すことによってエーペックス部の曲率部を十分
に削除した構造を特徴とする複合型磁気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項記載の複合型磁気ヘッドにお
いて磁性膜をギャップと平行に削除する時、フェライト
のエーペックスがギャップ深さ出し加工においてギャッ
プと平行にならない領域までエーペックス部を削除した
構造を特徴とする複合型磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17781885A JPS6238518A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 複合型磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17781885A JPS6238518A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 複合型磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6238518A true JPS6238518A (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=16037634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17781885A Pending JPS6238518A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 複合型磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6238518A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346104A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH0430308A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-03 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPH05290322A (ja) * | 1992-04-06 | 1993-11-05 | Hitachi Metals Ltd | 浮上式磁気ヘッド |
| JPH06162436A (ja) * | 1992-06-16 | 1994-06-10 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 複合型磁気ヘッド |
-
1985
- 1985-08-13 JP JP17781885A patent/JPS6238518A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346104A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH0430308A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-03 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPH05290322A (ja) * | 1992-04-06 | 1993-11-05 | Hitachi Metals Ltd | 浮上式磁気ヘッド |
| JPH06162436A (ja) * | 1992-06-16 | 1994-06-10 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 複合型磁気ヘッド |
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