JPS63206488A - m−ヒドロキシベンジルアルコ−ルの電解製造法 - Google Patents

m−ヒドロキシベンジルアルコ−ルの電解製造法

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JPS63206488A
JPS63206488A JP62039129A JP3912987A JPS63206488A JP S63206488 A JPS63206488 A JP S63206488A JP 62039129 A JP62039129 A JP 62039129A JP 3912987 A JP3912987 A JP 3912987A JP S63206488 A JPS63206488 A JP S63206488A
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JP
Japan
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cathode
nitric acid
soln
reaction
electrolytic
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JP62039129A
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English (en)
Inventor
Shinji Takenaka
竹中 慎司
Tatsu Oi
龍 大井
Chitoshi Shimakawa
千年 島川
Yasushi Shimokawa
下河 靖
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 皮粟上■剋里分立 本発明は、m−ヒドロキシベンジルアルコール(以下、
TI〜IIBOHと略記する)の製造方法に関するもの
である。
m−HBOHは工薬、あるいは農薬の中間体として有角
な化合物であるが、現状ではこれの安価な製造方法によ
る工業的供給には至っていない。
u11幻札 ■−HBOHの合成法として、m−クレゾールを原料と
する発酵法、m−ヒドロキシベンズアルデヒドルを原料
とするナトリウム・アマルガム、NaBHa、LiA 
I H4等による還元及び水素添加反応等があるが、収
率的に不十分であったりして、実用化には至っていない
、また、水素添加反応は高温高圧下の反応であり工業的
製造法には種々問題がある。
また、m−ヒドロキシ安息香酸(以下、鴎−HB^と略
記する)を原料とする方法については、ナトリウム・ア
マルガム及び電解還元法が提’l−(kricht  
381752(1905))されているが収率的にも低
く工業的方法にはなり得なかった。
本発明者らは、先にm−HBOI−1の製造方法につい
て検討し、m−HBAの電解還元を水溶液、あるいは水
可溶性有機溶媒中で行う方法、更に、陰極液中に支持電
解質を添加する方法で高収率でm−HBOIIをうる方
法も既に見出している(特開昭60−234987、特
開昭60−243293 > 。
更に、電解時に不活性化した電極の活性化法として陽極
の前処理法については知られている(電気化学便覧(丸
#)参照)が、陰極についての記載は特にない。しかし
ながら、上記便覧を参考にして、例えば、鉛を前処理す
る方法として、(1)過塩素酸−無水詐酸一水(35:
 63 : 2)中で電解研摩する方法、(2)過酸化
水素−酢酸(20:80)中5〜10秒間化学研摩する
方法、等が従業されている。
しかしこれらの方法は実験室的に小スケールで実施する
には便利であるが、工業的に実施するには取扱う物質、
操作面で実施困難な方法である。
、FIがlしようとする間 占 本電解反応において用いる陰極材料は水素過電圧の高い
もの、具体的には亜鉛、鉛、カドミウム、水銀あるいは
それらの合金が用いられる。又、電解還元を再現性良く
行ううえで、陰極表面はつねに電極本来の活性を保って
おく必要がある。
しかし、本電解反応を工業的に実施する上で長期間活性
を維持することは容易ではない0例えば本電解反応は酸
性水溶液中で行われるため、反応中に酸に不安定な−−
HBAとm−118OHの分解が避けられず、タール状
の分解物が副生じ、−都電極表面に付着し、電極活性が
低下する。
その問題点に関しては既に反応液中に界面活性剤を仕込
んで電解を行うことで電極へのタールの付着を防ぐ方法
(特願昭6l−226134)、あるいは定期的にアル
コール系の溶媒で洗浄する方法(特願昭61−3014
70 )を実施することで、ある程度長期間の運転が可
能となった。しかし、本電解反応をさらに長期間すなわ
ち数ケ月単位で運転を継続すると電極活性は徐々に低下
し、上記方法では回iuしないことがわかった。
本発明の課題は長期に効率良く電解反応を行ううえで、
陰極が不活性化した場合、簡便に陰極の活性を回復させ
る方法を提供することである。
ル 占を”°するための手r 本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行い
、電解反応を工業的に長期間運転するに際して、陰極が
不活性化した場合、陰極室に硝酸水溶液を仕込み、一定
時間撹拌洗浄することで電解槽より、電極を取り出すこ
となく陰極の活性化が簡便に行えることを見出し本発明
を完成した。
即ち、本発明はm−ヒドロキシ安息香酸を酸性水溶液中
で電解還元し、m−ヒドロキシベンジルアルコールを得
る反応において、電解反応終了後に電解槽内を硝酸水溶
液で洗浄することを特徴とするm−ヒドロキシベンジル
アルコールの製造法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において、酸性水溶液としては、陰極での電解反
応に不活性な酸性物質であれば、特に限定するものでは
ないが、コスト的に通常鉱酸を用いるのが望ましく、特
に材質及び収率の点から硫酸が好ましい鉱酸であり、通
常5〜30重量%の硫酸水溶液が用いられる。
m−ヒドロキシ安息香酸の硫酸水溶液中の濃度は通常5
〜20重量%である。
本発明に用いる陰極活性化のための硝酸水溶液としては
、硝酸の含量が0.1〜30重量%、好ましくは0.5
〜10重量%の水溶液を用い、陰極室に仕込んで1〜5
0時間撹拌する。陰極活性化に際して、陽極側は、特に
同時に液を仕込んで撹拌する必要はないが、陰極液の撹
拌による膜のブレを防止するため通常、水あるいは通常
の電解液を仕込み撹拌するのが好ましい。
陰極の硝酸水の洗浄による活性化する時期は任意であり
、1バツチ毎に毎回洗浄活性化しても良いが、反応の効
率化を計るために20〜40バツチ毎に1回、好ましく
は25〜35バツチ毎に1回の割合で活性化するのが最
も効率的である。又活性化に要する硝酸水の量は陰極全
体が液中に浸るだけの適宜な量で良い。
本発明方法において、電解還元反応は20〜70°Cの
温度範囲で実施する。又電解に用いる電極のうち特に陰
極材料は水素過電圧の高いもの、具体的に亜鉛、鉛、カ
ドミウム、水銀を用いる。対する陽極については、通常
の電極材料であれば特に限定しない。
イオン交換隔膜により、陽極室、陰極室を隔離すること
が好ましい。隔膜の材質としては、アスベスト、セラミ
ックス、シンタードグラス等が使用できる。
本発明の電解還元において、電流密度は好ましくは5〜
30^/drdである。理論的には4電子還元であり、
4Fr/mole通電量であるが電流効率は50〜70
%である為、反応を完結させるには5〜8Fr/mol
e電気量を通す必要がある。
作用及び効果 m−ヒドロキシ安息香酸を酸性水溶液中で電解還元して
m−ヒドロキシベンジルアルコールを得る場合、工業的
に長期に運転を行うと陰極の活性低下を生じ、効率の低
下を招き問題となる。
本発明の方法では電解槽より陰極を取り出すこともなく
、槽に硝酸水溶液を注入し筒便に陰極を洗浄する事によ
り活性を取り戻すことができ、工業的Cζ極めて価値あ
るものである。
尖旌班 以下、実施例により本発明の方法を詳しく説明する。
実施例1 両極室とも300 dの容置を有し、隔膜としてセレミ
オンCMV (旭硝子(株)の商品名の陽イオン交換膜
)で隔離された夏1型の電解セルを使用して、両極室に
10%の硫酸水溶液を200dづつ仕込む。
陰極として50cmの鉛板、陽極として50CIjの白
金板を用いた。電解セルを60°Cに保ちつつ、6Aの
直流定電流を通電しつつ、麟−HBA 25gをマイク
ロフィーダーを用いて6g/時間の割合で陰極液中に添
加し、4.2時間でm−HBAを全量添加した。この後
更に電解を0.8時間継続した(6.2Fr/5ole
)、電解終了後、陰極液は抜き取った後、再び10%硫
酸水溶液200 dを仕込んで、引続き第2バツチ目の
反応を第1回目と同様に行った。抜き取った陰極液は液
体クロマトグラフィー(IILC)で分析を行った。
反応は5バツ千目を終えた時点で、陰極槽に200dの
メタノールを仕込み、室温で1時間かきまぜた。メタノ
ールは抜き取り、再び10%硫酸水ン容液を加えて、引
続き実験を行った。メタノール洗浄は5バツチごとに行
い、合計30バッチ反応を続けた。
そこで陰極槽に5%硝酸水を200 ml仕込み室温で
5時間かきまぜ、陰極の洗浄、活性化を行った。
硝酸水は抜き取り、再び10%硫酸水溶液を加えて引続
き実験を行った。同様にメタノール洗浄は5バツチごと
に行い、さらに30バツチ目に陰極の硝酸洗浄活性化を
行った。同様の操作を繰り返し合計で120バンチ反応
を行ったが、電流効率、5HB011収率に顕著な低下
は見られなかった。120バンチの平均電流効率60.
7%、平均5−IIBOH収率91.9%であった。
比較例1 硝酸水洗浄による陰極活性化を行わなかった以外は実施
例と同様の実験を60バツチ連続で行った電流効率及び
n+−HBOH収率は35バツチ目では顕著な低下は見
られず、35バツチ目までの平均電流効率60.5%、
平均−〇BOH収率90.2%であった。しかし40バ
ツチ目をすぎたあたりから電流効率が低下し、50バツ
チ目において電流効率45.1%、m−IIBOH収率
65.2%であった。また60パツト目においては電流
効率21.9%、m−HBOH収率3061%まで低下
した。
発浬Iυ伽栗 実施例と比較例の結果から明らかな通り、m−JIBA
の電解還元による■−118OHの製造において陰極の
硝酸水溶液洗浄による活性化を行わない比較例の方法に
比べ、数十バッチごとに洗浄を行った場合には反応の繰
り返しによっても電流効率、および5−HBOH収率と
もほとんど低下することがない。
すなわち、電解槽の洗浄を行わないで反応を続けた場合
、電流効率が低下し、工業的なm−1111Aの電解還
元プロセスとしては成り立たなくなる。しかし各バッチ
の途中、陰極の硝酸水溶液による洗浄工程を入れること
で本電解反応が長期に安定した運転が可能になった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)m−ヒドロキシ安息香酸を酸性水溶液中で電解還
    元し、m−ヒドロキシベンジルアルコールを得る反応に
    おいて、電解還元反応を行う前に陰極を硝酸水溶液で洗
    浄することを特徴とするm−ヒドロキシベンジルアルコ
    ールの製造法。
  2. (2)硝酸水溶液が硝酸の含量0.1〜30重量%の水
    溶液である特許請求範囲第(1)項記載の方法。
JP62039129A 1987-02-24 1987-02-24 m−ヒドロキシベンジルアルコ−ルの電解製造法 Pending JPS63206488A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60243293A (ja) * 1984-05-16 1985-12-03 Mitsui Toatsu Chem Inc m−ハイドロオキシベンジルアルコ−ルの製造法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60243293A (ja) * 1984-05-16 1985-12-03 Mitsui Toatsu Chem Inc m−ハイドロオキシベンジルアルコ−ルの製造法

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