JPS6320703B2 - - Google Patents

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JPS6320703B2
JPS6320703B2 JP58224587A JP22458783A JPS6320703B2 JP S6320703 B2 JPS6320703 B2 JP S6320703B2 JP 58224587 A JP58224587 A JP 58224587A JP 22458783 A JP22458783 A JP 22458783A JP S6320703 B2 JPS6320703 B2 JP S6320703B2
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JP
Japan
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transfer material
metal
varnish
substrate
manufacturing
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JP58224587A
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Uirapuriinyo Oriba Enritsuku
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YUUROGURAFUITSUKUSU HOORUDEINGU NV
Original Assignee
YUUROGURAFUITSUKUSU HOORUDEINGU NV
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Publication date
Application filed by YUUROGURAFUITSUKUSU HOORUDEINGU NV filed Critical YUUROGURAFUITSUKUSU HOORUDEINGU NV
Publication of JPS59106956A publication Critical patent/JPS59106956A/ja
Publication of JPS6320703B2 publication Critical patent/JPS6320703B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般的にいえば、基板に特殊の金属
化を施した製品を製造する加工法に関するもので
ある。基板は、その形状は膜状あるいはシート状
でよく、材料は紙、ボール紙、木、プラスチツ
ク、その他いろいろのものでよい。基板には、特
別の処理や研磨を必要とすることなく、高度に光
沢のある、滑らかな、且つ磨かれた鏡状の金属外
観が与えられる。
この技術分野においては、膜状およびシート状
の基板の表面を金属化するためのものとして、幾
多の加工法が知られている。そのうちの１つの加
工法は、溶剤を基にした接着剤或いは重合による
接着剤を用いることによつて基体の上に金属箔を
積層することを含んでいる。この加工法はふつう
たわみ易い材料を金属化するのに用いられ、使用
される金属の最もふつうのものはアルミニウム箔
である。この加工法は金属箔が１ミクロン以上の
厚さであることが要求される。これにより薄い箔
を用いることは、量産ベースでは不可能であり、
ただ少量バツチ生産のときにのみ可能である。鏡
状の仕上げを得るためには、金属箔は磨き上げて
おかなければならない。最終製品の光沢と仕上げ
は、基体に依存するのではなく、むしろその箔に
与えられた光沢と仕上げに依存する。
従来知られているもう１つの加工法は、非常に
微細な金属粉末を結合剤中に分散させることとそ
の粉末を含む結合剤を金属化すべき表面に展延す
ることから成り立つている。更に他の金属化加工
法は化学的な沈澱および電解手段によつて実行さ
れる。これらの加工法においては、金属化された
表面の光沢および仕上げは基体の光沢と仕上げに
依存する。
高度の光沢と鏡のような仕上げは基体材料が光
沢があるとき、たとえばプラスチツク皮膜或いは
磨かれた表面であるときに得られる。基体が滑ら
かでないときは滑らかな仕上げは得られない。し
たがつて、これらの加工法においては、光沢と仕
上げは使用される金属の光沢や仕上げではなくむ
しろ基体の光沢や仕上げに依存する。
更に別のよく用いられる加工法は、蒸気化した
金属を金属化すべき基体上に凝縮させる真空金属
化法である。この加工法は容器に容れ10-3から
10-4トル程度の高真空に保つ必要がある。この加
工法はガスを出さない材料或いは湿気、可塑剤、
レジンなどのような蒸発し易い物質を含まない材
料に限定されることは明らかである。この加工法
の不利な点は、蒸気化された金属が凝縮しようと
する表面の粗さを平滑化しないので、出来上つた
面がふつうやや粗いということである。紙のよう
な基体の仕上げを良くしようとするには、その紙
基体を予め磨くか予めワニスを塗つて置くことが
必要である。ある例では、鏡のような面を作るの
には基体を予め処理して置くことだけでは不充分
で、その基体表面を高温でつや出しするもう１つ
の工程を必要とする場合するある。この余分の工
程は仕上げられた製品のコストを極めて高くす
る。
更に又、この加工法が紙やボール紙のような実
質的にガスを出す材料に用いられるときは、この
紙やボール紙に含まれている空気や水分によつて
起される箱の中の真空度の損失に打克つために
は、高真空度の得られる真空金属化装置が必要と
なる。或る例では、金属化に先立つて材料のガス
出しが必要となる。
さらに、本願のように転写材上に金属粒子を蒸
着しそれを基体上に転写する方法が知られてい
る。しかしながら従来の方法は金属粒子の蒸着性
を高めるために転写材表面をあらかじめ荒したり
また剥離層その他の層を形成する等の処理を行な
うため工程が複雑になり、また金属粒子の蒸着量
が多いため、本願のように極薄の金属層の形成が
困難であり、従つて金属材料の節約が出来ない。
本発明の加工法およびこの方法によつて得られ
る製品は、基体あるいは金属の平滑さとは無関係
な滑らかな鏡のような表面を、転写材や基体を予
備処理することなく又基体を真空にさらすことも
なく得られることに向けられている。
一般的にいえば、本発明によれば、基体を金属
化する加工法が提供される。本発明を実行するに
当つては、金属粒子の極めて薄い被膜が微細に仕
上げられた未処理の転写材の上に剥離層その他の
層を介することなく直接堆積される。ワニスの薄
い被膜が基体か転写材のどちらかに施される。転
写材と基体はワニスが硬化する前に一緒に積層さ
れる。金属粒子はその厚さが極めて薄いためワニ
スの被膜の中に容易に吸収されるか埋め込まれ、
これによつて基体に鏡のような金属仕上げの外観
を与える。ワニスが硬化した後、転写材と基体は
分離される。転写材は次の加工に再使用すること
もできる。
したがつて本発明の目的は、金属箔の積層より
実質的に薄く且つはるかに軽量の金属被膜をを持
つた基体を生産する方法を提供し、これにより金
属から被覆された基体を非常に多量に生産し且つ
材料のコストを非常に低下させることにある。
本発明の他の目的は、金属箔と同じく鏡のよう
な光沢を有し且つ箔の積層よりは実質的に経済的
な、金属被膜の基体を生産するための加工法を提
供するにある。
本発明のさらにもう１つの目的は、時の経過と
共に外観が黄ばんだり変色したりすることがない
金属箔に近い化学抵抗を有していて、摩耗に耐
え、たわみ性があり、且つ硬くて、多種の生産工
程や印刷工程に耐え、且つ表面に印刷可能な金属
被覆基体を生産する方法を提供するにある。
本発明の更に他のもう１つの目的は、赤外線を
反射し可視線や紫外線を遮つて食物の包装に適し
ており、箔のように比較的不透性であり、更に印
刷機械でラインに載せて製造可能であるような金
属被覆基体を生産する方法を提供するにある。
本発明の別の目的は、屈曲してもひび割れがな
い、ワニスおよび金属で被覆した基体を生産する
方法を提供するにある。
本発明の他のいくつかの目的は、次の詳細な説
明を一読すれば明らかになるであろう。
次に図面を参照して説明する。
第１図は本発明による金属で被覆した基体を製
造するための加工法のフローダイヤグラムを示し
た図である。光沢のある磨きの掛つた表面を持つ
ている未処理の平滑な転写材２０が金属化される
のである。転写材は、製品に最終的な表面を与え
るので、微細に仕上げて置かなければならない。
又転写材は金属粒子に対して、使用されるべきワ
ニスよりも弱い粘着力を持つている必要がある。
本発明の方法においては、前記のような転写材で
表面が未処理のものを使用し、剥離層その他の層
をもうけないで金属粒子を直接転写材表面に蒸着
することが極めて重要である。転写材の表面が未
処理であり剥離層等をもうけないため金属粒子の
付き過ぎが抑制され、極めて薄い金属層が得ら
れ、ワニスへの移転、埋没、固定が容易であり、
また金属材料が大巾に節約できる。剥離層等をも
うけないため、さらに蒸着工程において剥離層等
から発生する水蒸気、ガス等による悪影響が存在
せず、また工程が簡単になり、作業時間およびコ
ストが節約できるとともに、転写材の再使用が容
易になる。転写材２０として適切な材料としては
未処理のポリプロピレン、ポリエステル、ポリエ
チレン、ポリ塩化ビニール、ポリアミド、以上の
材料の組合せ、および再生セルローズなどが特に
挙げられるが、二軸延伸ポリプロピレンフイルム
が、その剥離性と再使用可能性等の点につき最も
優れている。転写材２０は次に２２において、真
空金属化技術、化学的沈積技術、および他の被覆
技術のような公知の加工法による金属粒子の堆積
によつて金属化されるが、真空蒸着法が最も良好
な結果をもたらす。この金属化は、転写材２０上
に剥離層またはその他の層を介さないで直接行な
われる。堆積に適した金属としてはアルミニウ
ム、銅、銀、ニツケル、錫、白金、金、これら金
属の合金、および他の蒸気化し易い金属が挙げら
れる。堆積される金属の量は堆積された金属粒子
が極めて薄い層を作るよう監視される。堆積され
た粒子は光の波長より実質的に短い厚さ、例えば
1000オングストローム以下、好ましくは500オン
グストローム以下を有し、又可視光線の波長より
実質的に短い空間（層の厚さによつてこのような
空間或いは金属被覆の孔が起る場合に）を有して
いる。したがつて、光線は金属状表面から殆んど
完全に反射され、金属上表面は連続的に見え、完
全に鏡のような金属状表面を呈する。
転写材２０が２２で金属堆積の工程を施されて
いる間に、基体２４が用意される（これらの工程
は同時に行う必要はない）。基体は、最終的には
金属粒子で被覆されるものであるが、膜またはシ
ートの形をしていてよく又表面は粗でも滑らかで
もよい。基体として適当なものとして紙、ボール
紙、木材、革、プラステイツク、および実際にワ
ニスで被覆することのできるすべてのシート材料
が挙げられる。基体２４は２６で薄いワニスの被
膜で被覆される。この工程に用いられるワニスと
してはポリウレタン硬化レジンまたは照射架橋性
レジンが最も適当である。ワニスは、滑らかな鏡
のような表面を転写材と共同して作るための運搬
体として役に立つと共に、工程２２において堆積
された金属粒子を転写材２０から基体２４に移し
その粒子をワニスの中に吸収する粘着材として役
立つものである。ワニスは又基体２４の表面を平
にならし滑らかにするのに役立つている。ワニス
は基体に粘着するが転写材２０には粘着しないこ
とが本発明の特徴である。
もう１つのやり方として、ワニスの被覆を転写
材２０の上に堆積された金属粒子の上に施しても
よい。この別法が好ましいか他の方法が好ましい
かは経験的にみてワニスと基体の如何によつてき
まるものであるが、この別法は基体にワニスを塗
る場合に作られるものと実質的に同じ完成品を作
り出す。この別法は第１図において工程２２から
工程２６に至るフロー線として示されている。
金属粒子を転写材２０の上に堆積する工程２
２、および基体２４もしくは転写材２０の被覆工
程２６のあと、積層工程２８が行なわれる。工程
２８はワニスが硬化する機会を持つ前に行なわれ
る。積層工程２８においては、基体２４は転写材
２０の金属を被覆した表面と接触させられる。こ
の工程は基体２４と転写材２０を単一のロールで
少し圧力を掛けてロールすることによつて実施す
ることが好ましい。この工程は従来の積層法と同
じである。ワニスは金属粒子を転写材２０から基
体２４に移す。ワニスは金属粒子を吸収し、そし
て一たび引き離されると転写材２０の滑らかな表
面特性を引き受ける。
積層された基体２４と転写材２０は、工程３０
で空気乾燥又はふつうの硬化処理により硬化され
る。ワニスが一旦固まるか、乾燥されるか、或い
は重合すると、ワニスは転写材には結合せず基体
２４に強く結合する。硬化工程３０は自然のまま
にまかせてもよく、熱するか放射線にさらすかし
て促進してもよい。ワニスが照射架橋性レジンで
ある場合は、もつぱら紫外線または電子線を照射
して硬化させる。この場合は、硬化時間大幅に短
縮され、硬化工程３０で硬化した後、分離工程３
２が行われる。転写材２０と基体２４は２つの分
離したローラの上に分れ（たわみ易い膜の場合）、
そしてこの点において、ワニスとそれが吸収した
或いは抱えこんだ金属粒子が基体２４に粘着させ
られる。３２で分離したあと、転写材２０は非常
に多数回再使用され、これによつて極めて経済的
な利益をもたらすものである。
仕上り製品３４は、滑らかな、鏡のような、金
属状を呈する被膜を有する基体から成立つている
が、この被膜は、金属粒子間のいかなる隙間ある
いは空間も光を少ししか透過させないので（すな
わち30％以下、好ましくは20％以下）、連続的で
且つ滑らかな外観を呈している。ワニスは基体２
４の全表面に拡げる必要はなく、むしろいろいろ
なパターンでほんのある部分だけに分配できれば
よい。このように基体２４のある部分だけが金属
状の光沢を持つようになる。仕上り製品３４はい
ろいろの他の工程、たとえば切断、打出し、染料
スタンプ、切開、および、オフセツト、ロートグ
ラビヤ、フレクソグラフイツク、絹紗スクリン捺
染法などの印刷システムによる金属化表面へのプ
リントなどのようないろいろの工程に付せられ
る。
上述したように、本発明の方法は、真空蒸着等
において、転写材の未処理表面に対しては十分な
厚さの金属被膜の形成が困難であるという従来技
術の問題点を逆に利用して、この点と一層のワニ
スによる分散、接着、固定および平滑表面を有す
る転写材からの転写による平滑光沢表面の形成と
いう三つの要素を組合せることにより、前述した
従来技術の種々の問題点を解決したものである。
この目的のために、転写材として未処理の二軸延
伸ポリプロピレンフイルムを使用し、真空蒸着に
より転写材上に剥離層その他の層を設けないで直
接1000オングストローム以下の出来る限り薄い金
属被膜を形成することにより、転写材からの剥離
および転写の容易化、金属材料の節約ならびに製
品の軽量化をはかるとともに、転写材上に形成さ
れたその金属被膜を、一層のポリウレタン硬化レ
ジンまた照射架橋性レジンワニス塗膜と接触させ
て金属粒子をワニス中に埋没、分散させた上任意
の基体上に圧着転写、固定することにより、基体
の種類、性状、表面の処理、未処理の別および平
担度に関係なく、完全に平担かつ平滑で充分な強
度を有する鏡状の金属光沢表面を形成することを
可能にする。また一層のワニス塗膜のみで金属薄
膜の接着、固定、表面の形成、補強および転写材
からの剥離等の作用をなすので、工程および塗布
材料を著しく節約することができる。さらに、転
写材からの剥離が完全に行われるので、転写材を
何度もくり返して使用することができ、コストが
さらに低減できる。
上記に、金属を被覆した基体の製造のための加
工法の種々の工程および工程の相互間関係につい
て述べたが、各工程の装置や加工法につきこれか
ら更に詳しく説明する。
第２図は金属粒子を転写材２０の上に堆積する
工程２２を実行するための好ましい実施例の概略
を示したものである。金属被覆表面を作り出す最
も効果的な形態は、転写材２０がローラ装置から
供給される長い膜状材料の形をしているときであ
る。転写材２０はふつうの真空室３６内に供給さ
れる。真空室３６内には転写材２０の上に堆積す
べき金属（たとえばアルミニウム）の貯蔵器３８
が多数設けられている。貯蔵器は一様な被覆を与
えるのに充分な数だけ（たとえば75cm幅の膜材に
対し、幅１cm長さ7.5cmの貯蔵器10個）用意され
ている。各貯蔵器３８は液化温度まで（たとえば
アルミニウムに対し1500℃）に加熱され、膜材は
水冷ローラ４０により室温に保たれ、貯蔵器３８
上を約15cm通過する。転写材２０が真空室３６を
通過すると、液状金属により発せられた金属蒸気
３９は、温度差によつて転写材の方に移り、３
９′のところで凝縮する。転写材２０の膜の速度
は、貯蔵器の温度も同様であるが、この膜材に凝
縮により堆積される金属が好ましくは転写材２０
上の約500オングストロームよりは薄い厚さを持
つように連続的に調整される。この極端に小さい
膜厚（深さ）は金属材料の使用を最小限にするこ
とを可能とするが、加工の最後において、ワニス
仕上げのために完全に金属化された連続的な金属
面の外観を与える。真空堆積処理の制御は、適当
な電子的又は機械的手段によつて、堆積速度が常
に監視されそれが種々の加熱電極および膜状転写
材２０の供給速度の制御用に帰還されるような形
で行われる。
第３Ａ図および第３Ｂ図はワニス被覆工程２６
を示したもので、第３Ａ図は基体の表面を平らに
するためにワニスを用いるところを、第３Ｂ図は
使用されるべきワニスの量を決定する方法をそれ
ぞれあらわしたものである。
第３Ａ図を参照して、先に示したように、基体
２４は材料さえ適当なら表面は粗くても平滑であ
つてもよい。ワニス被覆は、すべての型の表面に
均一の鏡のように滑らかな被覆を与え、又基体２
４の表面上に存在する如何なる間隙をも充満する
ので、予備調整を必要としない。このことは第３
Ａ図に示されていて、基体２４はワニス４２で被
覆されており、このワニスは基体２４の不規則な
表面を完全に滑らかにしている。
次に第３Ｂ図を参照すると、一般的にいえば、
基体２４の表面が粗であればある程、或いは吸収
性であればあるほど、より多量のワニスが必要と
なる。この必要量は経験的に次のようにして行わ
れる。すなわち基体２４の試験試料を用意し、こ
れを傾けておき、それから傾いた基体２４の上に
一滴のワニス４２を垂らし、流れ落ちた距離Ａを
測定する。そして基体２４の代りにガラス片４４
で同じような試験を行う。それから流れ落ちた距
離Ｂが測定される。ガラス４４を適当に被覆する
のに必要なワニス４２の既知量から、基体２４を
被覆するワニス４２の量が決定される。ワニス４
２は基体２４或いは転写材２０上に既知の手段に
よつて被覆されるが、浴槽に侵す方法は好ましい
ことが見出されている。ワニスの被覆は谷部を満
たし丘陵部の頂き２４′に達するに足る量さえあ
ればよい。
第４Ａ図および第４Ｂ図は、金属を堆積した転
写材２０と基体２４との積層、およびそのときの
ローラの圧力と直径の関係をそれぞれ示してい
る。基体２４と金属の堆積した転写材２０の各膜
材は、一対のローラ４６と４８の間で面と面が相
対して一しよに運ばれる。ローラ４６はたとえば
シヨア硬度約75のゴムローラであり、ローラ４８
は適当に硬いローラ、たとえばクロームを被覆し
た或いはステンレススチール製のローラであつて
よい。ローラ４６と４８のに圧力が掛けられて、
基体２４を金属の堆積した転写材２０に積層す
る。積層工程は被覆工程２６および堆積工程２２
のあとに連続する工程で、ワニス４２が硬化する
か凝固するまでに実行される。ローラ４６と４８
の間に加えられる圧力は、第４Ｂ図に示すよう
に、ローラの直径に反比例する。圧力―直径の組
合せの１例としては、５Kgから６Kgの圧力と、ロ
ーラ４６の約110cmの直径との組合せがある。基
体２４と転写材２０は、ローラ４６と４８を出る
と、巻取りローラ５０のまわりに巻かれ、巻きと
られてしまうと硬化のために外される。
硬化工程３０は巻かれている状態で約24時間行
われるか、或いは他のワニスを用いるか、或は加
熱するか放射線にさらすかして硬化を促進しても
よい。上に示したように、ワニス４２が固まる
と、転写材２０上に堆積される金属粒子（詳細は
第４Ａ図を見よ）は基体２４上のワニス４２によ
つて完全に捕えられる。重要なことであるが、ワ
ニス４２は転写材２０の滑らかな表面を引受け、
これが本加工法によつて得られる鏡のような仕上
りに対する最も重要な点である。しかしながら、
ワニス４２と転写材２０の間には如何なる種類の
結合も行われず、転写材は40回以上の再使用がで
き、これによつて本加工法は極めて経済的にな
る。
第５図は以上のようにして出来た金属化した基
体を転写材から分離する工程を示した図である。
ローラ５１は相接して並列するローラ５２と５４
に接触するように置かれる。接ローラ５２は転写
材２０をはがすが、この転写材は金属被覆を基体
２４上のワニス層にすでに移してしまつて今はも
う全く有していない。したがつて、接ローラ５４
は基体２４、金属粒子３９′、およびワニス４２
をはがすが、この基体のワニスには金属粒子が埋
め込まれていて、滑らかな鏡のような金属的な仕
上りを有している。転写材２０は、ローラ５２か
ら離されたあと何回も使用でき、仕上つた製品は
ローラ５４から離され更に次の工程、たとえば先
に示したような印刷或いは切断のような工程に送
られる。基体２４と転写材２０を分離するとき、
これらの間にはほんの僅かの粘着力した働かな
い。この粘着力は１平方cmあたり５―10グラム程
度であり、これが使用ワニスの引く力より小さけ
れば加工法の機能的な要求は達成される。
次のいくつかの実例はこの加工法およびこの加
工法により形成された製品をあらわしたものであ
るが、これらの例は如何なる形でも本発明を限定
するものではないことをあらかじめ述べておく。
例１：厚さ20ミクロンの未処理の二軸延伸ポリ
プロピレンのフイルムが転写材として用いられ、
予備被覆を行うことなしに真空金属化を行う。１
平方メートル当り0.03グラム程度の極端に薄いア
ルミニウムの層がフイルムの上に堆積される。こ
の層は二軸延伸ポリプロピレンフイルム転写材の
表面に105オングストローム程度の極めて薄いア
ルミニウム被膜を堆積することになる。厚さの範
囲としては50〜250オングストロームが好ましい。
この加工法はリール上で連続的に行うのに効果的
である。
この例においては、ワニスの被膜は基体自体に
行うのではなく、フイルム状転写材上の金属状被
膜に施される。この場合に用いられるワニスはポ
リウレタン型のもので、被覆されたあと、フイル
ムは揮発分を除去され（たとえば排気扉を用いた
大気中でローラーのリールの上を通過させる）、
そして金属化すべき基体に積層される。この場
合、基体は重量が一平方メートルあたり約80グラ
ムの紙である。積層処理はロータグラビア或いは
フレクソグラフイツク印刷機（図示してない）に
おいてラインに載せて連続的に効果的に行われ
る。積層は常温において行われる。
積層が済むと、転写材と基体は結合された状態
で、ワニスが固まつて転写材から容易に離すこと
ができるに足る充分な時間だけリール上に貯蔵し
ておく。これも又経験的に決めるのが最もよい
が、ワニスと、その厚さと、基体に依存する。転
写材と基体は図に示すようにほどき機械において
お互いからはがされる。転写材は次に再使用され
る。
例２：この例においては、転写材は前の例と同
じように金属化される。このあと、転写材の金属
化された面は溶媒のないポリウレタン型のワニス
で被覆される。前の例と異つて、この場合溶媒の
蒸発は必要がない。ワニスが施されてから転写材
は１平方メートル当り80グラムの基体に積層され
る。次は前例と同じように、この積層材料はワニ
スが固まるのに充分な時間（たとえば24時間）放
置され、それから転写材と基体が分離される。
例３：前と同様に、転写材は真空処理によつて
金属化される。そのあと、転写材の金属化された
表面は、紫外線で架橋結合する光重合レジンを用
いて、基体の表面に結合される。溶媒は蒸発によ
つて除去され、転写材は基体に積層される。この
例では、結果が同じであるところから、ワニスは
転写材と基体のうちのどちらに施してもよい。積
層されたあと、重合材は転写材を通して紫外線で
照射される。これによつてレジンは直ちに固ま
り、基体は同じ機械で連続的な処理で転写材から
はがされる。出来上つた基体は高度に光沢のある
鏡のような金属化された表面を持ち而も耐熱性が
ある。
本発明は特定の好ましい実施例について説明し
たが、この業界における専門家ならすぐ理解され
るように、本発明の精神と範囲から逸脱すること
なくいくつかの修飾や変形を行うことが可能であ
る。このような修飾や変形は本発明の特許請求の
範囲の中に含まれるものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明における基体を金属化する加工
法のフローダイヤグラムを示した図、第２図は本
発明の、金属粒子を転写材上に堆積する工程を実
行するのに用いる装置の概略を示した図、第３Ａ
図は基体の表面にワニスを塗布する工程を示した
図、第３Ｂ図はワニスの必要量を決定する方法を
示した図、第４Ａ図は基体２４と金属を堆積した
転写材２０の積層を示した図、第４Ｂ図は前記の
積層におけるローラの圧力と直径の関係を示した
図、第５図は金属化した基体を転写材から分離す
るところを示した図である。 記号の説明：２０は転写材、２２は金属粒子堆
積工程、２４は基体、２６はワニスの被覆工程、
２８は積層工程、３０は硬化工程、３２は分離工
程、３４は仕上り製品、３６は真空室、３８は金
属貯蔵器、４０は水冷ローラ、４２はワニス、４
４はガラスをそれぞれ表わしている。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 再使用可能な未処理の平滑な転写材を用いて
    処理済または未処理の基体を金属化して金属被覆
    製品を得る方法であつて、前記未処理の転写材上
    に剥離層またはその他の層を介さないで直接厚さ
    が1000オングストロームより実質的に小さい大き
    さの金属粒子の薄膜を真空蒸着により堆積する工
    程と、前記処理済または未処理の基体と前記金属
    化した転写材のうちの少なくとも一方の全部また
    は一部分をワニスのみで被覆する工程と、前記ワ
    ニスが硬化する前に前記基体と前記転写材を積層
    し前記金属粒子が前記ワニスに埋めこまれるよう
    にする工程と、前記ワニスを硬化する工程と、前
    記転写材を前記基体から分離し、このとき前記基
    体が鏡状の金属仕上りを与えられるようにした工
    程と、前記転写材を金属化工程において再使用す
    る工程とを含み、前記ワニスがポリウレタン硬化
    レジンまたは照射架橋性レジンであり、前記転写
    材が未処理の二軸延伸ポリプロピレンであり、前
    記転写材の分離が、前記金属粒子が前記ワニスに
    埋めこまれかつ前記ワニスが硬化した後に行なわ
    れることを特徴とする、鏡状の金属被覆製品を製
    造する方法。 ２ 特許請求の範囲第１項に記載した製造方法で
    あつて、前記金属粒子が前記転写材に堆積すると
    きに、前記硬化したワニスのひきはなす力よりも
    小さい付着力によつて最小限度に付着するように
    した、鏡状の金属被覆製品を製造する方法。 ３ 特許請求の範囲第２項に記載した製造方法で
    あつて、前記堆積された金属の厚さが500オング
    ストロームより小さくなるようにした、鏡状の金
    属被覆製品を製造する方法。 ４ 特許請求の範囲第２項に記載した製造方法で
    あつて、前記金属がアルミニウムであり、その厚
    さが50から250オングストロームの中間であるよ
    うな、鏡状の金属被覆製品を製造する方法。 ５ 特許請求の範囲第２項に記載した製造方法で
    あつて、前記転写材と前記基体のうちの少なくと
    も１つがたわみ性を有しているような、鏡状の金
    属被覆製品を製造する方法。 ６ 特許請求の範囲第２項に記載した製造方法で
    あつて、前記基体と前記転写材のうちの少なくと
    も１つが長い膜であるような、鏡状の金属被覆製
    品を製造する方法。 ７ 特許請求の範囲第２項に記載した製造方法で
    あつて、前記ワニスが紫外線照射で架橋結合する
    レジンであるような、鏡状の金属被覆製品を製造
    する方法。 ８ 特許請求の範囲第２項に記載した製造方法で
    あつて、前記ワニスが前記基体の全表面を覆つて
    いない特定のデザインで被覆されているような、
    鏡状の金属被覆製品を製造する方法。 ９ 特許請求の範囲第１項に記載した製造方法で
    あつて、前記金属粒子がアルミニウム、銀、金、
    銅、ニツケル、錫、白金、およびこれら金属の合
    金からなる群から選ばれた金属でできているよう
    な、鏡状の金属被覆製品を製造する方法。
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