JPS6320912B2 - - Google Patents
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- JPS6320912B2 JPS6320912B2 JP60251662A JP25166285A JPS6320912B2 JP S6320912 B2 JPS6320912 B2 JP S6320912B2 JP 60251662 A JP60251662 A JP 60251662A JP 25166285 A JP25166285 A JP 25166285A JP S6320912 B2 JPS6320912 B2 JP S6320912B2
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- B01F25/70—Spray-mixers, e.g. for mixing intersecting sheets of material
- B01F25/72—Spray-mixers, e.g. for mixing intersecting sheets of material with nozzles
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
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- B29B7/94—Liquid charges
- B29B7/945—Liquid charges involving coating particles
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、金属体を、電気乃至電子デイバイス
の構成部材、特に電子写真感光体等の光導電部材
の基体として好適に利用できるようにする、該金
属体の表面処理装置に関する。 〔従来技術の説明〕 電子写真感光体等の光導電部材の基体として、
板状、円筒状、無端ベルト状等の形状の金属体が
用いられるところ、それら金属体は用途に適した
表面形状を有していることが要求され、ためにそ
れら金属体の表面には各種切削加工乃至研摩加工
が施される。 そして前記金属体として、アルミ合金が至適な
ものとして一般に使用され、その表面に前述の加
工を施して所望表面にものにし、該表面上に用途
に応じた光受容層が形成される。 ところが従来の切削加工方式乃至研摩加工方式
によると、合金組織中にSi−Al−Fe系、Fe−Al
系、TiB2等の金属間化合物、Al，Mg，Ti，Si，
Feの酸化物等が介在してしまつたり、H2による
空孔が存在してしまうことの他、結晶方位の異る
近隣Al組織間で生起する粒界段差といつた表面
欠陥が生起することがある。 また、アルミ合金を基体に適用する場合極めて
高清浄度表面のものが使用されるところ、そうし
た表面状態のアルミ合金は、10-9mmHgといつた
超高真空の下でも、その表面は活性であるため
に、〜30Å程度厚の酸化膜が形成されてしまう。 こうした問題のあるところで従来の切削加工方
式又は研摩加工方式により表面加工して得られる
基体は、結局はそれを使用して製造される光導電
部材の機能に各種の問題や欠陥を惹起するところ
となる。 即ち、例えばそれが電子写真感光体である場
合、基体上に形成される光受容層が均一性、均質
性に乏しいものになつてしまつたり、電気的、光
学的、または／及び光導電的特性が不均一なもの
になつてしまつたりして、画像に欠陥をもたらす
ところとなり、結局は実用に価しないものになつ
てしまうことが往々にしてある。そしてこの点
は、シリコン又はシリコンを主体とする非単結晶
材料で光受容層を形成する場合には顕著である。 〔発明の目的〕 本発明の主たる目的は、上述の従来の加工方式
に基因する各種の物理的問題点及び基体表面に酸
化膜が形成されてしまう問題点を排除して金属体
を表面加工し、電気乃至電子デバイスの構成部
材、特に電子写真感光体等用に至適な基体を製造
する装置を提供することにある。 本発明の他の目的は、前述の方法により得られ
た基体を使用し、その加工表面に所望の光受容層
を形成せしめて、電気的、光学的、光導電的特性
が実質的に常時安定しており、耐光疲労に優れ、
繰返し使用に際しても劣化現象を起こさず耐久
性、耐湿性に優れ、残留電位が全く又は殆んど観
測されない、必要に応じて水素原子Ｈ又は／及び
ハロゲン原子Ｘを含有するアモルフアスシリコン
ａ−Si（Ｈ，Ｘ）で構成された光受容層を有する
光受容部材を製造するに適した基体の製造装置を
提供することにある。 〔発明の構成・効果〕 本発明者らは、電気乃至電子デバイス、特に電
子写真感光体等用の基体について至適な表面形状
を有し、且つ上述の従来の表面加工方式によりも
たらされるような問題のないものとすべく鋭意研
究を重ねた結果、剛体真球を使用してそれらを所
定の金属体の表面に落下せしめると、例えば金属
体がアルミ合金である場合、該合金組織中に何ら
の金属間化合物、金属酸化物等の介在、そして空
孔の存在がなく、且つまた粒界段差といつた表面
欠陥の生起もなくして該金属体の表面を好ましい
表面形状にすることができ、その表面加工を長鎖
状炭化水素を含有する液体の存在下で行なうと、
常圧条件下であつても酸化膜の生成は起らず、か
くして得られる基体の加工表面にグロー放電法に
より主としてａ−Si（Ｈ，Ｘ）で構成される光受
容層を形成せしめると、形成される光受容層は均
一にして均質なものとなり、そしてその光受容部
材は、使用にあつてその光受容層を通過した光が
層界面、基体表面で反射し、それらが干渉すると
ころとなつて、形成される画像についてそれが縞
模様になることを効率的に防止し、出力される画
像を極めて優れた質のものにするものである知見
を得、該知見に基づいて本発明を完成せしめた。 即ち、本発明は、基体表面を、ポリブテンを含
有する液体（以下、「表面被覆液」という。）で被
覆した状態で、剛体真球又は凹凸表面形状の剛体
球を所定の高さから落下させることにより処理す
ることを骨子とする電気乃至電子デバイス、特に
電子写真感光体等用に至適な基体を製造する装置
に関するものである。 本発明の装置により表面処理するについて使用
される基体は、導電性のものであつても、或いは
電気絶縁性のものであつてもよい。 導電性基体としては、例えば、NiCr、ステン
レス、Al，Cr，Mo，Au，Nb，Ta，Ｖ，Ti，
Pt，Pb等の金属又はこれ等の合金が挙げられる。 電気絶縁性支持体としては、ポリエステル、ポ
リエチレン、ポリカーボネート、セルロース、ア
セテート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド等
の合成樹脂のフイルム又はシート、ガラス、セラ
ミツク、紙等が挙げられる。これ等の電気絶縁性
基体は、好適には少なくともその一方の表面を導
電処理し、該導電処理された表面側に光受容層を
設けるのが望ましい。 例えば、ガラスであれば、その表面に、NiCr，
Al，Cr，Mo，Au，Ir，Nb，Ta，Ｖ，Ti，Pt，
Pd，In2O3，SnO2，ITO（In2O3＋SnO2）等から
成る薄膜を設けることによつて導電性を付与し、
或いはポリエステルフイルム等の合成樹脂フイル
ムであれば、NiCr，Al，Ag，Pb，Zn，Ni，
Au，Cr，Mo，Ir，Nb，Ta，Ｖ，Tl，Pt等の金
属の薄膜を真空蒸着、電子ビーム蒸着、スパツタ
リング等でその表面に設け、又は前記金属でその
表面をラミネート処理して、その表面に導電性を
付与する。基体の形状は、円筒状、板状等任意の
形状であることができるが、用途、所望によつ
て、その形状は適宜に決めることのできるもので
ある。例えば、光受容部材を電子写真用像形成部
材として使用するのであれば、連続高速複写の場
合には、円筒状とするのが望ましい。基体の厚さ
は、所望通りの光受容部材を形成しうる様に適宜
決定するが、光受容部材として可撓性が要求され
る場合には、基体としての機能が充分発揮される
範囲内で可能な限り薄くすることができる。しか
しながら、基体の製造上及び取扱い上、機械的強
度等の点から、通常は、10μ以上とされる。 また本発明の装置において、前述の基体表面を
処理、即ち該表面に所望の凹凸形状を形成せしめ
るについて用いる剛体真球又は凹凸表面形状の剛
体球（通常、φ＝0.4〜2.0mm）としては、例えば
ステンレス、アルミニウム、鋼鉄、ニツケル、真
鍮等の金属、セラミツクまたはプラスチツク製の
各種剛体球を挙げることができる。これらの中、
ステンレス製及び鋼鉄製の剛体球が、耐久性、コ
スト等を含めた綜合的見地からして好ましい。そ
してそうした球体の硬度は、基体の硬度より高く
ても、或いは低くてもよいが、該球体を繰り返し
使用する場合には、基体の硬度よりも高いもので
あることが望ましい。 また本発明の装置において、前述の基体表面
に、前述の剛体球を使用して所望の凹凸形状を形
成せしめる際に使用する、表面被覆液について
は、いずれにしても基体表面を万遍なく一様にそ
して出来得る限り薄く被覆し、そこに形成される
被覆膜は可及的速やかに固化し、固化膜は洗浄操
作によりムラを残さず洗去されると同時に基体表
面が何らの乾燥ムラ（ダレ）も残すことなく絶体
クリーンの状態に乾燥されることが要求される。
こうしたことから、前記表面被覆液は、(イ)低粘度
液体であること、(ロ)除電作用を有すること、(ハ)コ
ーテイング作用を有すること、(ニ)形成される被覆
膜（コート）が容易に洗去され得るものであるこ
と、(ホ)被覆膜（コート）洗去後加工表面がそこに
何らの乾燥ムラも残さずして絶体クリーンの状態
に乾燥されること、の(イ)乃至(ホ)の条件を満足する
ものであることが必要とされる。 したがつて表面被覆液としては、長鎖状炭化水
素を適当な有機溶媒に溶解して得たものが一般に
使用される。 そして前記長鎖状炭化水素については、代表的
なものとしてポリブテンが挙げられる。ポリブテ
ンの中で好ましいものは下記の一般式で表わされ
るものである。即ち、 但し、式中のｎは、３乃至40の整数を表わす。
前記一般式で表わされるポリブテンの中、ｎが３
乃至20であるものが特に好ましいものである。 なお、前記ポリブテンの中には、それ自身前記
(イ)乃至(ホ)の条件を満足するものがあり、その場合
にあつては、表面被覆液は実質的に該ポリブテン
からなるものであることができる。 前記有機溶媒は、前記長鎖状炭化水素（ポリブ
テン）を溶解して、前記(イ)乃至(ホ)の条件を満たす
表面被覆液を与える類のものならば何れのもので
あつてもよく、それらの例として、エーテル、ヘ
プタン、トルエン、トリクロロエチレン、トリク
ロロエタン等を挙げることができる。しかしこれ
ら有機溶媒の中、トリクロロエタンは以下の理由
から最も好ましいものである。 即ち、トリクロロエタンは、前記ポリブテンを
極めて効率的に溶解し、得られる液体は程よい粘
度のものであつて、極めて展性に富み、基体表面
をムラなく一様にしかも極めて薄い膜を形成して
覆い、その薄膜は落下する剛体球による基体表面
への球状痕跡窪み形成に支障を与えず、そして前
記球状痕跡窪み形成後に前記薄膜の速やかな固化
をもたらし、更にそれを固化膜の洗浄操作に使用
すると、該固化膜は速やかに基体の加工表面から
溶離して洗去され、露呈される基体の加工表面は
何らの洗浄ムラを残すことなく絶体クリーンの状
態に乾燥される。 そして、トリクロロエタンに前記ポリブテンを
溶解してなる表面被覆液は、両物質の液構成割合
が重要であり、トリクロロエタンに対し前記ポリ
ブテンを１：４〜４：１の範囲にするのが通常で
あるが、１：１であるのが最も好ましい。 ところで本発明の装置により表面加工された基
体は、剛体真球を使用した場合について説明する
に、第１図に示すような表面形状のものである。
即ち、第１Ａ図に示す例は、基体１０１の表面１
０２の異なる部位に向けて、ほゞ同一径の複数の
球体１０３，１０３…を、ほゞ同一の高さより規
則的に落下せしめて、前記基体の表面にほぼ同一
の曲率Ｒ及びほゞ同一の幅の複数の球状痕跡窪み
１０４，１０４…を互に重複し合うように万遍な
く生ぜせしめて規則的に凹凸形状を形成せしめて
なる支持体についてのものである。なおこの場合
にあつては、互に重複する窪み１０４，１０４…
を形成せしめるについては、球体１０３，１０３
…の基体表面１０２への衝突時期が互にずれるよ
うにそれらを落下せしめる必要のあることはいう
までもない。 第１Ｂ図に示す例は、基体１０１の表面１０２
に向けて異なる径を有する二種類の複数の球体１
０３，１０３…及び１０３′，１０３′…をほゞ同
一の高さか、又は異る高さから落下せしめて、前
記基体の表面に曲率と幅のそれぞれが異る二種類
の球状痕跡窪み１０４，１０４…及び１０４′，
１０４′…を互に重複し合うように万遍なく生ぜ
しめて不規則に凹凸形状を形成せしめてなる基体
についてのものである。 更に、第１Ｃ図〔基体表面の正面図（上）およ
び断面図（下）〕に示す例は、基体１０１の表面
１０２に向けて、ほゞ同一径の複数の球体１０
４，１０４…をほゞ同一の高さより不規則に落下
せしめ、前記基体の表面にほゞ同一径及びほゞ同
一幅の複数の窪み１０４，１０４…を互に重複し
合うように万遍なく生ぜしめて不規則に凹凸形状
を形成せしめてなる支持体についてのものであ
る。 そして前記第１Ａ乃至Ｃ図に図示の球状痕跡窪
み形状表面を有する基体は、本発明の装置により
製造されるものであるが、第１Ａ乃至Ｃ図におい
ては簡略のため、表面被覆液についての説明を省
略した。 本発明の光導電部材用基体の製造装置について
以下に図示の実施例により説明するが、前記装置
はこれらにより限定されるものではない。 第２乃至３図は、本発明の光導電部材用基体の
製造装置の例の断面略図であり、第４図は該装置
に使用する回転容器壁部の一部を変形したものの
説明図である。 第２図において、１は装置周囲壁を示す。該周
囲壁は、その断面が、上部において半長楕円形状
部１１を成して該形状に相応の空間Ａを形成し、
下部において円形形状部１２を成して該形状に相
応の空間Ｂを形成し、該円形形状部の底中央部は
下方半円形状に突起１３して半円空間Ｃを形成し
ている。装置周囲壁１は、例えばステンレス等の
耐圧、耐熱そして耐薬品性の金属板で内部を完全
密封して一体的に形成されている。 装置周囲壁１は、外観横長のハウジングを成し
ていて、該ハウジングは、空間Ａ乃至Ｃで形成さ
れる形状の両側壁部（図示せず）で密封固定され
ている。２は、装置支持台であり、該支持台に突
起部１３が周接嵌合されて装置全体が支持固定さ
れている。 ３は、空間Ｂの中央部に適宜幅の空隙を残して
設置されている円筒形回転容器であり、例えばパ
ンチングメタル等の多穿孔板で一体的に形成され
ていて、図示しないハウジング側壁に両端が回転
可能に支持されていて、その一端が駆動手段（図
示せず）に連結して全体が回転するようにされて
いる。４，４，…は、剛体真球又は凹凸表面形状
の剛体球であり、回転容器３内に収容されてい
て、該容器が回転されると、該容器の内壁表面の
穿孔凹凸部の作用と遠心力とにより図示のように
容器内壁面に乗つて回転容器の回転頂点付近まで
持ち上げられ、落下する。５は、、円筒形基体
（例えば支持体作成用のアルミシリンダー）であ
り、転容器３内に、該容器と同軸的にハウジング
側壁で駆動手段（図示せず）に連結している回転
軸６に軸支して設置されている。 ７は、円筒形回転容器３の上部の空間Ａの中央
部に該容器の長さに亘つて延びていて、周囲壁１
の頂部から適宜の懸下手段（図示せず）により固
定懸下されていて、下部に液体噴出孔７１，７１
…を有する表面被覆液噴出管である。 ８は、ハウジングの１側壁から半円空間Ｃに連
通する表面被覆液９の送給管８１の開口部であ
る。送給管８１は、ポンプ手段を介して噴出管７
に連通している。８２は、表面被覆液の滞溜タン
クであり、該タンクの底部にはバルブ手段８４′
を備えた排出管８４が設けられていて、滞溜によ
り下部に沈降した金属微粉等の不要物を除いて表
面被覆液を常時洗澄な状態に保つようにする。そ
して排出した分の表面被覆液が供給タンク８３か
ら補給される。また、表面被覆液は、一定数サイ
クル使用後は交換が必要とされ、その場合バルブ
手段８２′を閉じ、バルブ手段８４′を開にして排
出管８４から系内の表面被覆液を抜き去り、新た
な表面被覆液を供給タンク８３から系内に供給す
るようにする。 第２図に図示の本発明の光導電部材用基体の製
造装置の操作を説明するに、所要数の剛体球４，
４，…の収容されている回転容器３内に円筒基体
５を設置し、供給タンク８３から表面被覆液〔例
えばポリブテン＋トリクロロエタン（１：１）
液〕を供給して噴出管７の噴出孔７１から回転容
器３の表面に表面被覆液９を噴射せしめる。噴射
された表面被覆液は、回転容器３の多穿孔壁の孔
を通つて回転容器内に流下し、その系内に設置さ
れている円筒基体の表面に到達し、該表面に液膜
９′を形成する。その余の表面被覆液は更に流下
して回転容器下部に収容されている剛体球４，
４，…の表面をぬらし、更に流下した液体は回転
容器３の多穿孔壁の孔を通つて空間Ｃ内に流入す
る。空間Ｃに溜つた表面被覆液は、ポンプ作用に
より送給管８１を介して滞溜タンク８２に入つて
滞溜した後噴出管７に循環される。表面被覆液は
一定量系内に供給されたところでバルブ手段８
３′を閉じて供給タンクからの供給を停止する。
かくしたところで、回転容器３と円筒基体５の回
転を開始する。両者は互に逆方向に回転するとこ
ろ、両者の回転速度は、回転容器については、剛
体球がその内壁面に沿つて持ち上げられ、、回転
頂部で円筒基体５に向けて落下するような速度に
調節される。一方円筒基体５は、落下する剛体球
４，４，…がその表面に万遍なく落下・衝突して
そこに剛体球による痕跡窪みが平面部分を残すこ
となく形成される速度に調節される。 以上のように操作することにより、円筒基体表
面への痕跡窪み形成は、円筒基体表面が表面被覆
液の薄液膜で完全に覆われた状態で行われる。 上述の操作は、常圧、常温の条件下で行うこと
ができるが、剛体球の円筒基体表面への衝突を強
くすることを所望する場合には真空条件下で行う
のが好ましい。 一定時間後、回転容器３と円筒基体５の回転を
停め、表面被覆液の供給を停めると、表面を万遍
なく覆つて薄固化膜を有し、万遍なく球状痕跡窪
み形状の形成された表面の円筒基体が得られる。
この円筒基体は系外に搬出して使用に供する迄そ
のまゝ保存しても、その表面は固化膜により外気
から完全に遮断されていることから、該基体がア
ルミ合金系の材質のものであつてもその表面に酸
化膜が形成される等の問題の生ずる機会は全くな
い。 上述の本発明の装置によれば、処理済み円筒基
体を搬出後、新たな円筒基体を系内に搬入し、該
基体について上述の操作を引き続いて繰返し行え
るので、所望の表面加工の施された基体を連続し
て製造することができる。 なお、上述の説明においては、円筒基体が一つ
である場合について説明したが、本発明の装置に
おいては、複数個の円筒基体を一操作で表面加工
できるような規模のものにすることは勿論可能で
ある。 また、上述の操作で表面加工して得られた基体
は、その使用に際してはいずれにしろ溶媒洗浄処
理にかけて固化膜を溶離し、表面を絶体クリーン
の状態に乾燥した後、成膜（光受容層形成）装置
（図示せず）に搬入されるところ、本発明の装置
によれば前記溶媒洗浄処理を行うこともできる。 その場合、表面加工終了後、表面被覆液を系か
ら除いて系内をクリーン状態にした後、図示しな
い洗浄液（例えばトリクロロエタン）タンクから
洗浄液を供給管８１を介して噴出管７に送り、噴
出孔７１から下方噴射する。その際回転容器３は
停止しておき、円筒基体５を回転させる。空間Ｃ
に滞溜した洗浄液は循環させるか若しくはバルブ
８２′を閉じ、バルブ８４′を開にして排出管８４
を介して系外に排出するようにする。 第３図に示す実施例は、第２図に示す実施例装
置の変形であつて、回転容器３の壁の外周上に長
手方向に平行に液止めバー３２，３２，…が固定
設置され、該壁の内周面上に長手方向に平行に剛
体球係止棒状バー３１，３１，…が固定設置され
ている。 第３図の実施例装置の操作は、第２図
の場合と同様であるが、液止めバー３２，３２，
…の作用により表面被覆液９の回転容器３内への
流入が円滑に進行し、また、係止棒状バー３１，
３１，…の作用により剛体球４，４，…の持ち上
げが円滑に進行する。 第４図の実施例装置は、第３図に示す実施例装
置の変形であつて、第３図における係止棒状バー
３１，３１，…を、ブレード・バー３１′，３
１′，…にしたものである。回転容器３の内壁面
上にこうしたブレード・バー３１′，３１′，…を
設けることにより剛体球４，４，…の持ち上げが
一層円滑に行われるようになると同時に、回転頂
部での剛体球４，４，…の放出・落下がより的確
に行われるところとなる。 なお、本発明の装置は、被加工円筒形基体の大
小に拘らずいずれのサイズのものにも適用できる
ように設計される。一例を挙げれば、円筒形回転
容器３については、300mm（径）×450mm（長さ）
のサイズにし、液体噴出孔７１と円筒形回転容器
３の頂部との間の距離を180乃至200mmにする。そ
して、表面被覆液噴出管７は、約15mmの径のもの
であつて、ノズル式の液体噴出孔７１，７１…を
約50mm乃至70mmの間隔で有するものにする。ま
た、回転軸６は、被表面加工円筒形基体のサイズ
（径及び長さ）に応じて取り換え可能なものであ
る。更に、円筒形回転容器３は上述したようにパ
ンチングメタル等の多穿孔板で一体的に形成され
たものであるが、例示するに、孔径0.5mmで穿孔
率が50％のパンチングメタルで一体的に形成され
る。第３図に図示の本発明の装置においては、液
止めバー３２，３２，…及び剛体球係止棒バー３
１，３１，…は、それぞれ３mm乃至５mmそして３
mm乃至６mmの高さで、100mm乃至150mmの等間隔で
設けられる。 以上説明の本発明の装置により表面加工して得
られる基体は、所望の球状痕跡窪みが表面に平面
部を残すことなく形成されていて、その表面全体
が固化膜に覆われて外気から遮断されて維持され
ており、洗液に例えばトリクロロエタン等の溶剤
を使用して洗浄すると、固化膜の溶離が極めて効
率的に進行し、表面の乾燥が全く乾燥ムラを残す
ことなく極めて効率的に行え、絶体クリーンの表
面状態のものとなり、光導電部材用基体として至
適なものとなる。 上述の本発明の作用及び効果は、下記の実施例
と比較例の結果からして明瞭に理解される。 実施例 １ 第２図に図示の装置〔円筒形回転容器３のサイ
ズ：300mm（径）×450mm（長さ）〕を使用し、80mm
（径）×360mm（長さ）のサイズで５mmの肉厚のア
ルミニウム合金製基体シリンダーを回転軸６上に
設置し、0.6mm径のSUS剛体球の2.5Kg量を円筒形
回転容器３内に収容し、トリクロロエタン＋ポリ
ブテン（１：１）の液体を液体噴出孔７１，７
１，…から噴射させながら30rpmの速度で回転さ
せた。なお、円筒形回転容器３の回転方向を12分
毎に反転させた。かくして24分間上記基体シリン
ダーの表面加工を行つた。 表面加工を終えた基体シリンダー装置から取り
出してトリクロロエタンで洗浄〔温浴（超音波）、
冷浴、蒸気浴〕し、得られた表面加工基体シリン
ダーを公知のグロー放電分解法による光導電部材
製造装置にセツトし、下記の表１に示す条件で、
電荷注入阻止層、光導電層及び表面層を形成して
電子写真用感光体ドラムを作成した。
の構成部材、特に電子写真感光体等の光導電部材
の基体として好適に利用できるようにする、該金
属体の表面処理装置に関する。 〔従来技術の説明〕 電子写真感光体等の光導電部材の基体として、
板状、円筒状、無端ベルト状等の形状の金属体が
用いられるところ、それら金属体は用途に適した
表面形状を有していることが要求され、ためにそ
れら金属体の表面には各種切削加工乃至研摩加工
が施される。 そして前記金属体として、アルミ合金が至適な
ものとして一般に使用され、その表面に前述の加
工を施して所望表面にものにし、該表面上に用途
に応じた光受容層が形成される。 ところが従来の切削加工方式乃至研摩加工方式
によると、合金組織中にSi−Al−Fe系、Fe−Al
系、TiB2等の金属間化合物、Al，Mg，Ti，Si，
Feの酸化物等が介在してしまつたり、H2による
空孔が存在してしまうことの他、結晶方位の異る
近隣Al組織間で生起する粒界段差といつた表面
欠陥が生起することがある。 また、アルミ合金を基体に適用する場合極めて
高清浄度表面のものが使用されるところ、そうし
た表面状態のアルミ合金は、10-9mmHgといつた
超高真空の下でも、その表面は活性であるため
に、〜30Å程度厚の酸化膜が形成されてしまう。 こうした問題のあるところで従来の切削加工方
式又は研摩加工方式により表面加工して得られる
基体は、結局はそれを使用して製造される光導電
部材の機能に各種の問題や欠陥を惹起するところ
となる。 即ち、例えばそれが電子写真感光体である場
合、基体上に形成される光受容層が均一性、均質
性に乏しいものになつてしまつたり、電気的、光
学的、または／及び光導電的特性が不均一なもの
になつてしまつたりして、画像に欠陥をもたらす
ところとなり、結局は実用に価しないものになつ
てしまうことが往々にしてある。そしてこの点
は、シリコン又はシリコンを主体とする非単結晶
材料で光受容層を形成する場合には顕著である。 〔発明の目的〕 本発明の主たる目的は、上述の従来の加工方式
に基因する各種の物理的問題点及び基体表面に酸
化膜が形成されてしまう問題点を排除して金属体
を表面加工し、電気乃至電子デバイスの構成部
材、特に電子写真感光体等用に至適な基体を製造
する装置を提供することにある。 本発明の他の目的は、前述の方法により得られ
た基体を使用し、その加工表面に所望の光受容層
を形成せしめて、電気的、光学的、光導電的特性
が実質的に常時安定しており、耐光疲労に優れ、
繰返し使用に際しても劣化現象を起こさず耐久
性、耐湿性に優れ、残留電位が全く又は殆んど観
測されない、必要に応じて水素原子Ｈ又は／及び
ハロゲン原子Ｘを含有するアモルフアスシリコン
ａ−Si（Ｈ，Ｘ）で構成された光受容層を有する
光受容部材を製造するに適した基体の製造装置を
提供することにある。 〔発明の構成・効果〕 本発明者らは、電気乃至電子デバイス、特に電
子写真感光体等用の基体について至適な表面形状
を有し、且つ上述の従来の表面加工方式によりも
たらされるような問題のないものとすべく鋭意研
究を重ねた結果、剛体真球を使用してそれらを所
定の金属体の表面に落下せしめると、例えば金属
体がアルミ合金である場合、該合金組織中に何ら
の金属間化合物、金属酸化物等の介在、そして空
孔の存在がなく、且つまた粒界段差といつた表面
欠陥の生起もなくして該金属体の表面を好ましい
表面形状にすることができ、その表面加工を長鎖
状炭化水素を含有する液体の存在下で行なうと、
常圧条件下であつても酸化膜の生成は起らず、か
くして得られる基体の加工表面にグロー放電法に
より主としてａ−Si（Ｈ，Ｘ）で構成される光受
容層を形成せしめると、形成される光受容層は均
一にして均質なものとなり、そしてその光受容部
材は、使用にあつてその光受容層を通過した光が
層界面、基体表面で反射し、それらが干渉すると
ころとなつて、形成される画像についてそれが縞
模様になることを効率的に防止し、出力される画
像を極めて優れた質のものにするものである知見
を得、該知見に基づいて本発明を完成せしめた。 即ち、本発明は、基体表面を、ポリブテンを含
有する液体（以下、「表面被覆液」という。）で被
覆した状態で、剛体真球又は凹凸表面形状の剛体
球を所定の高さから落下させることにより処理す
ることを骨子とする電気乃至電子デバイス、特に
電子写真感光体等用に至適な基体を製造する装置
に関するものである。 本発明の装置により表面処理するについて使用
される基体は、導電性のものであつても、或いは
電気絶縁性のものであつてもよい。 導電性基体としては、例えば、NiCr、ステン
レス、Al，Cr，Mo，Au，Nb，Ta，Ｖ，Ti，
Pt，Pb等の金属又はこれ等の合金が挙げられる。 電気絶縁性支持体としては、ポリエステル、ポ
リエチレン、ポリカーボネート、セルロース、ア
セテート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド等
の合成樹脂のフイルム又はシート、ガラス、セラ
ミツク、紙等が挙げられる。これ等の電気絶縁性
基体は、好適には少なくともその一方の表面を導
電処理し、該導電処理された表面側に光受容層を
設けるのが望ましい。 例えば、ガラスであれば、その表面に、NiCr，
Al，Cr，Mo，Au，Ir，Nb，Ta，Ｖ，Ti，Pt，
Pd，In2O3，SnO2，ITO（In2O3＋SnO2）等から
成る薄膜を設けることによつて導電性を付与し、
或いはポリエステルフイルム等の合成樹脂フイル
ムであれば、NiCr，Al，Ag，Pb，Zn，Ni，
Au，Cr，Mo，Ir，Nb，Ta，Ｖ，Tl，Pt等の金
属の薄膜を真空蒸着、電子ビーム蒸着、スパツタ
リング等でその表面に設け、又は前記金属でその
表面をラミネート処理して、その表面に導電性を
付与する。基体の形状は、円筒状、板状等任意の
形状であることができるが、用途、所望によつ
て、その形状は適宜に決めることのできるもので
ある。例えば、光受容部材を電子写真用像形成部
材として使用するのであれば、連続高速複写の場
合には、円筒状とするのが望ましい。基体の厚さ
は、所望通りの光受容部材を形成しうる様に適宜
決定するが、光受容部材として可撓性が要求され
る場合には、基体としての機能が充分発揮される
範囲内で可能な限り薄くすることができる。しか
しながら、基体の製造上及び取扱い上、機械的強
度等の点から、通常は、10μ以上とされる。 また本発明の装置において、前述の基体表面を
処理、即ち該表面に所望の凹凸形状を形成せしめ
るについて用いる剛体真球又は凹凸表面形状の剛
体球（通常、φ＝0.4〜2.0mm）としては、例えば
ステンレス、アルミニウム、鋼鉄、ニツケル、真
鍮等の金属、セラミツクまたはプラスチツク製の
各種剛体球を挙げることができる。これらの中、
ステンレス製及び鋼鉄製の剛体球が、耐久性、コ
スト等を含めた綜合的見地からして好ましい。そ
してそうした球体の硬度は、基体の硬度より高く
ても、或いは低くてもよいが、該球体を繰り返し
使用する場合には、基体の硬度よりも高いもので
あることが望ましい。 また本発明の装置において、前述の基体表面
に、前述の剛体球を使用して所望の凹凸形状を形
成せしめる際に使用する、表面被覆液について
は、いずれにしても基体表面を万遍なく一様にそ
して出来得る限り薄く被覆し、そこに形成される
被覆膜は可及的速やかに固化し、固化膜は洗浄操
作によりムラを残さず洗去されると同時に基体表
面が何らの乾燥ムラ（ダレ）も残すことなく絶体
クリーンの状態に乾燥されることが要求される。
こうしたことから、前記表面被覆液は、(イ)低粘度
液体であること、(ロ)除電作用を有すること、(ハ)コ
ーテイング作用を有すること、(ニ)形成される被覆
膜（コート）が容易に洗去され得るものであるこ
と、(ホ)被覆膜（コート）洗去後加工表面がそこに
何らの乾燥ムラも残さずして絶体クリーンの状態
に乾燥されること、の(イ)乃至(ホ)の条件を満足する
ものであることが必要とされる。 したがつて表面被覆液としては、長鎖状炭化水
素を適当な有機溶媒に溶解して得たものが一般に
使用される。 そして前記長鎖状炭化水素については、代表的
なものとしてポリブテンが挙げられる。ポリブテ
ンの中で好ましいものは下記の一般式で表わされ
るものである。即ち、 但し、式中のｎは、３乃至40の整数を表わす。
前記一般式で表わされるポリブテンの中、ｎが３
乃至20であるものが特に好ましいものである。 なお、前記ポリブテンの中には、それ自身前記
(イ)乃至(ホ)の条件を満足するものがあり、その場合
にあつては、表面被覆液は実質的に該ポリブテン
からなるものであることができる。 前記有機溶媒は、前記長鎖状炭化水素（ポリブ
テン）を溶解して、前記(イ)乃至(ホ)の条件を満たす
表面被覆液を与える類のものならば何れのもので
あつてもよく、それらの例として、エーテル、ヘ
プタン、トルエン、トリクロロエチレン、トリク
ロロエタン等を挙げることができる。しかしこれ
ら有機溶媒の中、トリクロロエタンは以下の理由
から最も好ましいものである。 即ち、トリクロロエタンは、前記ポリブテンを
極めて効率的に溶解し、得られる液体は程よい粘
度のものであつて、極めて展性に富み、基体表面
をムラなく一様にしかも極めて薄い膜を形成して
覆い、その薄膜は落下する剛体球による基体表面
への球状痕跡窪み形成に支障を与えず、そして前
記球状痕跡窪み形成後に前記薄膜の速やかな固化
をもたらし、更にそれを固化膜の洗浄操作に使用
すると、該固化膜は速やかに基体の加工表面から
溶離して洗去され、露呈される基体の加工表面は
何らの洗浄ムラを残すことなく絶体クリーンの状
態に乾燥される。 そして、トリクロロエタンに前記ポリブテンを
溶解してなる表面被覆液は、両物質の液構成割合
が重要であり、トリクロロエタンに対し前記ポリ
ブテンを１：４〜４：１の範囲にするのが通常で
あるが、１：１であるのが最も好ましい。 ところで本発明の装置により表面加工された基
体は、剛体真球を使用した場合について説明する
に、第１図に示すような表面形状のものである。
即ち、第１Ａ図に示す例は、基体１０１の表面１
０２の異なる部位に向けて、ほゞ同一径の複数の
球体１０３，１０３…を、ほゞ同一の高さより規
則的に落下せしめて、前記基体の表面にほぼ同一
の曲率Ｒ及びほゞ同一の幅の複数の球状痕跡窪み
１０４，１０４…を互に重複し合うように万遍な
く生ぜせしめて規則的に凹凸形状を形成せしめて
なる支持体についてのものである。なおこの場合
にあつては、互に重複する窪み１０４，１０４…
を形成せしめるについては、球体１０３，１０３
…の基体表面１０２への衝突時期が互にずれるよ
うにそれらを落下せしめる必要のあることはいう
までもない。 第１Ｂ図に示す例は、基体１０１の表面１０２
に向けて異なる径を有する二種類の複数の球体１
０３，１０３…及び１０３′，１０３′…をほゞ同
一の高さか、又は異る高さから落下せしめて、前
記基体の表面に曲率と幅のそれぞれが異る二種類
の球状痕跡窪み１０４，１０４…及び１０４′，
１０４′…を互に重複し合うように万遍なく生ぜ
しめて不規則に凹凸形状を形成せしめてなる基体
についてのものである。 更に、第１Ｃ図〔基体表面の正面図（上）およ
び断面図（下）〕に示す例は、基体１０１の表面
１０２に向けて、ほゞ同一径の複数の球体１０
４，１０４…をほゞ同一の高さより不規則に落下
せしめ、前記基体の表面にほゞ同一径及びほゞ同
一幅の複数の窪み１０４，１０４…を互に重複し
合うように万遍なく生ぜしめて不規則に凹凸形状
を形成せしめてなる支持体についてのものであ
る。 そして前記第１Ａ乃至Ｃ図に図示の球状痕跡窪
み形状表面を有する基体は、本発明の装置により
製造されるものであるが、第１Ａ乃至Ｃ図におい
ては簡略のため、表面被覆液についての説明を省
略した。 本発明の光導電部材用基体の製造装置について
以下に図示の実施例により説明するが、前記装置
はこれらにより限定されるものではない。 第２乃至３図は、本発明の光導電部材用基体の
製造装置の例の断面略図であり、第４図は該装置
に使用する回転容器壁部の一部を変形したものの
説明図である。 第２図において、１は装置周囲壁を示す。該周
囲壁は、その断面が、上部において半長楕円形状
部１１を成して該形状に相応の空間Ａを形成し、
下部において円形形状部１２を成して該形状に相
応の空間Ｂを形成し、該円形形状部の底中央部は
下方半円形状に突起１３して半円空間Ｃを形成し
ている。装置周囲壁１は、例えばステンレス等の
耐圧、耐熱そして耐薬品性の金属板で内部を完全
密封して一体的に形成されている。 装置周囲壁１は、外観横長のハウジングを成し
ていて、該ハウジングは、空間Ａ乃至Ｃで形成さ
れる形状の両側壁部（図示せず）で密封固定され
ている。２は、装置支持台であり、該支持台に突
起部１３が周接嵌合されて装置全体が支持固定さ
れている。 ３は、空間Ｂの中央部に適宜幅の空隙を残して
設置されている円筒形回転容器であり、例えばパ
ンチングメタル等の多穿孔板で一体的に形成され
ていて、図示しないハウジング側壁に両端が回転
可能に支持されていて、その一端が駆動手段（図
示せず）に連結して全体が回転するようにされて
いる。４，４，…は、剛体真球又は凹凸表面形状
の剛体球であり、回転容器３内に収容されてい
て、該容器が回転されると、該容器の内壁表面の
穿孔凹凸部の作用と遠心力とにより図示のように
容器内壁面に乗つて回転容器の回転頂点付近まで
持ち上げられ、落下する。５は、、円筒形基体
（例えば支持体作成用のアルミシリンダー）であ
り、転容器３内に、該容器と同軸的にハウジング
側壁で駆動手段（図示せず）に連結している回転
軸６に軸支して設置されている。 ７は、円筒形回転容器３の上部の空間Ａの中央
部に該容器の長さに亘つて延びていて、周囲壁１
の頂部から適宜の懸下手段（図示せず）により固
定懸下されていて、下部に液体噴出孔７１，７１
…を有する表面被覆液噴出管である。 ８は、ハウジングの１側壁から半円空間Ｃに連
通する表面被覆液９の送給管８１の開口部であ
る。送給管８１は、ポンプ手段を介して噴出管７
に連通している。８２は、表面被覆液の滞溜タン
クであり、該タンクの底部にはバルブ手段８４′
を備えた排出管８４が設けられていて、滞溜によ
り下部に沈降した金属微粉等の不要物を除いて表
面被覆液を常時洗澄な状態に保つようにする。そ
して排出した分の表面被覆液が供給タンク８３か
ら補給される。また、表面被覆液は、一定数サイ
クル使用後は交換が必要とされ、その場合バルブ
手段８２′を閉じ、バルブ手段８４′を開にして排
出管８４から系内の表面被覆液を抜き去り、新た
な表面被覆液を供給タンク８３から系内に供給す
るようにする。 第２図に図示の本発明の光導電部材用基体の製
造装置の操作を説明するに、所要数の剛体球４，
４，…の収容されている回転容器３内に円筒基体
５を設置し、供給タンク８３から表面被覆液〔例
えばポリブテン＋トリクロロエタン（１：１）
液〕を供給して噴出管７の噴出孔７１から回転容
器３の表面に表面被覆液９を噴射せしめる。噴射
された表面被覆液は、回転容器３の多穿孔壁の孔
を通つて回転容器内に流下し、その系内に設置さ
れている円筒基体の表面に到達し、該表面に液膜
９′を形成する。その余の表面被覆液は更に流下
して回転容器下部に収容されている剛体球４，
４，…の表面をぬらし、更に流下した液体は回転
容器３の多穿孔壁の孔を通つて空間Ｃ内に流入す
る。空間Ｃに溜つた表面被覆液は、ポンプ作用に
より送給管８１を介して滞溜タンク８２に入つて
滞溜した後噴出管７に循環される。表面被覆液は
一定量系内に供給されたところでバルブ手段８
３′を閉じて供給タンクからの供給を停止する。
かくしたところで、回転容器３と円筒基体５の回
転を開始する。両者は互に逆方向に回転するとこ
ろ、両者の回転速度は、回転容器については、剛
体球がその内壁面に沿つて持ち上げられ、、回転
頂部で円筒基体５に向けて落下するような速度に
調節される。一方円筒基体５は、落下する剛体球
４，４，…がその表面に万遍なく落下・衝突して
そこに剛体球による痕跡窪みが平面部分を残すこ
となく形成される速度に調節される。 以上のように操作することにより、円筒基体表
面への痕跡窪み形成は、円筒基体表面が表面被覆
液の薄液膜で完全に覆われた状態で行われる。 上述の操作は、常圧、常温の条件下で行うこと
ができるが、剛体球の円筒基体表面への衝突を強
くすることを所望する場合には真空条件下で行う
のが好ましい。 一定時間後、回転容器３と円筒基体５の回転を
停め、表面被覆液の供給を停めると、表面を万遍
なく覆つて薄固化膜を有し、万遍なく球状痕跡窪
み形状の形成された表面の円筒基体が得られる。
この円筒基体は系外に搬出して使用に供する迄そ
のまゝ保存しても、その表面は固化膜により外気
から完全に遮断されていることから、該基体がア
ルミ合金系の材質のものであつてもその表面に酸
化膜が形成される等の問題の生ずる機会は全くな
い。 上述の本発明の装置によれば、処理済み円筒基
体を搬出後、新たな円筒基体を系内に搬入し、該
基体について上述の操作を引き続いて繰返し行え
るので、所望の表面加工の施された基体を連続し
て製造することができる。 なお、上述の説明においては、円筒基体が一つ
である場合について説明したが、本発明の装置に
おいては、複数個の円筒基体を一操作で表面加工
できるような規模のものにすることは勿論可能で
ある。 また、上述の操作で表面加工して得られた基体
は、その使用に際してはいずれにしろ溶媒洗浄処
理にかけて固化膜を溶離し、表面を絶体クリーン
の状態に乾燥した後、成膜（光受容層形成）装置
（図示せず）に搬入されるところ、本発明の装置
によれば前記溶媒洗浄処理を行うこともできる。 その場合、表面加工終了後、表面被覆液を系か
ら除いて系内をクリーン状態にした後、図示しな
い洗浄液（例えばトリクロロエタン）タンクから
洗浄液を供給管８１を介して噴出管７に送り、噴
出孔７１から下方噴射する。その際回転容器３は
停止しておき、円筒基体５を回転させる。空間Ｃ
に滞溜した洗浄液は循環させるか若しくはバルブ
８２′を閉じ、バルブ８４′を開にして排出管８４
を介して系外に排出するようにする。 第３図に示す実施例は、第２図に示す実施例装
置の変形であつて、回転容器３の壁の外周上に長
手方向に平行に液止めバー３２，３２，…が固定
設置され、該壁の内周面上に長手方向に平行に剛
体球係止棒状バー３１，３１，…が固定設置され
ている。 第３図の実施例装置の操作は、第２図
の場合と同様であるが、液止めバー３２，３２，
…の作用により表面被覆液９の回転容器３内への
流入が円滑に進行し、また、係止棒状バー３１，
３１，…の作用により剛体球４，４，…の持ち上
げが円滑に進行する。 第４図の実施例装置は、第３図に示す実施例装
置の変形であつて、第３図における係止棒状バー
３１，３１，…を、ブレード・バー３１′，３
１′，…にしたものである。回転容器３の内壁面
上にこうしたブレード・バー３１′，３１′，…を
設けることにより剛体球４，４，…の持ち上げが
一層円滑に行われるようになると同時に、回転頂
部での剛体球４，４，…の放出・落下がより的確
に行われるところとなる。 なお、本発明の装置は、被加工円筒形基体の大
小に拘らずいずれのサイズのものにも適用できる
ように設計される。一例を挙げれば、円筒形回転
容器３については、300mm（径）×450mm（長さ）
のサイズにし、液体噴出孔７１と円筒形回転容器
３の頂部との間の距離を180乃至200mmにする。そ
して、表面被覆液噴出管７は、約15mmの径のもの
であつて、ノズル式の液体噴出孔７１，７１…を
約50mm乃至70mmの間隔で有するものにする。ま
た、回転軸６は、被表面加工円筒形基体のサイズ
（径及び長さ）に応じて取り換え可能なものであ
る。更に、円筒形回転容器３は上述したようにパ
ンチングメタル等の多穿孔板で一体的に形成され
たものであるが、例示するに、孔径0.5mmで穿孔
率が50％のパンチングメタルで一体的に形成され
る。第３図に図示の本発明の装置においては、液
止めバー３２，３２，…及び剛体球係止棒バー３
１，３１，…は、それぞれ３mm乃至５mmそして３
mm乃至６mmの高さで、100mm乃至150mmの等間隔で
設けられる。 以上説明の本発明の装置により表面加工して得
られる基体は、所望の球状痕跡窪みが表面に平面
部を残すことなく形成されていて、その表面全体
が固化膜に覆われて外気から遮断されて維持され
ており、洗液に例えばトリクロロエタン等の溶剤
を使用して洗浄すると、固化膜の溶離が極めて効
率的に進行し、表面の乾燥が全く乾燥ムラを残す
ことなく極めて効率的に行え、絶体クリーンの表
面状態のものとなり、光導電部材用基体として至
適なものとなる。 上述の本発明の作用及び効果は、下記の実施例
と比較例の結果からして明瞭に理解される。 実施例 １ 第２図に図示の装置〔円筒形回転容器３のサイ
ズ：300mm（径）×450mm（長さ）〕を使用し、80mm
（径）×360mm（長さ）のサイズで５mmの肉厚のア
ルミニウム合金製基体シリンダーを回転軸６上に
設置し、0.6mm径のSUS剛体球の2.5Kg量を円筒形
回転容器３内に収容し、トリクロロエタン＋ポリ
ブテン（１：１）の液体を液体噴出孔７１，７
１，…から噴射させながら30rpmの速度で回転さ
せた。なお、円筒形回転容器３の回転方向を12分
毎に反転させた。かくして24分間上記基体シリン
ダーの表面加工を行つた。 表面加工を終えた基体シリンダー装置から取り
出してトリクロロエタンで洗浄〔温浴（超音波）、
冷浴、蒸気浴〕し、得られた表面加工基体シリン
ダーを公知のグロー放電分解法による光導電部材
製造装置にセツトし、下記の表１に示す条件で、
電荷注入阻止層、光導電層及び表面層を形成して
電子写真用感光体ドラムを作成した。
実施例１及び比較例１で得た、電子写真用感光
体ドラムを公知の電子複写装置を用い、波長780
mmでスポツト径80μmのレーザーを照射して画像
露光を行い、現像、転写を行つてトナー画像を
得、得られた画像について画像欠陥、画像ムラ、
干渉縞の発生状況を観察した。
体ドラムを公知の電子複写装置を用い、波長780
mmでスポツト径80μmのレーザーを照射して画像
露光を行い、現像、転写を行つてトナー画像を
得、得られた画像について画像欠陥、画像ムラ、
干渉縞の発生状況を観察した。
実施例２及び比較例２で得た、電子写真用感光
体ドラムを公知の電子写真複写装置を用い、波長
780mmでスポツト径80μmのレーザーを照射して画
像露光を行い、現像、転写を行つてトナー画像を
得、得られた画像について画像欠陥、画像ムラ、
干渉縞の発生状況を観察した、その結果、表に示
す結果が得られた。
体ドラムを公知の電子写真複写装置を用い、波長
780mmでスポツト径80μmのレーザーを照射して画
像露光を行い、現像、転写を行つてトナー画像を
得、得られた画像について画像欠陥、画像ムラ、
干渉縞の発生状況を観察した、その結果、表に示
す結果が得られた。
【表】
表３に示す結果から明らかなように、本発明の
第３図に図示の装置により表面加工処理した基体
シリンダーは、更に優れていて、極めて良好な特
性の光受容部材を与えるものであることがわか
る。
第３図に図示の装置により表面加工処理した基体
シリンダーは、更に優れていて、極めて良好な特
性の光受容部材を与えるものであることがわか
る。
第１Ａ乃至１Ｃ図は、本発明の装置により形成
される、基体表面の凹凸形状を説明するための模
式図である。第２乃至３図は、本発明の装置の断
面略図である。第４図は、第３図の装置の回転容
器壁部の一部を変形したものの説明図である。 第２乃至３図において、１……装置周壁（ハウ
ジング）、２……支持台、３……回転容器、４…
…剛体球、５……円筒形基体、６……回転軸、７
……噴出管、８……給送管開口部、９……表面被
覆液。
される、基体表面の凹凸形状を説明するための模
式図である。第２乃至３図は、本発明の装置の断
面略図である。第４図は、第３図の装置の回転容
器壁部の一部を変形したものの説明図である。 第２乃至３図において、１……装置周壁（ハウ
ジング）、２……支持台、３……回転容器、４…
…剛体球、５……円筒形基体、６……回転軸、７
……噴出管、８……給送管開口部、９……表面被
覆液。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 多穿孔板で一体形成されてなる複数の剛体球
を内部に収容して有する円筒形回転容器と、該容
器内で該容器と同軸的に回転する基体保持手段と
を有し、且つ、前記回転容器上部に表面被覆液供
給手段を備え、前記回転容器下部に前記表面被覆
液滞溜手段を備え、前記滞溜手段中の表面被覆液
を前記供給手段に循環するようにしてなることを
特徴とする光導電部材用基体の製造装置。 ２ 円筒形回転容器がその周壁内面に剛体球を係
止する手段を有してなるものであることを特徴と
する特許請求の範囲１項に記載の装置。 ３ 円筒形回転容器が、その周壁外面に表面被覆
液の液止め手段を有してなるものであることを特
徴とする特許請求の範囲１項または２項に記載の
装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251662A JPS62112780A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 光導電部材用基体の製造装置 |
| US06/927,873 US4773244A (en) | 1985-11-08 | 1986-11-07 | Apparatus for producing a substrate for a photoconductive members |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251662A JPS62112780A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 光導電部材用基体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62112780A JPS62112780A (ja) | 1987-05-23 |
| JPS6320912B2 true JPS6320912B2 (ja) | 1988-05-02 |
Family
ID=17226151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60251662A Granted JPS62112780A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 光導電部材用基体の製造装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4773244A (ja) |
| JP (1) | JPS62112780A (ja) |
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-
1985
- 1985-11-08 JP JP60251662A patent/JPS62112780A/ja active Granted
-
1986
- 1986-11-07 US US06/927,873 patent/US4773244A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62112780A (ja) | 1987-05-23 |
| US4773244A (en) | 1988-09-27 |
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