JPH01167761A - 表面加工された電子写真感光体用基体部材及びその製造方法 - Google Patents

表面加工された電子写真感光体用基体部材及びその製造方法

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JPH01167761A
JPH01167761A JP32385387A JP32385387A JPH01167761A JP H01167761 A JPH01167761 A JP H01167761A JP 32385387 A JP32385387 A JP 32385387A JP 32385387 A JP32385387 A JP 32385387A JP H01167761 A JPH01167761 A JP H01167761A
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Atsushi Koike
淳 小池
Tomohiro Kimura
知裕 木村
Takahisa Kawamura
川村 高久
Toshiyasu Shirasago
寿康 白砂
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は金属体を表面加工して、特にレーザー用電子写
真感光体用に至適な基体部材及びその製造方法に関する
〔従来技術の説明〕
電子写真感光体等の光導電部材の基体(支持体)として
、板状、円筒状、無端ベルト状等の形状の金属体が用い
られるところ、それら金属体は用途に適した表面形状を
有していることが要求され、。
ために、それら金属体の表面には各種切削加工乃至研摩
加工が施される。
そして前記金属体として、アルミ合金が至適なものとし
て一般に使用され、その表面に前述の加工を施して所望
表面のものにし、該表面上に用途に応じた光受容層が形
成される。
ところが従来の切削加工方式乃至研摩加工方式によると
、合金組織中に5i−All−Fe系、Fe−Aj!系
、TiBz等の金属間化合物、A6゜Mg、 T t、
  S t、  F eの酸化物等が介在してしまった
り、H2による空孔が存在してしまうことの他、結晶方
位の異なる近隣Attlli織間で生起する粒界段差と
いった表面欠陥が生起することがある。
また、アルミ合金を基体に適用する場合極めて高清浄度
表面のものが使用されるところ、そうした表面状態のア
ルミ合金は、IQ−’mHgといった超高真空の下でも
、その表面は活性であるために、〜30人程皮厚の酸化
膜が形成されてしまう。
こうした問題のあるところで従来の切削加工方式又は研
摩加工方式により表面加工して得られる基体は、結局は
それを使用して製造される光導電部材の機能に各種の問
題や欠陥を惹起するところとなる。
即ち、例えばそれが電子写真感光体である場合、基体上
に形成される光受容層が均一性、均質性に乏しいものに
なってしまったり、電気的、光学的、または/及び光導
電的特性が不均一なものになってしまったりして、画像
に欠陥をもたらすところとなり、結局は実用に価しない
ものになってしまうことが往々にしである。そしてこの
点は、シリコン又はシリコンを主体とする非晶質材料で
光受容層を形成する場合には顕著である。
上記従来技術の問題点を解決するについて、例えば特開
昭61−231561によりff1Xがなされている。
この提案によれば、前記問題点の解決策として極めて有
効である。しかし、レーザーを像露光光源とした画像形
成部材の場合には、画像上での干渉縞発生という面にお
いて解決を要する点を残している。この点については、
更なる高品質画像を求める強い市場要求があるところ、
そうした要求を充たすについては、干渉縞模様の発生の
問題を像形成部材側で抑えるようにすることが望まれる
ところである。
〔発明の目的〕
本発明の主たる目的は、前記特開昭61−231561
に記載の発明を改善し、更に改良された干渉縞防止効果
を有する電子写真感光体用基体部材及びその製造方法を
提供することにある。
〔発明の構成・効果〕
本発明者らは、電気乃至電子デバイス、特に電子写真感
光体等用の基体用部材について至適な表面形状を存し、
且つ上述の従来の表面形状及び加工方式によりもたらさ
れる様な問題を克服すべく鋭意研究を重ねた結果、特定
の表面形状を有する剛体球を所定の高さより自然落下、
乃至は強制落下させることにより、被加工基体表面に衝
突させて、剛体球表面形状の反転、相似形の球状痕跡窪
みを形成することにより前記本発明の目的を達成し得る
知見を得、該知見に基づいて更なる研究を続けた結果、
本発明を完成するに至った。
本発明は、改善された電子写真感光体用基体部材とその
製造方法を提供するものである。
本発明により提供される前記基体部材は、表面に複数の
球状痕跡窪みによる凹凸を有し、該球状痕跡窪みによる
凹凸の形状が、その斜面において連続的な曲線を成し、
該斜面が収斂する凹部頂点の一点において、不連続な曲
線を形成しているものであることを特徴とするものであ
る。
そして本発明により提供される基体部材の製造方法は、
表面に万遍なく一定形状の凹凸を有し、それぞれの凸部
が断面において連続的曲線を形成する斜面を有し、該斜
面が収斂する凹部で不連続な曲線を形成している剛体球
を複数個自然落下させて被加工基体部材の表面に該剛体
球の痕跡窪みによる凹凸を形成せしめることを特徴とす
る、表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸を有し、該球
状痕跡窪みによる凹凸の形状が、その斜面において連続
的な曲線を成し、該斜面が収斂する凹部頂点の一点にお
いて不連続な曲線を形成してなる電子写真感光体用基体
部材の製造方法である。
以下、前記本発明について、その詳細を説明する。
本発明により提供される表面加工された基体部材は、基
本的には第1図に示すごときものである。
即ち、基体用部材lは表面2に複数の球状痕跡窪み4に
よる凹凸を形成させてなるものである。
即ち、例えば剛体球3を表面2より所定の高さHの位置
より自然落下させることにより球状痕跡窪み4を形成す
る。従って複数の剛体球3をほぼ同一の高さHより落下
させることにより表面2にほぼ同一形状の複数の球状痕
跡窪みを形成することができる。
第2(A)図及び第2(B)図はこの様な場合に形成さ
れる痕跡窪みを例示したものである。
第2(A)図の例では基体用部材lの表面2の異なる部
位にほぼ同一の形状の複数の球体3をほぼ同一の高さよ
り落下させてほぼ同一の形状の複数の窪み4を互いに重
複しない程度に疎に生じセしめて凹凸を形成している。
第2(B)図の例では、基体用部材1の表面2の異なる
部位にほぼ同一形状の複数の球体3をほぼ同一の高さよ
り落下させてほぼ同一の形状の複数の窪み4を互いに重
複し合う様に密に形成して第2 (A)図の例に比較し
て凹凸の高さを小さくしている。なおこの場合、互いに
重複する窪み4の形成時期即ち球体3の基体用部材1の
表面2への衝突時期が当然のことながら互いにずれる様
に球体を自然落下させる必要がある。
この様にすれば剛体球と基体部材表面との硬度、剛体球
の径、剛体球の表面形状、落下高さ、落下球量等の条件
を適宜調整することにより基体用部材表面に所望の形状
の複数の痕跡窪みを所定密度で形成する事が出来る。
従って、前記条件を選択することにより、基体用部材表
面を鏡面に仕上げたり、あるいは非鏡面に仕上げるなど
、表面粗さ、即ち凹凸の高さやピッチ等を自在に調節で
きるし、また、使用目的に応じて所望される形状の凹凸
を形成することもできる。
更には、ボートホール管、あるいはマンドレル押出し引
抜きAI管表面の表面状態の悪さを、本発明の方法を用
いる事によって修正し、所望の表面状態に仕上げること
が出来る。これは、表面の規則な凹凸が剛体球の衝突に
より塑性変形されることによるものである。
本発明における基体用部材1は特定の表面形状を成した
剛体球により処理される。すなわち剛体球の表面形状に
おいて、斜面では連続的な曲線であるが凸部頂上の一点
においては不連続な曲線を形づくるように形成されたt
M4Q円錐状の凹凸を有しており、この特定の表面形状
を有した剛体球の基体用部材表面への衝突により基体用
部材表面に相似形の反転形状を持つ剛体球痕跡窪みを形
成できる。この様な特定の表面形状を有した剛体球痕跡
窪みは、剛体球として例えば第3A図に示す様な表面に
擬似円錐状の凹凸を有した剛体球を使用することにより
形成される。
表面に特定の形状を有する剛体球は例えば機械的加工に
より凹凸を形成する方法、エンボスや波付は等の塑性加
工処理を応用する方法、酸やアルカリによる食刻処理等
化学的法により凹凸を形成する方法等により容易に作成
出来る。またさらにこの様に凹凸を形成した剛体球表面
に電解研摩、化学研摩、仕上げ研摩等又は陽極酸化皮膜
形成、化学皮膜形成、めっき、はうろう、塗装、蒸着膜
形成、CVD法による膜形成などの表面処理を施して凹
凸形状(高さ)、硬度などを適宜調整することが出来る
本発明で使用する剛体球は、例えばステンレス、アルミ
ニウム、鋼鉄、ニッケル、真鍮等の金属、セラミック、
プラスチック等の各種剛体球を使用することができ、と
りわけ耐久性及び低コスト化の理由により、ステンレス
及び鋼鉄の剛体球が好ましい0球体の硬度は、金属体の
硬度よりも高くても低くてもよいが、球体を繰返し使用
する場合は、金属体の硬度よりも高くすることが好まし
い。
ところで本発明の方法は、いずれの材質の基体用部材に
ついても適用でき、したがってそれら基体用部材は、導
電性のものであっても、或いは電気絶縁性のものであっ
てもよい。
導電性基体用部材としては、例えば、NiCr。
ステンレス、に1.Cr、Mo、Au、Nb。
Ta、V、Ti、Pt、Pb等の金属又はこれ等の合金
が挙げられる。
電気絶縁性基体用部材としては、ポリエステル、ポリエ
チレン、ポリカーボネート、セルロース、アセテート、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
、ポリスチレン、ポリアミド等の合成樹脂のフィルム又
はシート、ガラス、セラミック、紙等が挙げられる。こ
れ等の電気絶縁性基体用部材は、好適には少な(ともそ
の一方の表面を導電処理し、該導電処理された表面側に
光受容層を設けるのが望ましい。
例えば、ガラスであれば、その表面に、NiCr。
An!、Cr、Mo、Au、I r、Nb、Ta、V。
Ti、P L、Pd、I n、o、、SnO,、ITO
(I ngo3+5n01 )等から成4 薄Hヲ設ケ
ることによって導電性を付与し、或いはポリエステルフ
ィルム等の合成樹脂フィルムであれば、NiCr、  
A1.  Ag、  Pb、  Zn、  Ni、  
Au。
Cr、  Mo、  I  r、  Nb、  Ta、
  V、  Tjl、  Pt等の金属の薄膜を真空蒸
着、電子ビーム蒸着、スパッタリング等でその表面に設
け、又は前記金属でその表面をラミネート処理して、そ
の表面に導電性を付与する。
基体用部材の形状は、円筒状、ベルト状、板状等任意の
形状であることができるが、用途、所望によって、その
形状は適宜に決めることのできるものである。例えば、
連続高速複写、電子写真用像形成部材として使用する場
合には、無端ベルト状又は円筒状とするのが望ましい。
基体用部材の厚さは、所望通りの光受容部材を形成しう
る様に適宜決定するが一光受容部材として可撓性が要求
される場合には、基体用部材としての機能が充分発揮さ
れる範囲内で可能な限り薄くすることができる。しかし
ながら、基体用部材の製造上及び取扱い上、機械的強度
等の点から、通常は、10μ以上とされる。
本発明の方法の内容を必要に応じ図面を用いて以下に説
明する。第4(A)乃至(B)図は本発明の方法を実施
するについて使用する好ましい装置の一例を模式的に示
すものである。
第4(A)図及び第4(B)図において、11は基体用
部材作成用の例えばアルミニウムシリンダーである。シ
リンダー11は例えば引抜管のままでもよいし、適度に
表面精度を仕上げられていてもよい。
シリンダー11は、回転軸(受)12に軸支され、モー
フ等の適宜の駆動手段13で駆動され、ほぼ軸芯のまわ
りで回転可能とされている。
14は軸受12に軸支され、シリンダー11と同一の方
向に回転される回転容器であり、多数の、表面に特定の
凹凸を有する剛体球15を収容している。
剛体球15は、容器14内壁から突出した複数のリブ1
6に担持され、且つ容器14の回転によって容器上部ま
で輸送され、シリンダー11上に向は落下する。
回転速度及びシリンダー11、剛体球15を保持する回
転容器14の径は、形成する痕跡窪みの密度及び剛体球
の供給量等を考慮して適宜に決定され制御される。
回転容器14を回転させると適度の回転速度の時に容器
壁に付いて輸送される剛体球15は落下し、シリンダー
11に衝突し、その表面に痕跡窪みを形成し凹凸を生じ
せしめる。
なお、容器14の壁に均一に孔を穿っておき、回転時に
容器14外部のシャワー管17より洗浄液を噴射する機
構にし、シリンダー11と剛体球15及び回転容器14
を洗浄する様に構成することもできる。この場合、剛体
球同志、又は剛体球と回転容器との接触により生ずる静
電気によって付着するゴミ等を回転容器外へ洗い出すこ
とになり、所望の基体用部材を作製できる。
又、上記洗浄液として、乾燥むら、あるいは液だれを防
ぐため、不揮発性物質単独、又は、トリエタン、トリク
レン等の通常洗浄液との混合液を用いるのが好ましい。
上記の構成により作製された本発明による基体用部材は
、電子写真感光体、特にレーザー用電子写真感光体とし
て本発明の基体用部材の上に電子写真用光受容層を形成
した場合画像性能において極めて優れており、特に干渉
縞防止効果上は特筆すべきものである。
本発明における優れた干渉縞防止効果は基体用部材表面
に特定の形状を存する球状痕跡窪みを形成させることに
より達成される。
第3(A)図で示した特定の表面形状、すなわち擬似円
錐形状を有する剛体球は模式的には、第3 (B)図に
示す断面形状を成しているものである。特に本発明では
第3(B)図に類型化した様な断面形状を持たせること
が特に重要である。第3(B)図は凸部を形成する擬似
円錐底面の直径における断面図であり、aは凹部の最深
部、bは頂部をそれぞれ示す。
本発明においては本図で示されるように1つの凸部を形
成する斜面が、他の部分では略述続的な曲線を形づくる
一方、b点の一点において不連続となるように凸部を形
成することが非常に重要なポイントとなる。このような
凸部形状の頻まれなる干渉防止作用の本質は定かではな
いが、入射光の光路長の単位水平距離当たりの変化量の
関係か又は、この上に形成される光受容部材の成長機構
を修飾するためか、さらにはこれらの複合効果によるも
のなのか、いずれにしても干渉環の閉じ込め効果が増加
するのは明らかで、干渉縞模様の微小、分散化が促進さ
れマクロ画像の平均化がなされるためと推測される。
このような形状の寸法因子とし7ては、擬似円錐底部直
径(第3(B)図L)はなるべく小さい方が良いが、3
00μm以下であれば実質的に干渉縞の閉じ込め領域が
目で識別できないため十分である。凸部斜面及び頂部は
それぞれできるだけ急しゅんで尖っているのが干渉縞防
止作用に対しては効果的だが、あまり突出が強すぎると
画像欠陥その他の遠因になるため好ましくなく、また突
出が弱すぎても作用が落ちるため、実用的には擬似円錐
底部直径に対して11500〜115 (第3(B)図
h/Lの関係)程度とするのが好ましい。
又、第3 (A)図はy1位円錐底部を真円形として示
したが、頂部を有し、本発明のクレームを充たす内容で
あればだ円形、又は雲形のような不定形であってもさし
つかえない。
本発明において好ましい特定の表面形状を有する剛体球
により得られた剛体球痕跡窪みを有する基体用部材1の
模式的断面の具体例を第5(A)乃至(C)図に示す。
第5(A)図は第3(A)乃至(B)図に示した形状の
剛体球により形成されたものであり、第5 (B)図は
第5(B)図に使用した剛体球表面擬似円錐斜面の凹凸
が逆の形状である剛体球により形成されたものである。
さらに第5(C)[fflは、さらに複雑な擬似円錐形
状を有した剛体球により形成された基体用部材である。
この様な本発明による特定の形状を有する剛体球痕跡窪
みを有する基体部材は、金属組織中に金属間化合物、金
属酸化物等の介在は全く無く、そして空孔の介在もなく
、且つまた粒界段差といった表面欠陥のないものである
と同時に前記基体部材上に電子写真用光受容層を形成し
、レーザー用電子写真光受容部材として用いた場合、そ
れは干渉防止効果の点で極めて優れた性能を有したもの
となり、高品質な画像を与えるものである。
本発明の光導電部材においては、基体用部材上に、例え
ば有機光導電体から成る感光層を設ける場合、この感光
層を電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離させることが
できる。また、これら感光層と基体用部材との間には、
例えば感光層から基体用部材へのキャリア注入を阻止す
るためや感光層と基体用部材との接着性を改良するため
に、例えば有機樹脂から成る中間層を設けることができ
る。電荷発生層は、例えば、従来公知のアゾ顔料、キノ
ン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔
料、ビスヘンヅイミダヅール顔料、キナクドリン顔料、
特開昭57− + 65263号に記載されたアズレン
化合物、無金属フタロシアニン顔料(metalfre
e phthalocyanine) =金属イオンを
含むフタロシアニン顔料等の1種もしくは2種以上を電
荷発生物質とし、ポリエステル、ボリスチレン、ポリビ
ニールブチラール、ポリビニールピロリドン、メチルセ
ルロース、ポリアクリル酸エステル類、セルロースエス
テルなどの結着剤樹脂中に有機溶剤を用いて分散し、塗
布して形成される。組成は、例えば電荷発生物質100
重量部に対して、結着剤樹脂20〜300重量部とされ
る。電荷発生層の層厚は、0.01〜1.0μmの範囲
が望ましい。
また、電荷輸送層は、例えば主鎖又は側鎖にアントラセ
ン、ピレン、フェナントレン、コロネンなどの多環芳香
族化合物、又はインドール、オキサゾール、イソオキサ
ゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキ
サジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾ
ールなどの含窒素環式化合物を有する化合物、ヒドラゾ
ン化合物等の正札輸送物質をポリカーボネート、ポリメ
タクリル酸エステル類、ボリアリレート、ポリスチレン
、ポリエステル、ポリサルホン、スチレン−アクリロニ
トリルコポリマー、スチレンーメククリル酸メチルコポ
リマーなどの結着剤樹脂中に有機溶剤を用いて分散し、
塗布して形成される。電荷輸送層の厚みは、5〜20μ
mとされる。
又、前記電荷止層と電荷輸送層とを積層させる場合、層
順は任意であり、例えば基体用部材側がら、電荷発生層
、電荷輸送層の順で積層させることができるし、あるい
は、これとは逆の層順とすることもできる。
又、前述の感光層としては、以上に限らず、例えばI 
B M  Journal of the Re5er
arch andDevelopment +  19
71年1月、pp75〜89に開示されたポリビニール
カルバゾールとトリニトロフルオレノンからなる電荷移
動錯体、米国特許第4395183号、同第43271
69号公報などに記載されたピリリウム系化合物を用い
た感光層、あるいはよく知られている酸化亜鉛、硫化カ
ドミウムなどの無機光導電物質を樹脂中に分散含有させ
た感光層や、セレン、セレン−テルルなどの蒸着フィル
ム、あるいはケイ素原子を含む非晶質材料から成る膜体
等を使用することも可能である。
このうち、感光層とし゛てケイ素原子を含む非晶質材料
から成る膜体を用いた光導電部材は、前述した様な本発
明に係る基体用部材上に、例えば電荷注入阻止層、感光
層(光導電層)、及び表面保護層を順次積層した構成を
有する。
電荷注入阻止層は、例えば水素原子及び/又はハロゲン
原子を含有するアモルファスシリコン(a−3i)で構
成されると共に、伝導性を支配する物質として、通常半
導体の不純物として用いられる周期率表第■族乃至は第
■族に属する元素の原子が含有される。電荷注入阻止層
の層厚は、好ましくは0.01〜10μm、より好適に
は0.05〜8μm、最適には0.07〜5μmとされ
るのが望ましい。
電荷注入阻止層の代わりに、例えばAj!、0.。
S iog 、S 1sNa 、ポリカーボネート等の
電気絶縁材料から成る障壁層を設けてもよいし、あるい
は電荷注入阻止層と障壁層とを併用することもできる。
感光層は、例えば水素原子とハロゲン原子を含有するa
−3tで構成され、所望により電荷注入阻止層に用いる
のとは別種の伝導性を支配する物質が含有される。感光
層の層厚は、好ましくは1〜100μm1より好適には
1〜80μm1最適には2〜50μmとされるのが望ま
しい。
表面保護層は、例えば5iCx、SiNx等で構成され
、層厚は、好ましくは0.01〜10μm1より好適に
は0.02〜5μm、最適には0.04〜5μmとされ
るのが望ましい。
本発明において、a−3tで構成される光導電層等を形
成するには、例えばグロー放電法、スパッタリング法、
あるいはイオンブレーティング法等の従来公知の種々の
放電現象を要する真空堆積法が適用される。
以下に実施例を挙げて本発明につき更に詳細に説明する
が、本発明はこれにより限定されるものではない。
天井」ロユ」Uえ針上 径5.01■のSUSステンレス製剛製球体球表面波加
工にて第6(A)図に示した擬似円錐形凹凸を形成させ
た。この剛体球を使用して第4(A)図及び第4(B)
図に示した装置を用い、円筒状アルミニウム合金製シリ
ンダー(径80鰭、長さ3580)の表面を処理し、シ
リンダー表面に剛体球痕跡窪みによる凹凸を形成させた
。痕跡窪みによる凹凸の深さは落下高さHにより又痕跡
窪みのピッチ(密度)は剛体球の使用量及び処理時間を
制御して所望の形状に調整した。一方、比較用として径
0.3fiのSUSステンレン製剛体真球を使用した以
外は、実施例と同様の装置にてシリンダー表面に剛体球
痕跡窪みによる凹凸を形成させた。これらの表面を光学
顕微鏡で観察したところ、共に平面を余すことなく万遍
に球状痕跡窪みが形成されていることが判った。
この様にして得られた円筒状表面加ニジリンダ−をグロ
ー放電法の成膜室に導入し、その上に、下表に記載の条
件で成膜を行い、電子写真感光体ドラムを製造した。
得られた2本の感光体ドラムをキャノンレーザーコピア
NP9030にセットし、波長780nm、スポット径
80μmのレーザーを用いた通常の条件下で、オリジナ
ル原稿にキャノンNA−7テストチヤートを用いて画像
露光を行い、現像、転写を行って画像を得、得られた画
像について観察したところ、ともに、干渉縞の発生のま
ったくみられない優れた画像であることがわがった。
次にオリジナル原稿を白黒の銀塩写真のものに変えて同
様に行ったところ、こちらについても干渉縞が共に識別
できない程度の優れた画像であることがわかった。
最後にオリジナル原稿を干渉縞をもっとも敏感に検出で
きる反射濃度0.3のハーフトーンベタ画像に変えて同
様に行ったところ、本発明の凹凸形状を表面に持つドラ
ムの方は干渉縞がほとんど識別できなかったのに対し、
真球状の凹凸形状を表面に持つドラムの方は、軽微では
あるが、目ではっきり識別できる程度の干渉縞が観察さ
れた。
大嵐班l 剛体球表面形状を第6(B)図のように変えた以外は実
施例1と同様にして円筒状表面加ニジリンダ−を得、同
様の表面観察、画像評価を行ったが、いずれの項目につ
いても実施例1と同等の良好な結果を得た。
〔本発明の効果の概略〕
本発明の表面処理基体用部材によれば所望の使用特性を
損なう表面欠陥を生じやすい切削加工を伴わずに表面処
理がなされ、例えば、この基体用部材を光導電部材の支
持体として用いると、成膜の均一性、電気的、光学的乃
至は光導電的特性の均一性に優れた光導電部材が得られ
、特に、電子写真感光用として用いた場合、画像欠陥が
少なく、高品質の画像、特にレーザー光等の可干渉光を
用いた場合には、干渉縞のない優れた画像を得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は、本発明を構成する剛体球及び基体
用部材の関係を示す模式図である。第3(A)乃至(B
)図は本発明の表面処理用剛体球の表面形状を説明する
ための代表的表面形状及び断面図である。第4(A)乃
至(B)図は本発明の球状痕跡富みを形成された基体用
部材を製造するための装置の模式横断面図及び模式縦断
面図である。第5 (A)(B)乃至(C)図は本発明
による代表的な球状痕跡窪みを形成された基体用部材の
断面図である。第6(A)乃至(B)図は本発明の実施
例に用いた剛体球表面に形成された凹凸の具体的形状、
寸法の説明図である。 各図において、l・・・基体用部材、2・・・基体用部
材表面、3・・・剛体球、4・・・球状痕跡窪み、11
・・・アルミニウムシリンダー、12・・・軸受け、1
3・・・駆動手段、14・・・回転容器、15・・・剛
体球、16・・・リプ、17・・・シャワー管。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸を有し、該球
    状痕跡窪みによる凹凸の形状が、その斜面において連続
    的な曲線を成し、該斜面が収斂する凹部頂点の一点にお
    いて不連続な曲線を形成しているものであることを特徴
    とする電子写真感光体用基体部材。 2、前記凹凸形状が、ほぼ同一の曲率及び幅の窪みによ
    り形成されたものである、特許請求の範囲第1項記載の
    電子写真感光体用基体部材。 3、表面に万遍なく一定形状の凹凸を有し、それぞれの
    凸部が断面において連続的曲線を形成する斜面を有し、
    該斜面が収斂する凹部で不連続な曲線を形成している剛
    体球を複数個自然落下させて基体部材の表面に該剛体球
    の痕跡窪みによる凹凸を形成せしめることを特徴とする
    、表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸を有し、該球状
    痕跡窪みによる凹凸の形状が、その斜面において連続的
    な曲線を成し、該斜面が収斂する凹部頂点の一点におい
    て不連続な曲線を形成してなる電子写真感光体用基体部
    材の製造方法。
JP32385387A 1987-12-23 1987-12-23 表面加工された電子写真感光体用基体部材及びその製造方法 Pending JPH01167761A (ja)

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