JPS63209995A - 光学的情報記録媒体 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 25
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 abstract description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 abstract description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- -1 O13 Inorganic materials 0.000 description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 33
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 26
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052686 Californium Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100208039 Rattus norvegicus Trpv5 gene Proteins 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 1,3,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)CC(F)(F)F TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVSHLNMRFJNXRQ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-1-ethylpyrazolidin-1-ium Chemical group CCCCCCCCCCCC[N+]1(CC)CCCN1 VVSHLNMRFJNXRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFYRIXSGFSWFAQ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyridin-1-ium Chemical group CCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 FFYRIXSGFSWFAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFOJDQXHEJWCNA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-hexadecylpiperidin-1-ium Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1(CC)CCCCC1 KFOJDQXHEJWCNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORIHZIZPTZTNCU-VMPITWQZSA-N 2-[(E)-hydroxyiminomethyl]phenol Chemical compound O\N=C\C1=CC=CC=C1O ORIHZIZPTZTNCU-VMPITWQZSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical group C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOGKALCNLBMSGI-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3h-dithiole Chemical compound S=S1CC=CS1 XOGKALCNLBMSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMTFLSQHQSFNTE-UHFFFAOYSA-O 3-dodecyl-1h-imidazol-3-ium Chemical group CCCCCCCCCCCCN1C=C[NH+]=C1 JMTFLSQHQSFNTE-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFUFXTUSTQVXEA-UHFFFAOYSA-N B.CNC.[Na] Chemical class B.CNC.[Na] VFUFXTUSTQVXEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000650578 Salmonella phage P22 Regulatory protein C3 Proteins 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001040920 Triticum aestivum Alpha-amylase inhibitor 0.28 Proteins 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004656 alkyl sulfonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000005140 aralkylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000005098 aryl alkoxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004659 aryl alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- NEUSVAOJNUQRTM-UHFFFAOYSA-N cetylpyridinium Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 NEUSVAOJNUQRTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- IZLAVFWQHMDDGK-UHFFFAOYSA-N gold(1+);cyanide Chemical compound [Au+].N#[C-] IZLAVFWQHMDDGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001411 inorganic cation Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052945 inorganic sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N methanol;propan-2-one Chemical compound OC.CC(C)=O NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L nickel chloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Ni+2] LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical class [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical compound OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- HKSGQTYSSZOJOA-UHFFFAOYSA-N potassium argentocyanide Chemical compound [K+].[Ag+].N#[C-].N#[C-] HKSGQTYSSZOJOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(1+);dicyanide Chemical compound [K+].[Au+].N#[C-].N#[C-] XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 125000002755 pyrazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- LFAGQMCIGQNPJG-UHFFFAOYSA-N silver cyanide Chemical compound [Ag+].N#[C-] LFAGQMCIGQNPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098221 silver cyanide Drugs 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M sodium;9,10-dioxoanthracene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)[O-] SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、有機色素薄膜を有し、高密度エネルギービー
ムによって状態変化を生せしめることにより記録及び再
生を行なうヒートモードの光学的情報記録媒体に関する
。
ムによって状態変化を生せしめることにより記録及び再
生を行なうヒートモードの光学的情報記録媒体に関する
。
従来、回転している円盤状の情報記録媒体にレーザービ
ームを照射して情報の記録及び再生を行なう情報記録媒
体が知られている。このような記録媒体の記録層として
は低融点金属または低融点金属と誘電体を用いるものな
どが提案されている。
ームを照射して情報の記録及び再生を行なう情報記録媒
体が知られている。このような記録媒体の記録層として
は低融点金属または低融点金属と誘電体を用いるものな
どが提案されている。
しかしこれらは保存性が悪い、分離能が低い、記録密度
が低い、製造コストが高いなどの欠点があった。近年、
比較的長波長の光で物性変化し得る色素薄膜を記録層に
用いることが提案され、また実施されてはいるが、一般
に長波長に吸収帯を有する色素は熱および光に対する安
定性が低いなどの問題点があり、必ずしも長期にわたっ
て安定して満足すべき記録特性を有する記録層が開発さ
れていないのが現状である。
が低い、製造コストが高いなどの欠点があった。近年、
比較的長波長の光で物性変化し得る色素薄膜を記録層に
用いることが提案され、また実施されてはいるが、一般
に長波長に吸収帯を有する色素は熱および光に対する安
定性が低いなどの問題点があり、必ずしも長期にわたっ
て安定して満足すべき記録特性を有する記録層が開発さ
れていないのが現状である。
したがって本発明の目的は、十分な記録特性を長期にわ
たって維持し得るような安定性に優れた色素記録層を有
する光学的情報記録媒体を提供することである。
たって維持し得るような安定性に優れた色素記録層を有
する光学的情報記録媒体を提供することである。
本発明の目的は、レーザー光線によって記録、再生、消
去を行なうための光学的情報記録媒体であって、基板上
に、オキソノール色素を担持せしめたことを特徴とする
光学的情報記録媒体により達成された。
去を行なうための光学的情報記録媒体であって、基板上
に、オキソノール色素を担持せしめたことを特徴とする
光学的情報記録媒体により達成された。
本発明に用いられるオキソノール色素は、カルボニル基
とヒドロキシ基が互いに、置換されていてもよいポリメ
チン鎖で連結された化合物であって可視光ないし近赤外
光を吸収し得る化合物である。これらのオキソノール色
素の例は従来知られているものも多く、例えば、特公昭
43−13168号、同51−4419号、同53−2
8085号、同55−10060号、同55−1006
1号、同55−10187号、同55−10899号、
特開昭50−145125号、同55−33104号、
米国特許第3.649.465号、または英国特許第1
.338.799号などに記載されている。
とヒドロキシ基が互いに、置換されていてもよいポリメ
チン鎖で連結された化合物であって可視光ないし近赤外
光を吸収し得る化合物である。これらのオキソノール色
素の例は従来知られているものも多く、例えば、特公昭
43−13168号、同51−4419号、同53−2
8085号、同55−10060号、同55−1006
1号、同55−10187号、同55−10899号、
特開昭50−145125号、同55−33104号、
米国特許第3.649.465号、または英国特許第1
.338.799号などに記載されている。
本発明で用いられるオキソノール色素のうち特に好まし
いものは下記一般式(1)で示されるものである。
いものは下記一般式(1)で示されるものである。
一般式(I)
〔式中、YSZは炭素環もしくは複素環を形成するのに
必要な原子団を表わし、Lは置換されていてもよいメチ
ン基、または共役二重結合で連結された置換されていて
もよいポリメチン鎖を完成する原子団を表わし、A、、
Qは共役二重結合鎖を完成する原子団を表わし、m、n
はそれぞれ独立に0または1を表わす。〕 YまたはZで完成される環は好ましくは4.5.6.7
員環であり、さらに他の4.5.6.7員環と縮合環を
形成していてもよ(、置換基を有していてもよい。
必要な原子団を表わし、Lは置換されていてもよいメチ
ン基、または共役二重結合で連結された置換されていて
もよいポリメチン鎖を完成する原子団を表わし、A、、
Qは共役二重結合鎖を完成する原子団を表わし、m、n
はそれぞれ独立に0または1を表わす。〕 YまたはZで完成される環は好ましくは4.5.6.7
員環であり、さらに他の4.5.6.7員環と縮合環を
形成していてもよ(、置換基を有していてもよい。
YまたはZで完成される複素環を形成するヘテロ原子と
して好ましいものは、B、N、01S1SeSTeであ
る。
して好ましいものは、B、N、01S1SeSTeであ
る。
YもしくはZで表わされる原子団のうち、炭素環を形成
するものとしては例えば以下のものが挙1fられる。
するものとしては例えば以下のものが挙1fられる。
+C)Iz)i ÷CH,)−、、−CH=CH−、
−CH=C1l−CH=[”H−1YもしくはZで表わ
される原子団のうち複素環を形成するものとしては、例
えば以下のものが挙げられる。
−CH=C1l−CH=[”H−1YもしくはZで表わ
される原子団のうち複素環を形成するものとしては、例
えば以下のものが挙げられる。
1< RRは、置換
されていてもよいアルキル基(ベンジル基も含む)また
は置換されていてもよいアリール基を表わす。
されていてもよいアルキル基(ベンジル基も含む)また
は置換されていてもよいアリール基を表わす。
YもしくはZで表わされる原子団のうち特に好ましいも
のは5員もしくは6員の複素環を完成し得るものであり
、B、N、O13,Se、 Teのうちから選ばれる少
なくとも1種のへテロ原子を含むものである。
のは5員もしくは6員の複素環を完成し得るものであり
、B、N、O13,Se、 Teのうちから選ばれる少
なくとも1種のへテロ原子を含むものである。
して表わされる連結基としては、特に一般式(a)ない
しく社)で表わされるものが好ましい。
しく社)で表わされるものが好ましい。
一般式(a)
札H−CH岸CH−(i =C)I fcH=CH)−
i−一般式ら) =CH−CH=C−C8−C1l − 一般式(C) 一般式(e) ■ 一般式(f) 一般式((イ) 一般式婦) 一般式(a)ないしく社)においてYは水素原子または
、1価の基を表わし、pおよびqは独立に0もしくは1
を表わす。この場合、1価の基としては、メチル基など
の低級アルキル基、メトキシ基などの低級アルコキシ基
、ジメチルアミン基、ジフェニルアミノ基、メチルフェ
ニルアミノ基、モルフォリノ基、イミダゾリジノ基、エ
トキシ力ルポニルビベラジノ基などのジ置換アミ7基、
アセトキシ基などのアルキルカルボニルオキシ基、メチ
ルチオ基などのアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、
F、、Cf、Brなどのハロゲン原子などが好ましい。
i−一般式ら) =CH−CH=C−C8−C1l − 一般式(C) 一般式(e) ■ 一般式(f) 一般式((イ) 一般式婦) 一般式(a)ないしく社)においてYは水素原子または
、1価の基を表わし、pおよびqは独立に0もしくは1
を表わす。この場合、1価の基としては、メチル基など
の低級アルキル基、メトキシ基などの低級アルコキシ基
、ジメチルアミン基、ジフェニルアミノ基、メチルフェ
ニルアミノ基、モルフォリノ基、イミダゾリジノ基、エ
トキシ力ルポニルビベラジノ基などのジ置換アミ7基、
アセトキシ基などのアルキルカルボニルオキシ基、メチ
ルチオ基などのアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、
F、、Cf、Brなどのハロゲン原子などが好ましい。
なおして表わされる連結基のうち特に好ましいものは一
般式(a)もしくはい)で表わされるものであり、とく
にYが水素原子を表わし、pもしくはqのうち少なくと
も一方が0を表わすものである。
般式(a)もしくはい)で表わされるものであり、とく
にYが水素原子を表わし、pもしくはqのうち少なくと
も一方が0を表わすものである。
一般式(I)におけるり、Y、またはZ上の置換基とし
て好ましいものは、炭素原子数30以下のものであって
、以下に挙げる基の中から選ばれ、これらの基はさらに
置換基を有していてもよい。
て好ましいものは、炭素原子数30以下のものであって
、以下に挙げる基の中から選ばれ、これらの基はさらに
置換基を有していてもよい。
すなわち、アルキル基、アラルキル基、アリール基、ヒ
ドロキシ基、F、Cf、Br、I、シアノ基、ニトロ基
、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ
基、アシル基、アシロキシ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、アリールオキシカルボニル基、アラルキル
オキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、カルボキシ基もしくはカ
ルボキシラド基、スルホン酸基もしくはスルホナト基、
カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アル
キルスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アルキル
スルホニル基、アルキルスルフィニル基、アラルキルス
ルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルチオ
基、アラルキルチオ基、またはアリールチオ基である。
ドロキシ基、F、Cf、Br、I、シアノ基、ニトロ基
、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ
基、アシル基、アシロキシ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、アリールオキシカルボニル基、アラルキル
オキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、カルボキシ基もしくはカ
ルボキシラド基、スルホン酸基もしくはスルホナト基、
カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アル
キルスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アルキル
スルホニル基、アルキルスルフィニル基、アラルキルス
ルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルチオ
基、アラルキルチオ基、またはアリールチオ基である。
以下に本発明で用いられるオキソノール色素の具体例を
挙げるが、本発明の範囲はこれらのみに限定されるもの
ではない。
挙げるが、本発明の範囲はこれらのみに限定されるもの
ではない。
1゜
l01
U Uil
l。
l。
12゜
13゜
14゜
15゜
16゜
17゜
18゜
Hi
19゜
20゜
21゜
22゜
23゜
25゜
26.
27゜
[:Js シJs
28゜ 30゜ 31゜ 32゜ 33゜ 34゜ 35゜ 本発明において用いられるオキソノール色素は一般に活
性メチレン化合物をオルトエステルや反応させて、メチ
レン鎖で連結することにより合成できる。より具体的に
は、特公昭39−22069号、同43−3504号、
同52−38056号、同54−38129号、同55
−10059号、特開昭49−99620号、同59−
16834号、あるいは米国特許第4.181.225
号などに記載されている方法を利用して合成することが
できる。
28゜ 30゜ 31゜ 32゜ 33゜ 34゜ 35゜ 本発明において用いられるオキソノール色素は一般に活
性メチレン化合物をオルトエステルや反応させて、メチ
レン鎖で連結することにより合成できる。より具体的に
は、特公昭39−22069号、同43−3504号、
同52−38056号、同54−38129号、同55
−10059号、特開昭49−99620号、同59−
16834号、あるいは米国特許第4.181.225
号などに記載されている方法を利用して合成することが
できる。
以下に、合成した代表的な化合物の融点を示す。
表
本発明の光記録媒体において用いられるオキソノール色
素は単独で用いても、2種以上併用してもよく、あるい
は本発明のオキソノール色素以外の色素と併用して用い
てもよい。また読取り耐久性向上のため種々の酸化防止
剤や一重項酸素クエンチャ−を併用することも有効であ
る。また、種々の樹脂を併用してもよい。
素は単独で用いても、2種以上併用してもよく、あるい
は本発明のオキソノール色素以外の色素と併用して用い
てもよい。また読取り耐久性向上のため種々の酸化防止
剤や一重項酸素クエンチャ−を併用することも有効であ
る。また、種々の樹脂を併用してもよい。
あるいは遷移金属イオンを添加してキレートを形成させ
て用いることにより耐久性を増すこともできる。
て用いることにより耐久性を増すこともできる。
本発明の光記録媒体に使用されるクエンチャ−としては
、種々のものを用いることができる。このようなりエン
チャーとしては、再生劣化を低下させ、色素との相溶性
が良好な遷移金属錯体が好ましい。この場合、中心金属
として好ましいものは、Ni、 Co、Cu、 Pd、
Ptなどである。
、種々のものを用いることができる。このようなりエン
チャーとしては、再生劣化を低下させ、色素との相溶性
が良好な遷移金属錯体が好ましい。この場合、中心金属
として好ましいものは、Ni、 Co、Cu、 Pd、
Ptなどである。
新規なりエンチャーの例としては次の一般式(II)ま
たは(III)で示されるものがあげられる。
たは(III)で示されるものがあげられる。
(式中、ccat+”+およびCCatz:]は錯体を
中性ならしめるために必要な陽イオンを示し、Mlおよ
びM2はニッケル、銅、コバルト、パラジウムまたは白
金を示す。nは1または2を示す。)前記一般式(n)
または〔■〕で表わされる化合物において、(Cat、
]または(Cat2〕で表わされる陽イオンのうち無機
陽イオンとしては、アルカリ金属(たとえば、Li、
NaJKなど)、アルカリ土類金属(Mg、 (:a、
Baなど)もしくはNH4−をあげることができる。
中性ならしめるために必要な陽イオンを示し、Mlおよ
びM2はニッケル、銅、コバルト、パラジウムまたは白
金を示す。nは1または2を示す。)前記一般式(n)
または〔■〕で表わされる化合物において、(Cat、
]または(Cat2〕で表わされる陽イオンのうち無機
陽イオンとしては、アルカリ金属(たとえば、Li、
NaJKなど)、アルカリ土類金属(Mg、 (:a、
Baなど)もしくはNH4−をあげることができる。
また有機陽イオンとしては、第四級アンモニウムイオン
または第四級ホスホニウムイオンをあげることができる
。
または第四級ホスホニウムイオンをあげることができる
。
上記の陽イオンccat+〕および(Cat、)の中で
好ましいのは下記の一般式(IV−a)、(TV−b)
(rV−c)、(IV−d)もしくは(rV−e)で表
わされるものである。
好ましいのは下記の一般式(IV−a)、(TV−b)
(rV−c)、(IV−d)もしくは(rV−e)で表
わされるものである。
式中、R′1、R12、Rl 3、R目、R”% R1
6、R”、R18、RI9、R”、R”およびR22は
それぞれ炭素数1ないし20の置換もしくは無置換のア
ルキル基、または炭素数6ないし14の置換もしくは無
置換のアリール基を表わし、ZlおよびZ2は各式中の
窒素またはリン原子と結合して5員または6員環を形成
する非金属原子群を表わす。
6、R”、R18、RI9、R”、R”およびR22は
それぞれ炭素数1ないし20の置換もしくは無置換のア
ルキル基、または炭素数6ないし14の置換もしくは無
置換のアリール基を表わし、ZlおよびZ2は各式中の
窒素またはリン原子と結合して5員または6員環を形成
する非金属原子群を表わす。
この炭素数1ないし20の置換もしくは無置換のアルキ
ル基として、たとえばメチル基、エチル基、n−ブチル
基、1so−アミル基、n−ドデシル基、n−オクタデ
シル基などをあげることができる。炭素数6ないし14
のアリール基としては、たとえばフェニル基、トリル基
、α−ナフチル基などをあげることができる。
ル基として、たとえばメチル基、エチル基、n−ブチル
基、1so−アミル基、n−ドデシル基、n−オクタデ
シル基などをあげることができる。炭素数6ないし14
のアリール基としては、たとえばフェニル基、トリル基
、α−ナフチル基などをあげることができる。
これらのアルキル基またはアリール基はシアノ基、水酸
基、炭素数1ないし20のアルキル基〈たとえばメチル
基、エチル基、n−ブチル基、n−オクチル基など)、
炭素数6ないし14のアリール基(たとえば、フェニル
基、トリル基、α−ナフチル基など)、炭素数2ないし
20のアシルオキシ基(たとえばアセトキシ基、ベンゾ
イルオキシ基またはp−メトキシベンゾイルオキシ基な
ど)、炭素数1ないし6のアルコキシ基(たとえばメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基など)
、アリーロキシ基(たとえば、フェノキシ基、トリロキ
シ基など)、アラルキル基(たとえば、ベンジル基、フ
ェネチル基またはアニシル基など)、アルコキシカルボ
ニル基(タトえば、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、n−ブトキシカルボニル基など)、アリー
ロキシカルボニル基(たとえば、フェノキシカルボニル
基、トリロキシカルボニル基など)、アシル基(たとえ
ば、アセチル基、ベンゾイル基など)、アシルアミノ基
(たとえば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基な
ど)、カルバモイル基(りとえば、N−エチルカルバモ
イルL N−フェニルカルバモイル基すど)、アルキル
スルホニルアミノ基(たとえば、メチルスルホニルアミ
ノ基、フェニルスルホニルアミノ基ナト)、スルファモ
イル基(たとえば、N−エチルスルファモイル基、N−
フェニルスルファモイル基など)、スルホニル基(たと
えば、メシル基、トシル基など)などで置換されていて
もよい。
基、炭素数1ないし20のアルキル基〈たとえばメチル
基、エチル基、n−ブチル基、n−オクチル基など)、
炭素数6ないし14のアリール基(たとえば、フェニル
基、トリル基、α−ナフチル基など)、炭素数2ないし
20のアシルオキシ基(たとえばアセトキシ基、ベンゾ
イルオキシ基またはp−メトキシベンゾイルオキシ基な
ど)、炭素数1ないし6のアルコキシ基(たとえばメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基など)
、アリーロキシ基(たとえば、フェノキシ基、トリロキ
シ基など)、アラルキル基(たとえば、ベンジル基、フ
ェネチル基またはアニシル基など)、アルコキシカルボ
ニル基(タトえば、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、n−ブトキシカルボニル基など)、アリー
ロキシカルボニル基(たとえば、フェノキシカルボニル
基、トリロキシカルボニル基など)、アシル基(たとえ
ば、アセチル基、ベンゾイル基など)、アシルアミノ基
(たとえば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基な
ど)、カルバモイル基(りとえば、N−エチルカルバモ
イルL N−フェニルカルバモイル基すど)、アルキル
スルホニルアミノ基(たとえば、メチルスルホニルアミ
ノ基、フェニルスルホニルアミノ基ナト)、スルファモ
イル基(たとえば、N−エチルスルファモイル基、N−
フェニルスルファモイル基など)、スルホニル基(たと
えば、メシル基、トシル基など)などで置換されていて
もよい。
またzlおよびZ2は前記のように5員環または6員環
を形成するのに必要な非金属原子群を表わす。これらの
5員環もしくは6員環としては、ピリジン環、イミダゾ
ール環、ビロール環、2−ピロリン環、ピロリジン環、
ピペリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、イミダシ
リン環などをあげることができる。一般式(IV−b)
で表わされるカチオンとしては、たとえばドデシルピリ
ジニウム基、ヘキサデシルピリジニウム基、ドデシルイ
ミダゾリウム基などをあげることができる。
を形成するのに必要な非金属原子群を表わす。これらの
5員環もしくは6員環としては、ピリジン環、イミダゾ
ール環、ビロール環、2−ピロリン環、ピロリジン環、
ピペリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、イミダシ
リン環などをあげることができる。一般式(IV−b)
で表わされるカチオンとしては、たとえばドデシルピリ
ジニウム基、ヘキサデシルピリジニウム基、ドデシルイ
ミダゾリウム基などをあげることができる。
一般式(IV−c)で表わされるカチオンとしては、た
とえば、N−エチル−N−ヘキサデシルピペリジニウム
基、N−エチル−N−ドデシルピラゾリジニウム基など
をあげることができる。
とえば、N−エチル−N−ヘキサデシルピペリジニウム
基、N−エチル−N−ドデシルピラゾリジニウム基など
をあげることができる。
上記の一般式(IV−a)、(rV−b)、(rV−C
)、(I’V−d)および(IV−e)で表わされる陽
イオンの中で、本発明に特に好ましく用いられるものは
、製造原料の人手し易さ、製造コストの点で、(IV−
a)、(rV−b)、(IV−d)右よび(IV−e)
である。
)、(I’V−d)および(IV−e)で表わされる陽
イオンの中で、本発明に特に好ましく用いられるものは
、製造原料の人手し易さ、製造コストの点で、(IV−
a)、(rV−b)、(IV−d)右よび(IV−e)
である。
この陽イオン(Cat、)および[Cat2’]の種類
は、前記一般式〔■〕またはCI[I]で表わされる化
合物の有機溶媒に対する溶解性に影響を及ぼす。
は、前記一般式〔■〕またはCI[I]で表わされる化
合物の有機溶媒に対する溶解性に影響を及ぼす。
一般::、第四級へテロ原子に結合する置換基がアルキ
ル基のとき、その鎖長が長くなるほど溶解度が高くなり
、特にテトラアルキル置換アンモニウムもしくはホスホ
ニウムの場合この傾向が著しく、アンモニウムカチオン
の場合は炭素数の合計が17以上のカチオンが、またホ
スホニウムカチオンの場合は炭素数の合計が4以上のカ
チオンが高い溶解性を与える。
ル基のとき、その鎖長が長くなるほど溶解度が高くなり
、特にテトラアルキル置換アンモニウムもしくはホスホ
ニウムの場合この傾向が著しく、アンモニウムカチオン
の場合は炭素数の合計が17以上のカチオンが、またホ
スホニウムカチオンの場合は炭素数の合計が4以上のカ
チオンが高い溶解性を与える。
前記一般式〔■〕または〔■〕で表わされる化合物にお
いてMlまたはMlを好ましい順に挙げルトニッケル、
コバルト、銅、パラジウム、白金の順である。
いてMlまたはMlを好ましい順に挙げルトニッケル、
コバルト、銅、パラジウム、白金の順である。
一般式〔■〕または〔■〕の金属錯体は平面四配位の立
体構造を有する。なお一般式CIII)の化合物ではチ
オケトン基が中心金属に関して対称又は非対称にあるか
は一義的に決らないが、この明細書では便宜的に一般式
〔III)のように表わす。
体構造を有する。なお一般式CIII)の化合物ではチ
オケトン基が中心金属に関して対称又は非対称にあるか
は一義的に決らないが、この明細書では便宜的に一般式
〔III)のように表わす。
前記一般式[IIEまたは〔I]で表わされる化合物は
次のようにして合成することができる。
次のようにして合成することができる。
一般式[n)(n=2)の化合物は二硫化炭素とナトリ
ウムを反応させて得られるジンディラム−1,3−ジチ
オール−2−チオン−4,5−ジチオレートを先ず、亜
鉛錯体とし、これに塩化ベンゾイルを反応させ、ビスベ
ンゾイルチオ体トスる。これをアルカリで分解した後、
金属塩を反応させて得られる。
ウムを反応させて得られるジンディラム−1,3−ジチ
オール−2−チオン−4,5−ジチオレートを先ず、亜
鉛錯体とし、これに塩化ベンゾイルを反応させ、ビスベ
ンゾイルチオ体トスる。これをアルカリで分解した後、
金属塩を反応させて得られる。
又、一般式CI[)(n=1)の化合物は、上で得られ
た錯体(n=2)を適当な酸化剤で酸化して得られる。
た錯体(n=2)を適当な酸化剤で酸化して得られる。
一般式(IIII (n=2)の化合物は、先ず、二
硫化炭素とナトリウムを反応させて得られるジンディラ
ム−1,3−ジチオール−2−チオン−4゜5−ジチオ
レートを、約130℃に加熱してジンディラム−1,2
−ジチオール−3−チオン−4゜5−ジチオレートに異
性化させる。これを亜鉛錯体とし、これに塩化ベンゾイ
ルを反応させ、ビスベンゾイルチオ体とする。これをア
ルカリで分解した後、金属塩を反応させて得られる。
硫化炭素とナトリウムを反応させて得られるジンディラ
ム−1,3−ジチオール−2−チオン−4゜5−ジチオ
レートを、約130℃に加熱してジンディラム−1,2
−ジチオール−3−チオン−4゜5−ジチオレートに異
性化させる。これを亜鉛錯体とし、これに塩化ベンゾイ
ルを反応させ、ビスベンゾイルチオ体とする。これをア
ルカリで分解した後、金属塩を反応させて得られる。
又、一般式(IIII (n=1)は上で得られた錯
体(n=2)を適当な酸化剤で酸化して得られる。
体(n=2)を適当な酸化剤で酸化して得られる。
一般式〔■〕または〔■〕の化合物を得るための中間体
である1、3−ジチオール−2−チオン−4,5−ジチ
オレートアニオンは、上記の如く〜aによる還元法の他
に電気化学的な還元によっても得られる。
である1、3−ジチオール−2−チオン−4,5−ジチ
オレートアニオンは、上記の如く〜aによる還元法の他
に電気化学的な還元によっても得られる。
前記一般式〔■〕で表わされる化合物のうち好ましいも
のを例示すれば次の通りである。
のを例示すれば次の通りである。
M /””’l
M
M−ロ #ミ 一般式(II)で表わされる化合物の合成例を以下に示
す。
M
M−ロ #ミ 一般式(II)で表わされる化合物の合成例を以下に示
す。
合成例1〈例示化合物(II−4)の合成〉(1−1)
ビス(テトラエチルアンモニウム)−ビス(1,3−ジ
チオール−2−チオン−4゜5−ジチオラト)亜鉛錯体
の合成。
ビス(テトラエチルアンモニウム)−ビス(1,3−ジ
チオール−2−チオン−4゜5−ジチオラト)亜鉛錯体
の合成。
反応操作はすべてアルゴン雰囲気下で行った。
ナトリウム23gを小片に切り、二硫化炭素180m1
中に分散した後、これに撹拌しつつジメチルホルムアミ
ド200mfをゆっくり滴下した。この時激しく発熱し
ないように注意する。ジメチルホルムアミドを滴下終了
後、注意しながら、おだやかに加熱して24時間還流し
た。反応終了後未反応のナトリウムをろ別した。次いで
ろ液にエタノール50m1を加え、室温で2時間撹拌し
た。この溶液から二硫化炭素を室温で減圧留去する。次
いで水300m1をゆっくり滴下して加えた後得られた
溶液をろ過した。
中に分散した後、これに撹拌しつつジメチルホルムアミ
ド200mfをゆっくり滴下した。この時激しく発熱し
ないように注意する。ジメチルホルムアミドを滴下終了
後、注意しながら、おだやかに加熱して24時間還流し
た。反応終了後未反応のナトリウムをろ別した。次いで
ろ液にエタノール50m1を加え、室温で2時間撹拌し
た。この溶液から二硫化炭素を室温で減圧留去する。次
いで水300m1をゆっくり滴下して加えた後得られた
溶液をろ過した。
次いで、あらかじめ塩化亜鉛20gをメタノール500
++1j2に溶かし、これに濃アンモニウム水500m
1を加えた溶液を調製しておき、これを上記の反応溶液
に加え(室温)5分間撹拌した後、テトラエチルアンモ
ニウムプロミド53gを水250mβに溶かした水溶液
を加えると、直ちに赤色の沈殿が析出してくる。これを
ろ過し、風乾して亜鉛錯体を得た。
++1j2に溶かし、これに濃アンモニウム水500m
1を加えた溶液を調製しておき、これを上記の反応溶液
に加え(室温)5分間撹拌した後、テトラエチルアンモ
ニウムプロミド53gを水250mβに溶かした水溶液
を加えると、直ちに赤色の沈殿が析出してくる。これを
ろ過し、風乾して亜鉛錯体を得た。
(1−2>4.5−ビス(ベンゾイルチオ)−1,3−
ジチオール−2−チオンの合成。
ジチオール−2−チオンの合成。
(1−1)で得た亜鉛錯体22gをアセトン500mj
!に溶かしろ過する。ろ液を撹拌しつつ、これに塩化ベ
ンゾイル150mfを加える。直ちに黄色の沈殿が析出
する。ろ過、水洗機風乾して標記化合物16gを得た。
!に溶かしろ過する。ろ液を撹拌しつつ、これに塩化ベ
ンゾイル150mfを加える。直ちに黄色の沈殿が析出
する。ろ過、水洗機風乾して標記化合物16gを得た。
(1−3)例示化合物(II−4)の合成(1−2)で
得たビス(ベンゾイルチオ)体9.2gをメタノール5
0+nj!に溶かす。これにナトリウムメトキサイドの
28%メタノール溶液6.3gを加えて、10分間撹拌
する。この溶液に塩化ニッケル(六水和物)2.4gを
メタノール50m1に溶かした溶液を加え、室温で30
分間撹拌する。この溶液にテトラブチルホスホニウムプ
ロミド8.5gをメタノール100mβに溶かした溶液
を加えると、直ちに黒色の沈殿が析出する。
得たビス(ベンゾイルチオ)体9.2gをメタノール5
0+nj!に溶かす。これにナトリウムメトキサイドの
28%メタノール溶液6.3gを加えて、10分間撹拌
する。この溶液に塩化ニッケル(六水和物)2.4gを
メタノール50m1に溶かした溶液を加え、室温で30
分間撹拌する。この溶液にテトラブチルホスホニウムプ
ロミド8.5gをメタノール100mβに溶かした溶液
を加えると、直ちに黒色の沈殿が析出する。
さらに20分間撹拌してろ過し、アセトンで洗って風乾
し、アセトン−イソプロピルアルコールから再結晶させ
て標記化合物を得た。収量3.8g合成例2く例示化合
物(n−2)の合成〉(1−3)で得られたニッケル錯
体1gをアセトン60mfに溶かし、これに酢酸30m
fを加え、3時間撹拌し溶媒を留去したところ黒色の結
晶が析出した。これをアセトン−メタノールから再結晶
させて、目的の例示化合物(II−2)を得た。収量0
.4 g、 m、p、 185℃ λwax : 1
125nm。
し、アセトン−イソプロピルアルコールから再結晶させ
て標記化合物を得た。収量3.8g合成例2く例示化合
物(n−2)の合成〉(1−3)で得られたニッケル錯
体1gをアセトン60mfに溶かし、これに酢酸30m
fを加え、3時間撹拌し溶媒を留去したところ黒色の結
晶が析出した。これをアセトン−メタノールから再結晶
させて、目的の例示化合物(II−2)を得た。収量0
.4 g、 m、p、 185℃ λwax : 1
125nm。
ε□、:2.5LxlO’ (CHzCjiz中)ま
た既知のクエンチャ−としては、特開昭59−1782
95号に記載されている。次の化合物が挙げられる。
た既知のクエンチャ−としては、特開昭59−1782
95号に記載されている。次の化合物が挙げられる。
(i)ビスジチオ−α−ジケトン系
R’−R’はアルキル基またはアリール基を表わし、M
は2価の遷移金属原子を表わす。
は2価の遷移金属原子を表わす。
(ii )ビスフェニルジチオール系
R5SR@はアルキル基またはハロゲン原子を表わし、
Mは2価の遷移金属子を表わす。
Mは2価の遷移金属子を表わす。
(iii )アセチルアセトナートキレート系(iv)
ジチオカルバミン酸キレート系(v)ビスフェニルチオ
ール系 (vi)チオカテコールキレート系 (vj)サリチルアルデヒドオキシム系(viiI)チ
オビスフェルレートキレート系(ix)亜ホスホン酸キ
レート系 (x)ベンゾエート系 (×1)ヒンダードアミン系 (X i i)遷移金属塩 この数次式で表わされるアミニウム系もしくはジイモニ
ウム系化合物が挙げられ、具体例としては日本化薬株式
会社製rRG−002、IRG−〇〇3、IRG−02
2、IRG−033が挙げられる。
ジチオカルバミン酸キレート系(v)ビスフェニルチオ
ール系 (vi)チオカテコールキレート系 (vj)サリチルアルデヒドオキシム系(viiI)チ
オビスフェルレートキレート系(ix)亜ホスホン酸キ
レート系 (x)ベンゾエート系 (×1)ヒンダードアミン系 (X i i)遷移金属塩 この数次式で表わされるアミニウム系もしくはジイモニ
ウム系化合物が挙げられ、具体例としては日本化薬株式
会社製rRG−002、IRG−〇〇3、IRG−02
2、IRG−033が挙げられる。
○
NR。
(式中Rはアルキル基又はアリール基を表わす。)本発
明において、前記色素のカチオンと、クエンチャ−のア
ニオンとの結合体を使用することもできる。
明において、前記色素のカチオンと、クエンチャ−のア
ニオンとの結合体を使用することもできる。
クエンチャ−は前記色素1モルあたり、一般に0.05
〜12モノへ好ましくは0.1〜1.2モル使用される
。
〜12モノへ好ましくは0.1〜1.2モル使用される
。
クエンチャ−は色素薄膜記録層に含有させることが好ま
しいが、記録層とは別の層に含有させてもよい。本発明
の光記録媒体には、必要により、さらに基板上に下引き
層を、また記録層上に保護層を、また基板上もしくは記
録層上に反射層を設けることができる。
しいが、記録層とは別の層に含有させてもよい。本発明
の光記録媒体には、必要により、さらに基板上に下引き
層を、また記録層上に保護層を、また基板上もしくは記
録層上に反射層を設けることができる。
基板としては既知のものを任意に使用することができる
。その代表的な例にはガラスまたはプラスチックがあり
、プラスチックとしてはアクリノベポリカーボネート、
ポリスルホン、ポリイミド、非晶質ポリオレフィン、エ
ポキシ樹脂、ポリエステルなどが用いられる。その形状
はディスク状、カード状、シート状、ロールフィルム状
など種々のものが可能である。
。その代表的な例にはガラスまたはプラスチックがあり
、プラスチックとしてはアクリノベポリカーボネート、
ポリスルホン、ポリイミド、非晶質ポリオレフィン、エ
ポキシ樹脂、ポリエステルなどが用いられる。その形状
はディスク状、カード状、シート状、ロールフィルム状
など種々のものが可能である。
ガラスまたはプラスチック基板には記録時のトラッキン
グを容易にするために案内溝を形成させてもよい。また
ガラスまたはプラスチック基板にはプラスチックバイン
ダーまたは無機酸化物、無機硫化物などの下引き層を設
けてもよい。基板よりも熱伝導率の低い下引き層が好ま
しい。また記録層同士を内側にして2枚の記録媒体を対
向させたいわゆるエアーサンドイッチ構造にすることも
可能である。
グを容易にするために案内溝を形成させてもよい。また
ガラスまたはプラスチック基板にはプラスチックバイン
ダーまたは無機酸化物、無機硫化物などの下引き層を設
けてもよい。基板よりも熱伝導率の低い下引き層が好ま
しい。また記録層同士を内側にして2枚の記録媒体を対
向させたいわゆるエアーサンドイッチ構造にすることも
可能である。
本発明における記録層の形成は、例えば、一般式(I)
で表わされる色素およびクエンチャ−を有機溶剤(例え
ばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、
2. 2. 3. 3−テトラフルオロプロパツールな
どのフッ素化アルコール類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、アセトンなど)に溶解し、必要に応じて適当な
バインダー(例えばPVA、、PVP、ポリビニルブチ
ラール、ポリカーボネート、ニトロセルロース、ポリビ
ニルホルマール、メチルビニルエーテル、塩素化パラフ
ィン、無水マレイン酸共重合体、スチレン−ブタジェン
共重合体、キシレン系樹脂)を加え、この溶液を塗布(
例えばスピンコード)することによって行なえるし、又
は色素とクエンチャ−を共蒸着するかあるいは一般式(
i)で表わされる色素を真空蒸着したのち、クエンチャ
−を塗布することによって行なえる。バインダーを使用
する場合には、バインダーの重量は色素重量の0.01
〜2倍が好ましい。また一般式(I)の色素をいわゆる
ラングミュア−プロジェット法により薄膜として用いる
こともできる。
で表わされる色素およびクエンチャ−を有機溶剤(例え
ばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、
2. 2. 3. 3−テトラフルオロプロパツールな
どのフッ素化アルコール類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、アセトンなど)に溶解し、必要に応じて適当な
バインダー(例えばPVA、、PVP、ポリビニルブチ
ラール、ポリカーボネート、ニトロセルロース、ポリビ
ニルホルマール、メチルビニルエーテル、塩素化パラフ
ィン、無水マレイン酸共重合体、スチレン−ブタジェン
共重合体、キシレン系樹脂)を加え、この溶液を塗布(
例えばスピンコード)することによって行なえるし、又
は色素とクエンチャ−を共蒸着するかあるいは一般式(
i)で表わされる色素を真空蒸着したのち、クエンチャ
−を塗布することによって行なえる。バインダーを使用
する場合には、バインダーの重量は色素重量の0.01
〜2倍が好ましい。また一般式(I)の色素をいわゆる
ラングミュア−プロジェット法により薄膜として用いる
こともできる。
本発明における記録層は1層又は2N以上設ける。
記録層内又はこれに隣接する層内には、色素の劣化を防
ぐため、酸化防止剤もしくは褪色防止剤を存在させても
よい。
ぐため、酸化防止剤もしくは褪色防止剤を存在させても
よい。
記録層の膜厚は、通常0.01μm〜2μm、好ましく
は0.02〜0,8μmの範囲である。反射読出しの場
合は特に好ましくは読出しに使用するレーザ波長の%の
奇数倍である。
は0.02〜0,8μmの範囲である。反射読出しの場
合は特に好ましくは読出しに使用するレーザ波長の%の
奇数倍である。
半導体レーデまたはHe−Neレーザなどの反射層を設
ける場合は、基板に反射層を設は次にこの反射層の上に
前述したような方式によって記録層を設けることによる
か、あるいは基板に記録層を設け、次いでこの上に反射
層を設けるかのいずれかの方法がある。
ける場合は、基板に反射層を設は次にこの反射層の上に
前述したような方式によって記録層を設けることによる
か、あるいは基板に記録層を設け、次いでこの上に反射
層を設けるかのいずれかの方法がある。
反射層は蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティ
ング法などの他、次のような方法によって作ることがで
きる。
ング法などの他、次のような方法によって作ることがで
きる。
例えば水溶性樹脂(PVPSPVAなど)に金属塩また
は、金属錯塩を溶解させ、さらに、還元剤を加えた溶液
を基板に塗布し、50℃〜150℃好ましくは60℃〜
100℃で加熱乾燥させることによって形成される。
は、金属錯塩を溶解させ、さらに、還元剤を加えた溶液
を基板に塗布し、50℃〜150℃好ましくは60℃〜
100℃で加熱乾燥させることによって形成される。
樹脂に対する金属塩または金属錯塩の量は重量比で0.
1〜10好ましくはO15〜1.5である。この際、記
録層の膜厚は金属粒子反射層が0,01〜0.1μmで
ありそして光吸収層が0.01〜1μmの範囲が適当で
ある。
1〜10好ましくはO15〜1.5である。この際、記
録層の膜厚は金属粒子反射層が0,01〜0.1μmで
ありそして光吸収層が0.01〜1μmの範囲が適当で
ある。
金属塩または金属錯塩としては、硝酸銀、シアン化銀カ
リウム、シアン化金カリウム、銀アンミン錯体、銀シア
ン錯体、金塩または金シアン錯体などを使用できる。還
元剤としてはホルマリン、酒石酸、酒石酸塩、還元剤、
次亜燐酸塩、水素化lj票ナナトリウムジメチルアミン
ボランなどを使用できる。還元剤は金属塩または金属錯
塩1モルに対し0.2〜10モル好ましくは0.5〜4
モルの範囲で使用できる。
リウム、シアン化金カリウム、銀アンミン錯体、銀シア
ン錯体、金塩または金シアン錯体などを使用できる。還
元剤としてはホルマリン、酒石酸、酒石酸塩、還元剤、
次亜燐酸塩、水素化lj票ナナトリウムジメチルアミン
ボランなどを使用できる。還元剤は金属塩または金属錯
塩1モルに対し0.2〜10モル好ましくは0.5〜4
モルの範囲で使用できる。
本発明の光記録媒体において、情報の記録はレーザ(例
えば半導体レーザ、He−Neレーザなど)などのスポ
ット状の高エネルギービームを基板を通しであるいは基
板と反対側より記録層に照射することにより行われ、記
録層に吸収された光が熱に変換され、記録層にピット(
穴)が形成される。
えば半導体レーザ、He−Neレーザなど)などのスポ
ット状の高エネルギービームを基板を通しであるいは基
板と反対側より記録層に照射することにより行われ、記
録層に吸収された光が熱に変換され、記録層にピット(
穴)が形成される。
また情報の読み出しはレーザビームを記録の闇値エネル
ギー以下の低出力で照射し、ピット部とピットが形成さ
れていない部分の反射光量もしくは透過光量の変化を検
出することにより行われる。
ギー以下の低出力で照射し、ピット部とピットが形成さ
れていない部分の反射光量もしくは透過光量の変化を検
出することにより行われる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
表1に示す色素、クエンチャ−1及び成る場合にはバイ
ンダをメタノール−メチルエチルケトン−ジクロロエタ
ンからなる適当な比率の混合溶媒に溶解し、表面硬化し
たグループ付く1.6μピツチ、深さ750人)ポリカ
ーボネート基板に厚さ0.1μmとなるようにスピンナ
ーで塗布し、乾燥した。なお色素とクエンチャ−との重
量比は3:1、バインダを用いる場合には、バインダの
重量は色素の175とした。
ンダをメタノール−メチルエチルケトン−ジクロロエタ
ンからなる適当な比率の混合溶媒に溶解し、表面硬化し
たグループ付く1.6μピツチ、深さ750人)ポリカ
ーボネート基板に厚さ0.1μmとなるようにスピンナ
ーで塗布し、乾燥した。なお色素とクエンチャ−との重
量比は3:1、バインダを用いる場合には、バインダの
重量は色素の175とした。
評価条件は下記のとおりであった。
(記録及び再生)
レーザ :半導体レーザ(GaA I As)
レーザの波長 ニア80nm レーザのビーム径:1.6μm 線速 :5m/s 記録パワー :3ml! 記録周波数 + 2.5 MHz 記録デユーティ−=50% 再生パワー :0.4n+W く再生劣化の評価) 再生パワー :1.OmW 再生回数 :105回 (保存時劣化の評価) 保存温湿度 =60℃ 90%RH保存時間
二30日間 結果を表1に示す。
レーザの波長 ニア80nm レーザのビーム径:1.6μm 線速 :5m/s 記録パワー :3ml! 記録周波数 + 2.5 MHz 記録デユーティ−=50% 再生パワー :0.4n+W く再生劣化の評価) 再生パワー :1.OmW 再生回数 :105回 (保存時劣化の評価) 保存温湿度 =60℃ 90%RH保存時間
二30日間 結果を表1に示す。
比較化合物A
〔発明の効果〕
表1の結果から、本発明の光学的情報記録媒体はC/
Nの高い十分な記録特性を有し、長期の保存あるいは長
時間の読み取りに対して高い安定性を有することが明ら
かである。
Nの高い十分な記録特性を有し、長期の保存あるいは長
時間の読み取りに対して高い安定性を有することが明ら
かである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)レーザー光線によって記録、再生、消去を行なう
ための光学的情報記録媒体であって、基板上に、オキソ
ノール色素を担持せしめたことを特徴とする光学的情報
記録媒体。(2)オキソノール色素が下記一般式( I
)で表わされる色素であることを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の光学的情報記録媒体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Y、Zは炭素環もしくは複素環を形成するのに
必要な原子団を表わし、Lは置換されていてもよいメチ
ン基、または共役二重結合で連結された置換されていて
もよいポリメチン鎮を完成する原子団を表わし、A、Q
は共役二重結合鎖を完成する原子団を表わし、m、nは
それぞれ独立に0もしくは1を表わす。〕 (3)基板上に、オキソノール色素とさらに一重項酸素
クェンチャーを担持せしめたことを特徴とする特許請求
の範囲第(1)項または第(2)項記載の光学的情報記
録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62044870A JPS63209995A (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光学的情報記録媒体 |
| US07/161,474 US4968593A (en) | 1987-02-27 | 1988-02-26 | Optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62044870A JPS63209995A (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光学的情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63209995A true JPS63209995A (ja) | 1988-08-31 |
Family
ID=12703531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62044870A Pending JPS63209995A (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光学的情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63209995A (ja) |
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-
1987
- 1987-02-27 JP JP62044870A patent/JPS63209995A/ja active Pending
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