JPS63213657A - 軟磁性材料の製造方法 - Google Patents
軟磁性材料の製造方法Info
- Publication number
- JPS63213657A JPS63213657A JP62047130A JP4713087A JPS63213657A JP S63213657 A JPS63213657 A JP S63213657A JP 62047130 A JP62047130 A JP 62047130A JP 4713087 A JP4713087 A JP 4713087A JP S63213657 A JPS63213657 A JP S63213657A
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- JP
- Japan
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- soft magnetic
- magnetic material
- gas
- sputtering
- manufacturing
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高保磁力の磁気記録媒体に高密度に情報を記
録するのに適した磁気ヘッドのコア材料に用いられる軟
磁性材料の製造方法に関する。
録するのに適した磁気ヘッドのコア材料に用いられる軟
磁性材料の製造方法に関する。
従来の技術
高密度磁気記録再生においては、記録媒体の保磁力を大
きくすれば有利であることが一般に知られているが、高
保磁力の記録媒体に情報を記録するためには強い磁場が
必要となる。ヘッドコア材として主流をなすフェライト
材はその飽和磁束密度が４０００〜５０００ガウス程度
であるために得られる記録磁界の強さに限界があり、磁
気記録媒体の保磁力が１０００エルステツドを越えてく
ると記録が不十分になるという欠点がある。
きくすれば有利であることが一般に知られているが、高
保磁力の記録媒体に情報を記録するためには強い磁場が
必要となる。ヘッドコア材として主流をなすフェライト
材はその飽和磁束密度が４０００〜５０００ガウス程度
であるために得られる記録磁界の強さに限界があり、磁
気記録媒体の保磁力が１０００エルステツドを越えてく
ると記録が不十分になるという欠点がある。
一方、金属磁性材料で総括されるセンダスト。
パーマロイ等の結晶質磁性合金、あるいは、Ｃｏ Ｔ
ａ Ｚ ｒなどの非晶質合金等を用いた磁気ヘッドは、
一般にフェライト材よりも飽和磁束密度が高く、摺動ノ
イズも低いという優れた特徴を存する。この金属磁性材
料薄膜をコア材として用いたヘッドに於て、その薄膜を
作製する場合上としてスパッタ法が使われる。その際ス
パッタガスとして現在はアルゴンガスが使われている（
例えば第９回日本応用磁気学会学術講演会概要集 Ｐ。
ａ Ｚ ｒなどの非晶質合金等を用いた磁気ヘッドは、
一般にフェライト材よりも飽和磁束密度が高く、摺動ノ
イズも低いという優れた特徴を存する。この金属磁性材
料薄膜をコア材として用いたヘッドに於て、その薄膜を
作製する場合上としてスパッタ法が使われる。その際ス
パッタガスとして現在はアルゴンガスが使われている（
例えば第９回日本応用磁気学会学術講演会概要集 Ｐ。
１５２等）。しかしながらこの方法で作製された薄膜は
耐摩耗性、加工性、高周波特性という点に欠点を有して
いる。
耐摩耗性、加工性、高周波特性という点に欠点を有して
いる。
発明が解決しようとする問題点
従来のセンダスト合金に関しては、その耐摩耗性に対し
て疑問が持たれており、寿命もフェライト材を用いヘッ
ドに比べると劣るものであった。
て疑問が持たれており、寿命もフェライト材を用いヘッ
ドに比べると劣るものであった。
本発明は耐摩耗性にすぐれた軟磁性材料を作製する方法
に関してである。
に関してである。
問題点を解決するための手段
スパッタ法により軟磁性薄膜を作製する際に、従来はス
パッタガスとしてアルゴンガスを用いていたが、ここで
はアルゴンガスと炭化水素ガスからなる混合ガスを用い
、その結果作製される薄膜中に炭素が含まれ、耐摩耗性
に優れた軟磁性薄膜が作製できる。
パッタガスとしてアルゴンガスを用いていたが、ここで
はアルゴンガスと炭化水素ガスからなる混合ガスを用い
、その結果作製される薄膜中に炭素が含まれ、耐摩耗性
に優れた軟磁性薄膜が作製できる。
作用
この技術的手段の作用は次のようになる。炭化水素ガス
はプラズマ中で分解し水素と炭素に分かれる。その中で
も炭素はプラズマ中で炭素イオン。
はプラズマ中で分解し水素と炭素に分かれる。その中で
も炭素はプラズマ中で炭素イオン。
炭素ラジカルを形成し、反応しやすい状態になっている
。いっぽうスパッタによりターゲットからたたき出され
た原子は、このプラズマ中を通って基板上に堆積される
わけであるが、プラズマ中を通る際に、反応しやすい状
態になっている炭素と結合するものもあり、基板上には
炭素を含んだ軟磁性材料が堆積されるわけである。
。いっぽうスパッタによりターゲットからたたき出され
た原子は、このプラズマ中を通って基板上に堆積される
わけであるが、プラズマ中を通る際に、反応しやすい状
態になっている炭素と結合するものもあり、基板上には
炭素を含んだ軟磁性材料が堆積されるわけである。
実施例
以下本発明の軟磁性材料の製造方法の一実施例について
図面を用いて詳細に説明する。
図面を用いて詳細に説明する。
（実施例１）
第１図は、本発明に用いたスパッタ装置の模式図である
。ターゲット１はＦｅＡｊ！Ｓｉ合金ターゲット、基板
２は非磁性のセラミック材である。
。ターゲット１はＦｅＡｊ！Ｓｉ合金ターゲット、基板
２は非磁性のセラミック材である。
真空室内をＩ Ｘ １０４Ｔｏｒｒより高真空に排気し
たのち、ＣＨ，ガスを０．８〜２．５ｍＴｏｒｒ導入し
、アルゴンガスを１０ ｍ ｔｏｒｒになるまで導入す
る。全圧力が２０ ｍ Ｔｏｒｒになるように排気系の
オリフィスを調整する。次にターゲットに負の高電圧（
Ｄ、Ｃ，スパッタ法）もしくは高周波電圧（Ｒ，Ｆ、ス
パッタ法）を加えて放電を起こす、数十分のプレスパツ
タの後シャッター４を開く。スパッタ時間を調節するこ
とにより所望の厚さの耐摩耗性に優れたＦｅＡ６ＳｉＣ
ｆｌｊｔ［膜が得られる。なおここでコイル３に電流を
流しターゲットと基板間に磁場を印加することで、堆積
速度を大きくすることも可能である。
たのち、ＣＨ，ガスを０．８〜２．５ｍＴｏｒｒ導入し
、アルゴンガスを１０ ｍ ｔｏｒｒになるまで導入す
る。全圧力が２０ ｍ Ｔｏｒｒになるように排気系の
オリフィスを調整する。次にターゲットに負の高電圧（
Ｄ、Ｃ，スパッタ法）もしくは高周波電圧（Ｒ，Ｆ、ス
パッタ法）を加えて放電を起こす、数十分のプレスパツ
タの後シャッター４を開く。スパッタ時間を調節するこ
とにより所望の厚さの耐摩耗性に優れたＦｅＡ６ＳｉＣ
ｆｌｊｔ［膜が得られる。なおここでコイル３に電流を
流しターゲットと基板間に磁場を印加することで、堆積
速度を大きくすることも可能である。
（実施例２）
第２図は、本発明に用いたスパッタ装置の模式図である
。ターゲットｌはＦｅＡｊ！Ｓｉ合金であり、２枚のタ
ーゲットが対向するように置かれている。ターゲット１
の裏側にはマグネット９が置かれである。マグネットの
磁極は図に示すように、片側のターゲットの裏側にはＮ
極が、他方にはＳ極が配置されており、ターゲット間で
は磁力線はターゲツト面に垂直になっている。真空室内
をＩＸ １０’ Ｔｏｒｒより高真空に排気した後ＣＨ
，ガスを０． ２〜０． ８ｍ Ｔｏｒｒ導入し、アル
ゴンガスを１，６ｍＴｏｒｒになるまで導入する。全圧
力が３ｍＴｏｒｒになるように排気系のオリフィスを調
整する。以下実施例１と同様に放電を起こし、スパッタ
法によりＦｅＡｆｆＳｉＣ膜が得られる。
。ターゲットｌはＦｅＡｊ！Ｓｉ合金であり、２枚のタ
ーゲットが対向するように置かれている。ターゲット１
の裏側にはマグネット９が置かれである。マグネットの
磁極は図に示すように、片側のターゲットの裏側にはＮ
極が、他方にはＳ極が配置されており、ターゲット間で
は磁力線はターゲツト面に垂直になっている。真空室内
をＩＸ １０’ Ｔｏｒｒより高真空に排気した後ＣＨ
，ガスを０． ２〜０． ８ｍ Ｔｏｒｒ導入し、アル
ゴンガスを１，６ｍＴｏｒｒになるまで導入する。全圧
力が３ｍＴｏｒｒになるように排気系のオリフィスを調
整する。以下実施例１と同様に放電を起こし、スパッタ
法によりＦｅＡｆｆＳｉＣ膜が得られる。
なお実施例１，２に共通することであるが、導入するＣ
Ｉ４ 、ガス、アルゴンガス圧力は実施例ではその一
例を示したのみであり、ＣＨ、ガスとアルゴンガスの混
合ガス中でのＣＨ，ガスの分圧比が５％以上５０％以下
であれば、オリフィスを調整した後の全圧力がｌ ｍ
Ｔｏｒｒから３０ ｍ Ｔｏｒｒの広い範囲で耐摩耗性
の優れた薄膜が得られる。
Ｉ４ 、ガス、アルゴンガス圧力は実施例ではその一
例を示したのみであり、ＣＨ、ガスとアルゴンガスの混
合ガス中でのＣＨ，ガスの分圧比が５％以上５０％以下
であれば、オリフィスを調整した後の全圧力がｌ ｍ
Ｔｏｒｒから３０ ｍ Ｔｏｒｒの広い範囲で耐摩耗性
の優れた薄膜が得られる。
また導入する炭化水素ガスは、ＣＨ８の代わりにＣ２Ｈ
４、またはＣ３Ｈ８またはこれら２種類以上の混合ガス
を用いても同様の効果が得られる。
４、またはＣ３Ｈ８またはこれら２種類以上の混合ガス
を用いても同様の効果が得られる。
発明の効果
本発明による軟磁性材料の製造方法により、例えばＶＴ
Ｒ用ヘッドのコア材としてこの材料を用いた際に、長時
間使用してもその摩耗量は少なく、フェライトなみの寿
命が保証され、高飽和磁束密度の、耐摩耗性に優れたＦ
ｅＡｆＳｉＣ薄膜が比較的容易な方法で得られるわけで
ある。
Ｒ用ヘッドのコア材としてこの材料を用いた際に、長時
間使用してもその摩耗量は少なく、フェライトなみの寿
命が保証され、高飽和磁束密度の、耐摩耗性に優れたＦ
ｅＡｆＳｉＣ薄膜が比較的容易な方法で得られるわけで
ある。
第１図、第２図は本発明の軟磁性材料を作製するときに
用いるスパッタ装置の模式図である。
用いるスパッタ装置の模式図である。
Claims (3)
- （１）ターゲットにセンダスト（ＦｅＡｌＳｉ）合金、
もしくはＦｅ、Ａｌ、Ｓｉよりなる複合ターゲットを用
いスパッタ法によりＦｅＡｌＳｉＣ薄膜を作製する際、
炭化水素ガスとアルゴンガスの混合ガスをスパッタガス
に用いて作製することを特徴とする軟磁性材料の製造方
法。 - （２）混合ガス中での炭化水素ガスの分圧比が５％以上
５０％以下であることを特徴とする特許請求の範囲第（
１）項記載の軟磁性材料の製造方法。 - （３）炭化水素がＣＨ＿４、Ｃ＿２Ｈ＿６、Ｃ＿３Ｈ＿
８の１種類以上からなることを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項記載の軟磁性材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62047130A JPS63213657A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 軟磁性材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62047130A JPS63213657A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 軟磁性材料の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63213657A true JPS63213657A (ja) | 1988-09-06 |
Family
ID=12766552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62047130A Pending JPS63213657A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 軟磁性材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63213657A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5149409A (en) * | 1991-01-11 | 1992-09-22 | International Business Machines Corporation | Process for fabricating thin film metal alloy magnetic recording disks to selectively variable coercivities |
-
1987
- 1987-03-02 JP JP62047130A patent/JPS63213657A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5149409A (en) * | 1991-01-11 | 1992-09-22 | International Business Machines Corporation | Process for fabricating thin film metal alloy magnetic recording disks to selectively variable coercivities |
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