JPS63214915A - 磁気記録媒体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体の製造法に関する。更に詳細には
、本発明は耐摺動性が向１−された磁気記録媒体の製造
法に関する。

［従来の技術］ 磁性層上に保護膜層を有する磁気記録媒体が開発されて
いる。ホウ素（Ｂ）は固くて、保護機能が高く、緻密で
膜の連続性が良く、耐ｍｙ性に優れているので保護膜層
の形成材料として特に優れている。

ＣｏＣｒ磁性層の保護膜としてホウ素（Ｂ）を使用する
ことは特願昭５９−２２１８８８号明細書に開示されて
いる。

しかし、媒体の量産化に向け、連続巻取式の真空蒸着法
でＣｏＣｒ磁性層ｌ−にＢ保護膜を積層させた場合、磁
気ヘッドと接舷させながら記録再生を行うと、数にパス
以下で媒体が破壊され、出力が激減する問題があった。

同様な問題はＣｏＣｒ磁性層とＢ＆護膜層との組合せに
限らず、他の材料による磁性層と保２１膜層についても
認められる。

これまで、連続巻取式の量産装置を用い、耐摺動性に優
れたＢ保護膜を磁性層、■二に形成する技術は開発され
ていない。

［発明が解決しようとする問題点］ 従って、本発明の［ｌ的はＢ保護膜を設けたＣ。

Ｃｒ市直磁化媒体を量産する際、そのＢ保護膜の耐摺動
強度を向１−させた磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明者らが長年にわたり広範な実験と試作を続けた結
果、非磁性高分子基体ト、に磁性層と、その磁性層Ｈに
保護層を設けてなる磁気記録媒体を連続巻取式真空蒸着
３Ａ置を用いて製造する際に、前記高分子基体を加熱す
る金属製ロール表面から該高分子基体を離して保護膜層
を積層させると、得られた保！１！膜層の耐摺動性が著
しく改善されることを発見した。本発明は斯かる知見に
基づき完成された。

本発明の特徴は保護膜形成材料としてホウ素を使用した
場合に特に顕著である。

正確なメカニズムは未だ解明されていないので推測の域
を出ないが、連続巻取式の７４Ｂ装置では成膜時に非磁
性基体が基体加熱用の金属製ロールに接触しながら移送
される。従って、連続巻取式の蒸着′Ａ１６でＢ保護膜
を設けると、蒸着時に受けた熱は、熱伝導が良く、かつ
、大きな熱容量を持つ金属製ロールに瞬時に流れるもの
と考えられる。

このために、８粒子は熱を奪われ、磁性層上に点在状態
で固着され、粒子−同士の結合が阻害され、緻密な連続
膜を形成することが困難となる。その結果、Ｂ保護膜の
耐摺動性が低下するものと推量される。

Ｂ保護膜蒸着時に基体加熱用金属製ロールの温度を高め
ることによりＢ保護膜の耐摺動性を改再する試みは不成
功に終わった。高分子基体を使用するため、高真空中に
おける上記金属製ロールの加熱温度は３００℃以下でな
ければならない。金属製ロールの温度がこの程度の温度
では依然として８粒子の熱を奪うこととなる。また、別
の問題点として、高分子材料の基体を長時間高温に曝と
熱変形を起こし磁気記録媒体として使用することが不可
能となる。

これに対して、ＣｏＣｒ磁性層を有する非磁性基体を金
属製ロールに接触させず、ロール表面から離してＢ保護
膜を積層させると、蒸着時の熱が該ロールに逃げないの
で、８粒子は粒子同士の結合が促進され、緻密な連続膜
を形成するものと思われる。かくして、Ｂ保護膜の耐摺
動性が改善されると思われる。

連続巻取式の蒸着装置では高分子基体にシワが発生しや
すくなるので加熱用金属製ロールの使用は絶対に必要で
ある。

−１−記ロールは高分子基体を予熱する機能があるが、
この機能は本発明においても果たされている。

すなわち、該基体は保護膜蒸着部分のみを該ロールから
離し、他の大部分は該ロールに接触しながら移送される
からである。

高分子基体と加熱用金属製ロールとの隔離間隔自体は本
発明の必須要件ではない。要するに該基体が該ロールの
最下部と接触しなければよい。

本発明の方法を実施できる磁性層はＣｏＣｒからなる層
に限定されず、その他の材料からなる磁性層、例えば、
Ｃｏ−０系、Ｆｅ−０系＊Ｆｅ−Ｃｒ系＋　Ｃｏ　−Ｎ
　ｌ　−０系、Ｆｅ−Ｍ−０系（ここで、ＭはＳｉ、Ｓ
ｎまたはＣｏである）等からなる磁性層も使用できる。

また、保護膜層形成材料もホウ素だけではなく、例えば
、Ｓｉ＊　５ｉＣｓ　ＢｅｔＣ等の材料も本発明の方法
に従って磁性層」−に積層させることが可能である。

磁性層および／または保護膜層は非磁性基体１−にベー
パデポクシロン法により積層させることができる。′ペ
ーパーデポジション法”とは気体または真空空間中で、
析出させようとする物質あるいは化合物等を蒸気または
イオン化蒸気として基体上に析出させる方法を意味する
。この方法には、真空蒸着法、イオン・ブレーティング
法、高周波イオン・ブレーティング法、イオンΦクラス
タービーム法、イオンビームデポジション法、スパッタ
リング法などがある。

本発明の磁気記録媒体に使用される非磁性基体としては
、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の高分子
フィルムである。

また磁気記録媒体としてはポリエステルフィルム、ポリ
イミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とする磁
気テープや磁気ディスクなど磁気ヘッドと摺接する構造
の種々の形態を包含する。

［実施例コ 以ド、図面を参照しながら本発明の実施例について史に
詳細に説明する。

災ム机上 第１図に示される連続巻取式の真空蒸着装置を用いて、
厚さ５０μｍのポリイミドフィルム上にＣｏＣｒ磁性層
およびＢ保護膜を、真空を破らずに連続的に形成した。

図示されているように、この装置の特色は基体を加熱す
る金属製ロールの蒸着部に補助ロール６゜６を取付、非
磁性基体のベースフィルム３がキャンロール４から離れ
た１大態でＣｏＣｒおよびＢの蒸着ができることである
。

ＣｏＣｒ磁性層の作製条件は、キャンロール温度２６５
℃、堆積速度８００人／５ｅａｓ膜厚２５００人、真空
度５ｘｌＯ−’Ｔｏｒｒ以下であった。

Ｂ保Ｎ膜の作成条件は、キャンロール温度２２５℃、堆
積速度３３人／　ｓｅｃ　ｖ膜厚２５０人、真空度３Ｘ
１０−’Ｔｏｒｒ以下であツタ。

補助ロール６．６間の距離は必要に応じて適宜変更でき
る。

前記のようにして製造された長尺テープから、３．５イ
ンチのディスクを打抜、フレキシブルディスク装置を用
いて摺動強度の試験を行った。用いたヘッドは曲率半径
３０■−のボタン形状のヘッドであり、荷重は１８ｇｒ
、周速は２■／ｓｅｃである。その結果、同一トラック
で１００に同辺」〕摺動させても出力の低下が全（認め
られず、従来のベースフィルムをキャンロールに接触さ
せた場合に比べ、２桁以上も摺動強度が同一トした。

尖息旌１ 実施例１で使用された装置において、ＣｏＣｒ磁性層を
形成する際に補助ロールを取り除き、従来のベースフィ
ルム・キャンロール接触方式に従って蒸着し、Ｂ保護膜
を積層する場合のみ補助ロールを取付、本発明の非接触
方式により蒸着した。

その結果、製造された磁気記録媒体の球面摺動強度は実
施例１で得られた磁気記録媒体と同等であった。

［発明の効果］ 以４ユ説明したように、本発明ではベースフィルムと加
熱用の金属製ロールを離してＢ保護膜を設ける炸裂方法
を採用した事により、連続巻取式の真空蒸着法において
も耐摺動性の優れたＢ保護膜が得られる。かくして、優
れた品質を有する磁気記録媒体を安価に量産することが
可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造法を実施するのに使用される連続
巻取式真空蒸着装置の一例を示す概要図である。 ■・・・巻取ロール、２・・・巻出ロール、３・・・ベ
ースフィルム、４・・・キャンロール、５・・・キャン
マスク。 ６・・・補助ロール、７・・・シャッター、８・−Ｃｏ
Ｃｒハース、９・・・Ｂハース、１０・・・電子銃第１
図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性高分子基体上に磁性層と、その磁性層上に
   保護層を設けてなる磁気記録媒体を真空中で連続巻取式
   成膜装置を用いて製造する際に、前記高分子基体を加熱
   する金属製ロール表面から該高分子基体を離して保護膜
   層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造法。
2. （２）磁性層はＣｏ基合金からなり、保護膜層はホウ素
   からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
   の磁気記録媒体の製造法。