JPS63219002A - 調節装置 - Google Patents
調節装置Info
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- JPS63219002A JPS63219002A JP5349487A JP5349487A JPS63219002A JP S63219002 A JPS63219002 A JP S63219002A JP 5349487 A JP5349487 A JP 5349487A JP 5349487 A JP5349487 A JP 5349487A JP S63219002 A JPS63219002 A JP S63219002A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、プロセス制御に用いられる調節装置に関し、
更に詳しくは、少なくとも比例(P)、積分(I)演算
パラメータを最適な値に自動的に調整するオートチュー
ニング調節装置に関するものそある。
更に詳しくは、少なくとも比例(P)、積分(I)演算
パラメータを最適な値に自動的に調整するオートチュー
ニング調節装置に関するものそある。
(従来の技術)
フィードバック制御に用いられるプロセス用P1訓節装
置において、P+演算パラメータの設定は、プロセス運
転者あるいは計装エンジニアの長年の知識と経験に基づ
いて手動によって行なわれているのが現状である。しか
しながら、手動設定によるものは、プロセスのスタート
アップ時、負荷変動時、予期しない外乱混入時、あるい
は非線形ゲイン特性を持つ系等の状況の下では、一時的
あるいは定常的にプロセス運転の乱れを生じ、状況によ
っては経済的損失を及ぼすことがあった。
置において、P+演算パラメータの設定は、プロセス運
転者あるいは計装エンジニアの長年の知識と経験に基づ
いて手動によって行なわれているのが現状である。しか
しながら、手動設定によるものは、プロセスのスタート
アップ時、負荷変動時、予期しない外乱混入時、あるい
は非線形ゲイン特性を持つ系等の状況の下では、一時的
あるいは定常的にプロセス運転の乱れを生じ、状況によ
っては経済的損失を及ぼすことがあった。
そこで、P+演算パラメータをオートチューニングする
ようにした調節計が提案されている。これまで提案され
ているオートチューニング調節計として主だったものを
挙げれば次の通りである。
ようにした調節計が提案されている。これまで提案され
ているオートチューニング調節計として主だったものを
挙げれば次の通りである。
(i) 補助コントローラを主コントローラに対して
並列的に接続し、補助コントローラのゲインをあげ、振
動を起させ、その振幅2周波数から、2iegl@r、
Nieholgによる所謂z−N限界感度法に基づい
てP1演算パラメータを決定するもの(昭和45年計測
自動制御学会論文集Vo1.[k l’ss〜P611
限界感度法を利用した適応制御系の研究。
並列的に接続し、補助コントローラのゲインをあげ、振
動を起させ、その振幅2周波数から、2iegl@r、
Nieholgによる所謂z−N限界感度法に基づい
てP1演算パラメータを決定するもの(昭和45年計測
自動制御学会論文集Vo1.[k l’ss〜P611
限界感度法を利用した適応制御系の研究。
北森俊行)。
(H) オン、オフ発生器を使用してリミットサイク
ルを発生させ、その振幅等から最適なP1演算パラメー
タを決定するようにしたもの(昭和48年計測自動制御
学会第12回学術講演会予稿集HIT〜PHJ I’
l1)自動設定形アダプティブ・コントローラ 須見、
福田)。
ルを発生させ、その振幅等から最適なP1演算パラメー
タを決定するようにしたもの(昭和48年計測自動制御
学会第12回学術講演会予稿集HIT〜PHJ I’
l1)自動設定形アダプティブ・コントローラ 須見、
福田)。
(tii) 制御量の挙動を観察するパターン認識手
段(パーフォーマンスメジャメント)を設け、ここでプ
ロセスに外乱を与えることなく、ランダムに発生する外
乱等の制御系の乱れを認識し、この認識結果を最適な応
答モデルと比較し、パターンの認識結果が応答モデルに
近づくように最適なP+演算パラメータを決定するよう
にしたもの(単行本 ADAPTIVE C0NTR0
L SYSTEMS。
段(パーフォーマンスメジャメント)を設け、ここでプ
ロセスに外乱を与えることなく、ランダムに発生する外
乱等の制御系の乱れを認識し、この認識結果を最適な応
答モデルと比較し、パターンの認識結果が応答モデルに
近づくように最適なP+演算パラメータを決定するよう
にしたもの(単行本 ADAPTIVE C0NTR0
L SYSTEMS。
PERGAMOII PRESS、口1i3発行 P1
〜P口)。
〜P口)。
(iv) 前記した(in)の技術を用いるものであ
って、制御系の乱れによる応答パターンの認識に、オー
バシュート量(行き過ぎ量)、ピーク値より求められる
ダンピング(減衰率)及びピリオド(周期)の情報を用
いるようにしたもの(US1’AT No、 JJO2
,326)。
って、制御系の乱れによる応答パターンの認識に、オー
バシュート量(行き過ぎ量)、ピーク値より求められる
ダンピング(減衰率)及びピリオド(周期)の情報を用
いるようにしたもの(US1’AT No、 JJO2
,326)。
(発明が解決しようとする問題点)
前述した従来技術において、(i)項及び(i)項のも
のは、いずれもプロセスを振動状態にしたり、P+演算
パラメータの決定の際に、制御系へ強制的に外乱(同定
信号)を与える必要があり、このためプロセスへ少なか
らぬ影響を与えるという問題点があった。
のは、いずれもプロセスを振動状態にしたり、P+演算
パラメータの決定の際に、制御系へ強制的に外乱(同定
信号)を与える必要があり、このためプロセスへ少なか
らぬ影響を与えるという問題点があった。
(m)項、(K)項のものは、同定信号を使用するもの
でなく、プロセスに何んらの影響も与えないという点で
優れている。ここで、(iv)項のものは、(ii)項
のものを具体的に実現するためのひとつの手法を提供す
るが、制御系の乱れによる応答パターンの認識に、第8
図に示すように、制御設定値とプロセス入力値との偏差
の第1.第2.第3のピーク値E、、 E、、 Lを検
出し、オーバシュート量は−L/L、ダンピングは(L
−L)/(E、 −E2)を演算して求め、また、周期
は第1ピークと第3ピークとの時間から求めるようにし
ている。
でなく、プロセスに何んらの影響も与えないという点で
優れている。ここで、(iv)項のものは、(ii)項
のものを具体的に実現するためのひとつの手法を提供す
るが、制御系の乱れによる応答パターンの認識に、第8
図に示すように、制御設定値とプロセス入力値との偏差
の第1.第2.第3のピーク値E、、 E、、 Lを検
出し、オーバシュート量は−L/L、ダンピングは(L
−L)/(E、 −E2)を演算して求め、また、周期
は第1ピークと第3ピークとの時間から求めるようにし
ている。
このために、第3のピークの探索を行なう必要があるが
、第3ピークの探索にはそれだけ時間がかかるうえに、
第3ピークが現れない場合、推測により疑似ピークを定
めることになるので、応答パターンを必ずしも忠実に認
識することができないという問題点がある。また、第3
ピークは、第1j第2ピークに比べてその振幅値が一般
的に小さいので、制御系からの乱れとは関係のないノイ
ズによる影響を受けやすくなるという問題点もある。
、第3ピークの探索にはそれだけ時間がかかるうえに、
第3ピークが現れない場合、推測により疑似ピークを定
めることになるので、応答パターンを必ずしも忠実に認
識することができないという問題点がある。また、第3
ピークは、第1j第2ピークに比べてその振幅値が一般
的に小さいので、制御系からの乱れとは関係のないノイ
ズによる影響を受けやすくなるという問題点もある。
本発明は、前述した(in)項の技術を基本的に利用す
るものであって、制御系の乱れによる応答パターンの認
識に、第3のピークを検索する必要のないようにするこ
とによって、短時間に、かつノイズ等に影響されないで
正確に応答パターンを認識できるようにし、最適なP1
演算定数を設定することの可能なオートチューニング調
節装置を提供するものである。
るものであって、制御系の乱れによる応答パターンの認
識に、第3のピークを検索する必要のないようにするこ
とによって、短時間に、かつノイズ等に影響されないで
正確に応答パターンを認識できるようにし、最適なP1
演算定数を設定することの可能なオートチューニング調
節装置を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
第1図は、本発明装置の基本的な機能ブロック図である
。図において、lは制御対象(プロセス)を示すブロッ
ク痩で、生産量の変化、制御目標値の変更、各種外乱な
どによってその動特性が変化するものとする。2は制御
対象1からのプロセス量Pvと、制御目標値Svとの偏
差信号DVに少なくとも比例(P)、lf1分(1)演
算を行ない得られた操作量(MY)を制御対象1に出力
するPIft+制御手段、3はプロセス量PV又は偏差
信号DVの波形パターンに応じてP1制御手段2のP、
I演算パラメータをチューニングするパラメータチュー
ニング手段である。
。図において、lは制御対象(プロセス)を示すブロッ
ク痩で、生産量の変化、制御目標値の変更、各種外乱な
どによってその動特性が変化するものとする。2は制御
対象1からのプロセス量Pvと、制御目標値Svとの偏
差信号DVに少なくとも比例(P)、lf1分(1)演
算を行ない得られた操作量(MY)を制御対象1に出力
するPIft+制御手段、3はプロセス量PV又は偏差
信号DVの波形パターンに応じてP1制御手段2のP、
I演算パラメータをチューニングするパラメータチュー
ニング手段である。
このパラメータチューニング手段3において、31はプ
ロセス信号又は偏差信号Dvの波形観測を行ない、信号
波形の第1のピークDvlの発生時点t1゜第2のピー
クDV、の発生時点t、を検出し、所定の演算を行なっ
て観測波形のパターンを代表する評価指標を出力する波
形観測手段、32は制御性の目標となる目標値(モデル
)を設定した目標設定手段、33は波形観測手段31か
らの評価指標が、目標設定手段32に予じめ設定した応
答目標になるようなPI演算パラメータを演算するパラ
メータ演算手段である。
ロセス信号又は偏差信号Dvの波形観測を行ない、信号
波形の第1のピークDvlの発生時点t1゜第2のピー
クDV、の発生時点t、を検出し、所定の演算を行なっ
て観測波形のパターンを代表する評価指標を出力する波
形観測手段、32は制御性の目標となる目標値(モデル
)を設定した目標設定手段、33は波形観測手段31か
らの評価指標が、目標設定手段32に予じめ設定した応
答目標になるようなPI演算パラメータを演算するパラ
メータ演算手段である。
(作用)
パラメータチューニング手段3内の波形観測手段31は
、プロセス量Pv又は偏差信号Dvの波形観測を行ない
、信号波形の第1のピークの発生時点t1(t、−t1
)時点までのプロセス量又は偏差信号に求め、これを波
形パターンを代表する評価指標のひとつとして出力する
。
、プロセス量Pv又は偏差信号Dvの波形観測を行ない
、信号波形の第1のピークの発生時点t1(t、−t1
)時点までのプロセス量又は偏差信号に求め、これを波
形パターンを代表する評価指標のひとつとして出力する
。
パラメータ演算手段33は、波形観測手段31から与え
られる面積レシオARを含むいくつかの評価指標に基づ
いて、P、I演算パラメータを算出する。
られる面積レシオARを含むいくつかの評価指標に基づ
いて、P、I演算パラメータを算出する。
(実施例)
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明す゛る
。
。
第2図は本発明に係る調節装置の構成ブロック図である
。図において、4は調節装置であり、制御対象1からの
プロセス量PV、制御目標伯Svを入力し、操作信号M
vを制御対象1に対して出力する。
。図において、4は調節装置であり、制御対象1からの
プロセス量PV、制御目標伯Svを入力し、操作信号M
vを制御対象1に対して出力する。
この調節装置4において、41はプロセス量Pv、各種
アナログ信号el+制御目標値Svを順次選択して入力
するマルチプレクサ、42はマルチプレクサ41で選択
した信号をひとつの入力とするコンパレータ、43はマ
イクロプロセッサで、コンパレータ4zからの信号等を
入力している。44はプロセッサ43からのディジタル
信号をアナログ信号に変換するDハ変換器、45はDハ
変換器の出力を所定のタイミングで保持するサンプルホ
ールド回路で、その出力が制御対象1への操作信号Mv
となる。46は110ポート、47は各種データ等を格
納したRAM、 48はマイクロプロセッサ43が行
なう主要動作のプログラムを格納したシステムROM、
49は例えばユーザがプロセスに応じて作成したプ
ログラムを格納したROM、 50は表示キーボード
で、これらはデータバスBSを介してマイクロプロセッ
サ43に結合している。
アナログ信号el+制御目標値Svを順次選択して入力
するマルチプレクサ、42はマルチプレクサ41で選択
した信号をひとつの入力とするコンパレータ、43はマ
イクロプロセッサで、コンパレータ4zからの信号等を
入力している。44はプロセッサ43からのディジタル
信号をアナログ信号に変換するDハ変換器、45はDハ
変換器の出力を所定のタイミングで保持するサンプルホ
ールド回路で、その出力が制御対象1への操作信号Mv
となる。46は110ポート、47は各種データ等を格
納したRAM、 48はマイクロプロセッサ43が行
なう主要動作のプログラムを格納したシステムROM、
49は例えばユーザがプロセスに応じて作成したプ
ログラムを格納したROM、 50は表示キーボード
で、これらはデータバスBSを介してマイクロプロセッ
サ43に結合している。
ここで、システムROM 4gには、マイクロプロセッ
サ43が、第1図に示す波形観測手段31、パラメータ
演算手段33、P1制御手段2.とじての機能を行なう
ためのプログラムや、制御対象lの最適応答モデルのデ
ータ等からなる目標設定手段32として機能するデータ
が格納されている。なお、システAROM 48. R
OM 49はひと”) (7) ROMで共用シテもよ
い。
サ43が、第1図に示す波形観測手段31、パラメータ
演算手段33、P1制御手段2.とじての機能を行なう
ためのプログラムや、制御対象lの最適応答モデルのデ
ータ等からなる目標設定手段32として機能するデータ
が格納されている。なお、システAROM 48. R
OM 49はひと”) (7) ROMで共用シテもよ
い。
第3図は、このように構成した装置の動作の一例を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
マイクロプロセッサ43は、はじめにシステムROM
48に格納されているシステムプログラムに従って、マ
ルチプレクサ41に印加されているプロセス量PV、制
御目標値Sv、その他アナログ信号e、を順次選択して
取り出し、これらの信号をコンパレータ42、マイクロ
プロセッサ43、D/A変換器44で形成されるA/D
変換ループによって、それぞれディジタル信号に変換す
る(ステップ1)。
48に格納されているシステムプログラムに従って、マ
ルチプレクサ41に印加されているプロセス量PV、制
御目標値Sv、その他アナログ信号e、を順次選択して
取り出し、これらの信号をコンパレータ42、マイクロ
プロセッサ43、D/A変換器44で形成されるA/D
変換ループによって、それぞれディジタル信号に変換す
る(ステップ1)。
次にプロセス量PVと制御目標値Svとの偏差DVが所
定の設定(1i111DB内に入っているかどうか判断
しくステップ2 ) 、 DV>DBの時、次のステッ
プ3に移る。ステップ3では、第1図における波形観測
手段31として機能するシステムプログラムに従って、
プロセス量PV又はプロセスfiPVと制御目標値Sv
との偏差nvの波形観測を行ない、観測波形のパターン
を分析する。また、パターン分析が完了すると、観測波
形の評価指標の算出を行なう(ステップ4.ステップ5
)。
定の設定(1i111DB内に入っているかどうか判断
しくステップ2 ) 、 DV>DBの時、次のステッ
プ3に移る。ステップ3では、第1図における波形観測
手段31として機能するシステムプログラムに従って、
プロセス量PV又はプロセスfiPVと制御目標値Sv
との偏差nvの波形観測を行ない、観測波形のパターン
を分析する。また、パターン分析が完了すると、観測波
形の評価指標の算出を行なう(ステップ4.ステップ5
)。
第4図はこの波形観測手段31における波形観測手法の
説明図である。ここでは負荷が変動ルた場合の偏差信号
DVの応答波形を示しており、負荷変動時には大きく変
化するが、PI制御手段2の動作によって次第に変化が
小さくなってやがて零に収束する。
説明図である。ここでは負荷が変動ルた場合の偏差信号
DVの応答波形を示しており、負荷変動時には大きく変
化するが、PI制御手段2の動作によって次第に変化が
小さくなってやがて零に収束する。
波形観測手段3Iは、この偏差信号DVの挙動を観測し
ており、この信号波形の第1のピーク(DVI)が観測
された時点(第1ピークの発生時点) 1+から続(、
第2のピーク(nv2)が観測される時点(第2ピーク
の発生時点) 11までの偏差信号DVに係る面積^1
と、第2ピークの発生時点t、から続く、ts + (
ts−Lt)の時点(tsから Ls−Ltだけ経過し
た時点)までの偏差信号DVに係る面積A、とを演算す
る。そして、これらの面積A、ム、を用いて、AI+A
、のレシオ(AR)を算゛出す。面積A、、 A、及び
面積レシオ^Rの算出式の一例を(1)式、(2)式、
(3)式に示す。
ており、この信号波形の第1のピーク(DVI)が観測
された時点(第1ピークの発生時点) 1+から続(、
第2のピーク(nv2)が観測される時点(第2ピーク
の発生時点) 11までの偏差信号DVに係る面積^1
と、第2ピークの発生時点t、から続く、ts + (
ts−Lt)の時点(tsから Ls−Ltだけ経過し
た時点)までの偏差信号DVに係る面積A、とを演算す
る。そして、これらの面積A、ム、を用いて、AI+A
、のレシオ(AR)を算゛出す。面積A、、 A、及び
面積レシオ^Rの算出式の一例を(1)式、(2)式、
(3)式に示す。
A、=7″ (DV−DVs) dt (
2)t! ここで、(1)式の演算式は、第4図において斜線で施
した面積A、を求めるものであり、(2)式の演算式は
、第4図において斜線で施した面積A、を求めるもので
ある。
2)t! ここで、(1)式の演算式は、第4図において斜線で施
した面積A、を求めるものであり、(2)式の演算式は
、第4図において斜線で施した面積A、を求めるもので
ある。
また、最大行き過ぎ量(オーバシュート) OVSを(
4)式の演算式によって求める。
4)式の演算式によって求める。
また、振動周期TPを(5)式の演算式によって求める
。
。
Tp= 2・ (t2−t+) (
5)このようにして求められた面積レシオAR,オーバ
ショートOVS、振動周期TPの各ti1報を観測波形
を代表する評価指標としてパラメータ演算手段3ズに与
える。
5)このようにして求められた面積レシオAR,オーバ
ショートOVS、振動周期TPの各ti1報を観測波形
を代表する評価指標としてパラメータ演算手段3ズに与
える。
本発明の装置においては、このように波形観測手段31
が、観測波形の第1.第2のピークの発生時点から続く
観測波形に係る面積Al#^、を用いた面積レシオAR
を、観測波形の評価指標のひとつとして、パラメータ演
算手段ゴ2に与えるようにしたもので、第3のピークを
検出する必要はなく、従って、ノイズの影響を受けなく
なるという効果をもたらしている。
が、観測波形の第1.第2のピークの発生時点から続く
観測波形に係る面積Al#^、を用いた面積レシオAR
を、観測波形の評価指標のひとつとして、パラメータ演
算手段ゴ2に与えるようにしたもので、第3のピークを
検出する必要はなく、従って、ノイズの影響を受けなく
なるという効果をもたらしている。
第5図は、観測波形に含まれるノイズの影響について説
明するための波形図である。フィードバック制御されて
いる制御系において、一般に負荷変動や制御目標値の変
更、その他外乱に伴って生ずるプロセス量PV又は偏差
口vの応答波形は、最初は大きく変化するので、第1.
第2ピーク偵DV、。
明するための波形図である。フィードバック制御されて
いる制御系において、一般に負荷変動や制御目標値の変
更、その他外乱に伴って生ずるプロセス量PV又は偏差
口vの応答波形は、最初は大きく変化するので、第1.
第2ピーク偵DV、。
Dv、は比較的検出しやすいが、第3ピーク付近になる
とその振幅も小さくなる。このために、第3ピークを検
出する場合、混入するノズNSの振幅を第3のピークと
して検出してしまうことがあり、誤まった評価指標を与
えることになる。
とその振幅も小さくなる。このために、第3ピークを検
出する場合、混入するノズNSの振幅を第3のピークと
して検出してしまうことがあり、誤まった評価指標を与
えることになる。
本発明のように、第1.第2のピークの発生時点1.、
1.から続く観測波形に係る面積AI、 A2を用いて
算出される面積レシオ^藺を評価指標とすると、観測波
形DV中にノイズMSが第5図破線に示すように混入し
たとしても、その信号波形の面積、例えば斜線を施した
面1llsは、ノイズ混入がない時の信号波形より大き
くなった部分と、小さくなった部分とが互いに相殺され
るので、ノイズ混入に影響されることはない。
1.から続く観測波形に係る面積AI、 A2を用いて
算出される面積レシオ^藺を評価指標とすると、観測波
形DV中にノイズMSが第5図破線に示すように混入し
たとしても、その信号波形の面積、例えば斜線を施した
面1llsは、ノイズ混入がない時の信号波形より大き
くなった部分と、小さくなった部分とが互いに相殺され
るので、ノイズ混入に影響されることはない。
第3図において、ステップ5で前述したように観測波形
の評価指標(AR,OVS、 TP)の算出を終えると
、パラメータ演算手段33は、波形観測手段31から与
えられる各評価指標と、目標設定手段32に予じめ記憶
させである最適応答モデルの各データとを比較し、P1
演算パラメータを算出し、このPI演算パラメータをP
1制御手段2に設定(チューニング)する(ステップ6
)。このステップ6の詳細は後述する。
の評価指標(AR,OVS、 TP)の算出を終えると
、パラメータ演算手段33は、波形観測手段31から与
えられる各評価指標と、目標設定手段32に予じめ記憶
させである最適応答モデルの各データとを比較し、P1
演算パラメータを算出し、このPI演算パラメータをP
1制御手段2に設定(チューニング)する(ステップ6
)。このステップ6の詳細は後述する。
PI制御手段2は、パラメータ演算手段33によって設
定、変更されるPI演算パラメータを用いP1演算を行
ない(ステップ7)、演算結果を操作信号Mvとして制
御対象1に出力する(ステップ8)。
定、変更されるPI演算パラメータを用いP1演算を行
ない(ステップ7)、演算結果を操作信号Mvとして制
御対象1に出力する(ステップ8)。
なお、ステップ2において、偏差DVが所定の設定値幅
(セルフチューニング起動用偏差設定値)DB内に入っ
ている時(DV< DB)は、制御良好であるとして、
ステップ7に移り、既に設定されているP1演算パラメ
ータを用いてP1制御演算が行なわれる。ステップ4に
おいて、観測波形のパターン分析が完了してない場合(
第1.第2のピークが観測されるまでには、相応の時間
が必要であり、分析の途中にあるような場合)も、同様
にステップ7に移る。
(セルフチューニング起動用偏差設定値)DB内に入っ
ている時(DV< DB)は、制御良好であるとして、
ステップ7に移り、既に設定されているP1演算パラメ
ータを用いてP1制御演算が行なわれる。ステップ4に
おいて、観測波形のパターン分析が完了してない場合(
第1.第2のピークが観測されるまでには、相応の時間
が必要であり、分析の途中にあるような場合)も、同様
にステップ7に移る。
第6図は、第3図におけるステップ6の詳細を示すフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
パラメータ演算手段33は、はじめに、波形観測手段3
1で得られた面積レシオ値AIが「0」より小さいか判
断する(ステップ$1)。これによって、P1制御手段
2に現在設定されているP、I演算パラメータが後述す
るへ区分にあるかどうか判断する。すなわち、面積レシ
オム父が「0」より小さい場合、非振動的な応答特性を
示しており、現在のP、I演算パラメータによる制御性
はA区分にあるものと判断し、目標設定手段32に設定
した目標値に近ずくようにP、I演算パラメータを変更
する演算を行なう(ステップ62)。面積レシオAR≧
0の場合(ステップ61で“NO“の場合)、(積分演
算定数T1)/(振動周期Tp)の値Rを演算しくステ
ップG3)、この値Rの大きさを判断する(ステップ6
4)、すなわち、R<8.2であれば、現在設定されて
いるP1演算パラメータは、8区分にあるものと判断し
、ステップ65に移る。また、0.2≦R≦0.4であ
れば、C区分にあるものと判断し、ステップ66に、R
>0.4であれば、0区分にあるものと判断し、ステッ
プ67にそれぞれ移る。このように、面積レシオAR,
la動周期Tp、 Rの大きさによって、A、B、C,
Dの4区分に分けたのは、これまでの経験則に基づくも
ので、各区分の概念と、各区分における演算式の一例を
第7図に示す。
1で得られた面積レシオ値AIが「0」より小さいか判
断する(ステップ$1)。これによって、P1制御手段
2に現在設定されているP、I演算パラメータが後述す
るへ区分にあるかどうか判断する。すなわち、面積レシ
オム父が「0」より小さい場合、非振動的な応答特性を
示しており、現在のP、I演算パラメータによる制御性
はA区分にあるものと判断し、目標設定手段32に設定
した目標値に近ずくようにP、I演算パラメータを変更
する演算を行なう(ステップ62)。面積レシオAR≧
0の場合(ステップ61で“NO“の場合)、(積分演
算定数T1)/(振動周期Tp)の値Rを演算しくステ
ップG3)、この値Rの大きさを判断する(ステップ6
4)、すなわち、R<8.2であれば、現在設定されて
いるP1演算パラメータは、8区分にあるものと判断し
、ステップ65に移る。また、0.2≦R≦0.4であ
れば、C区分にあるものと判断し、ステップ66に、R
>0.4であれば、0区分にあるものと判断し、ステッ
プ67にそれぞれ移る。このように、面積レシオAR,
la動周期Tp、 Rの大きさによって、A、B、C,
Dの4区分に分けたのは、これまでの経験則に基づくも
ので、各区分の概念と、各区分における演算式の一例を
第7図に示す。
第7図において、横軸はRの値であり、縦軸は、面積レ
シオARをとっである。この図でハツチングを施した付
近(面積レシオAR= 11.2. R= 1.2付近
)が目標値となる領域で、各区分ごとに示しである比例
演算パラメータPB、積分演算パラメータTiを求める
ための所定の演算を行なうことによって、どの区分から
も制御性が目標値に向かうような、P演算パラメータ、
■演算パラメータが求められる。なお、本発明は、微分
(D)演算をも含む調節計にも同様に適用できるもので
あって、第7図には、微分演算パラメータTdを得るた
めの演算式についても参考までに示しである。
シオARをとっである。この図でハツチングを施した付
近(面積レシオAR= 11.2. R= 1.2付近
)が目標値となる領域で、各区分ごとに示しである比例
演算パラメータPB、積分演算パラメータTiを求める
ための所定の演算を行なうことによって、どの区分から
も制御性が目標値に向かうような、P演算パラメータ、
■演算パラメータが求められる。なお、本発明は、微分
(D)演算をも含む調節計にも同様に適用できるもので
あって、第7図には、微分演算パラメータTdを得るた
めの演算式についても参考までに示しである。
第7図に示す各演算式において、FBI、 PINは今
回1次回の比例演算パラメータ、 Til、 Ti2は
今回。
回1次回の比例演算パラメータ、 Til、 Ti2は
今回。
次回の積分演算パラメータ(積分時間) 、Eovsは
誤差オーバシュート、EARは誤差面積レシオである。
誤差オーバシュート、EARは誤差面積レシオである。
区分Aにおける(1^)式、(2A)式は、ステップε
2において適用され、比例演算パラメータPB2 。
2において適用され、比例演算パラメータPB2 。
積分演算パラメータTi2は、誤差面積レシオEAR。
誤差オーバーシュートEovgの値に応じてそれぞれ今
回のパラメータよりいずれも増大するような値が求めら
れる。EAR,RowsがOであれば、PI3. Ti
nは、今回のFBI、 Tilと同じ値となる。
回のパラメータよりいずれも増大するような値が求めら
れる。EAR,RowsがOであれば、PI3. Ti
nは、今回のFBI、 Tilと同じ値となる。
区分Bにおける(IB)式、 (2B)式は、ステッ
プ65において適用され、比例演算パラメータPB2゜
積分演算パラメータTi2は、R10,2(ここではR
は0.2より小さい)の割合でそれぞれ今回のパラメー
タより減少するような値が求められる。
プ65において適用され、比例演算パラメータPB2゜
積分演算パラメータTi2は、R10,2(ここではR
は0.2より小さい)の割合でそれぞれ今回のパラメー
タより減少するような値が求められる。
以下、同じように、区分Cにおける(IC)式。
(2C)式は、ステップ66において適用され、区分り
における(ID)式、 (2D)式は、ステップ67
において適用される。
における(ID)式、 (2D)式は、ステップ67
において適用される。
ステップ68では、ステップ62.65.65.67の
いずれかにおいて得られた比例演算パラメータ、積分演
算パラメータを、P1制御手段2に再設定する。
いずれかにおいて得られた比例演算パラメータ、積分演
算パラメータを、P1制御手段2に再設定する。
以上のような動作によって、PI制御手段2には、そこ
に設定されている比例演算パラメータ、積分演算パラメ
ータがどのような伯であっても、最終的に制御性が最適
な目標f山になるように自動的に調整されることになる
。
に設定されている比例演算パラメータ、積分演算パラメ
ータがどのような伯であっても、最終的に制御性が最適
な目標f山になるように自動的に調整されることになる
。
なお、上記の説明では、波形観測手段3Iは、プロセス
量PVと制御目標値svとの偏差信号DVの波形を観測
するようにしたものであるが、制御目標値が一定である
ものとすれば、プロセス量PVの波形を観測するように
してもよい。また、上記の説明では、PI制御手段を有
する調節手段を例にとって説明したが、PID制御手段
を有する調節手段に適用してもよい。
量PVと制御目標値svとの偏差信号DVの波形を観測
するようにしたものであるが、制御目標値が一定である
ものとすれば、プロセス量PVの波形を観測するように
してもよい。また、上記の説明では、PI制御手段を有
する調節手段を例にとって説明したが、PID制御手段
を有する調節手段に適用してもよい。
(発明の効果)
以上詳細に説明したように、本発明は、制御目標値の変
更やプロセスにおける負荷変動などに伴うプロセス量又
は偏差信号の応答パターンを把握する指標のひとつに、
応答波形の第1.第2のピ一りの発生時点に続くプロセ
ス量又は偏差、信号に係る面積^1.A、のレシオを導
入し、この面積レシオを含む評価指標に基づいて、PI
演算パラメータを最適値となるように変更するようにし
たものである。従って、本発明によれば、ノイズ等に影
響されないで、かつ短かい時間で最適なP1演算パラメ
ータを設定することのできるオートチューニング調節装
置が実現できる。
更やプロセスにおける負荷変動などに伴うプロセス量又
は偏差信号の応答パターンを把握する指標のひとつに、
応答波形の第1.第2のピ一りの発生時点に続くプロセ
ス量又は偏差、信号に係る面積^1.A、のレシオを導
入し、この面積レシオを含む評価指標に基づいて、PI
演算パラメータを最適値となるように変更するようにし
たものである。従って、本発明によれば、ノイズ等に影
響されないで、かつ短かい時間で最適なP1演算パラメ
ータを設定することのできるオートチューニング調節装
置が実現できる。
第1図は本発明装置の基本的な機能ブロック図、第2図
は本発明に係る装置の構成ブロック図、第3図は第2図
装置の動作の一例を示すフローチャート、第4図は波形
観測手段における波形観測手法の説明図、第5図は観測
波形に含まれるノイズの影響について説明するための波
形図、第6図は第3図におけるステップ6の詳細を示す
フローチャート、第7図はパラメータ演算手段において
定められる各区分の概念と各区分における演算式を示す
説明図、第8図は従来装置における応答パターンの認識
手法の一例を示す説明図である。 1・・・制御対象(プロセス)、2・・・PI制御手段
。 3・・・パラメータチューニング手段、31・・・波形
観測手段、32・・・目標設定手段、33・・・パラメ
ータ演算手段。 第6図
は本発明に係る装置の構成ブロック図、第3図は第2図
装置の動作の一例を示すフローチャート、第4図は波形
観測手段における波形観測手法の説明図、第5図は観測
波形に含まれるノイズの影響について説明するための波
形図、第6図は第3図におけるステップ6の詳細を示す
フローチャート、第7図はパラメータ演算手段において
定められる各区分の概念と各区分における演算式を示す
説明図、第8図は従来装置における応答パターンの認識
手法の一例を示す説明図である。 1・・・制御対象(プロセス)、2・・・PI制御手段
。 3・・・パラメータチューニング手段、31・・・波形
観測手段、32・・・目標設定手段、33・・・パラメ
ータ演算手段。 第6図
Claims (2)
- (1)制御対象からのプロセス量と制御目標値との偏差
信号に少なくとも比例(P)、積分(I)演算を行ない
得られた操作量を前記制御対象に出力するPI制御手段
と、前記プロセス量又は偏差信号の波形を観測しその観
測結果が予じめ設定した応答目標になるように前記PI
制御手段のP、I演算パラメータをチューニングするパ
ラメータチューニング手段とを備えた調節装置であって
、 前記パラメータチューニング手段は、プロセス量又は偏
差信号(DV)の第1のピーク(DV_1)の発生時点
(t_1)から続く第2のピーク(DV_2)の発生時
点(t_2)までのプロセス量又は偏差信号(DV)に
係る面積(A_1)と、前記発生時点(t_2)から続
くt_2+(t_2−t_1)時点までのプロセス量又
は偏差信号(DV)に係る面積(A_2)とを演算する
とともに、得られた面積(A_1)、(A_2)の面積
レシオ(AR)を前記波形パターンを代表するひとつの
評価指標として出力する波形観測手段と、この波形観測
手段から与えられる面積レシオを含む評価指標に基づい
てP、I演算パラメータを演算するパラメータ演算手段
とを含むことを特徴とする調節装置。 - (2)波形観測手段において、面積(A_1)、面積(
A_2)及び面積レシオ(AR)は(1)式、(2)式
、(3)式に従って演算される特許請求の範囲第1項記
載の調節装置。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) AR=A_2/A_1(3)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5349487A JPH0695284B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 調節装置 |
| US07/163,915 US4881160A (en) | 1987-03-09 | 1988-03-03 | Self-tuning controller |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5349487A JPH0695284B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 調節装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63219002A true JPS63219002A (ja) | 1988-09-12 |
| JPH0695284B2 JPH0695284B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=12944385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5349487A Expired - Lifetime JPH0695284B2 (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 調節装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695284B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02245902A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-01 | Hitachi Ltd | プロセス制御装置 |
-
1987
- 1987-03-09 JP JP5349487A patent/JPH0695284B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02245902A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-01 | Hitachi Ltd | プロセス制御装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0695284B2 (ja) | 1994-11-24 |
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