JPS63220513A - モニタウエハのデ−タ管理方法 - Google Patents
モニタウエハのデ−タ管理方法Info
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- JPS63220513A JPS63220513A JP5338487A JP5338487A JPS63220513A JP S63220513 A JPS63220513 A JP S63220513A JP 5338487 A JP5338487 A JP 5338487A JP 5338487 A JP5338487 A JP 5338487A JP S63220513 A JPS63220513 A JP S63220513A
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- monitor wafer
- lot
- monitor
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 238000013523 data management Methods 0.000 title claims description 19
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 91
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005352 clarification Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体集積回路(以下、ICという)製造の
ウェハプロセス工程において、コンピュータ等のデータ
処理装置を用い−Cモニタウェハによる測定値を管理す
る場合のモニタウェハのデータ管理方法に関するもので
ある。
ウェハプロセス工程において、コンピュータ等のデータ
処理装置を用い−Cモニタウェハによる測定値を管理す
る場合のモニタウェハのデータ管理方法に関するもので
ある。
(従来の技術)
一般にIC製迄のウェハプロセス工程では、ウェハを例
えば25枚を単位としてカセットと称する容器に収納し
て処理される。このカセット単位あるいはその倍数をロ
ットと称して処理単位を識別している。ウェハプロセス
工程では各工程毎の処理か正しく行なわれているかどう
かをチェックするために、モニタウェハと称するjスト
ウェハをロットにセットし、そのロットと同時に処理し
た俊、モニタウェハを投出してそれに対して必要な測定
を行ない、その工程処理の評価を行なうことになる。こ
のモニタウェハの測定値はロットのデータとしてコンピ
ュータ等のデータ処理装置で管理され、他の履歴データ
と比較することか行なわれている。
えば25枚を単位としてカセットと称する容器に収納し
て処理される。このカセット単位あるいはその倍数をロ
ットと称して処理単位を識別している。ウェハプロセス
工程では各工程毎の処理か正しく行なわれているかどう
かをチェックするために、モニタウェハと称するjスト
ウェハをロットにセットし、そのロットと同時に処理し
た俊、モニタウェハを投出してそれに対して必要な測定
を行ない、その工程処理の評価を行なうことになる。こ
のモニタウェハの測定値はロットのデータとしてコンピ
ュータ等のデータ処理装置で管理され、他の履歴データ
と比較することか行なわれている。
従来、この種のモニタウェハのデータ管理方法としては
、例えば第2図(1) 、 (2)に記載されるような
ものかめった。以下、その構成を図を用いて説明する。
、例えば第2図(1) 、 (2)に記載されるような
ものかめった。以下、その構成を図を用いて説明する。
第2図(1) 、 (2)は従来のモニタウェハのデー
タ管理方法を示す図であり、同図(1)ではモニタウェ
ハの処理工程、同図(2)では測定値の処理方法がそれ
ぞれ示されている。
タ管理方法を示す図であり、同図(1)ではモニタウェ
ハの処理工程、同図(2)では測定値の処理方法がそれ
ぞれ示されている。
第2図(1)に示すように、ウエハプロレスエ稈の処理
前にモニタウェハ1をロット2にセラ1へし、そのモニ
タウェハ1を11・y l” 2と共(こ製造装置3内
にセットする。この製造装置3において例えば酸化膜等
の被着を行なった後、ロット2を取出し、そのロット2
からモニタウェハ1を扱取り、そのモニタウェハ1を測
定器4へ送ると共に、ロツ1〜2を次工程5へ送る。測
定器4へ送られたモニタウェハ1は、その測定器4て必
要な測定が行なわれた後、その測定値かデータ処理装置
、例えば]ンビュータ6へ入力される。
前にモニタウェハ1をロット2にセラ1へし、そのモニ
タウェハ1を11・y l” 2と共(こ製造装置3内
にセットする。この製造装置3において例えば酸化膜等
の被着を行なった後、ロット2を取出し、そのロット2
からモニタウェハ1を扱取り、そのモニタウェハ1を測
定器4へ送ると共に、ロツ1〜2を次工程5へ送る。測
定器4へ送られたモニタウェハ1は、その測定器4て必
要な測定が行なわれた後、その測定値かデータ処理装置
、例えば]ンビュータ6へ入力される。
モニタウェハ1を測定する場合、そのモニタウェハ1が
どのロツ1〜2と一緒に処理されたかを識別するために
、ロット2どの関係を示すカード等が必要となる。通常
、ロツ]〜2には工程管理上必要なロット識別のための
ロツ1へ識別カート(以下、ロット10カードという)
7か付属しているので、その弁葉という形でのロットI
Dカート7aをモニタウェハ識別のために作成し、その
[」ツl〜IDカード7aをモニタウェハ1に付属させ
てそのモニタウェハ1の測定を行ない、そのロットID
カート7aに記入された識別旬月(以F、ロツ1〜ID
という)と測定値とからなる測定値人ノjj−タ8を]
ンピ1−夕6へ入力している。
どのロツ1〜2と一緒に処理されたかを識別するために
、ロット2どの関係を示すカード等が必要となる。通常
、ロツ]〜2には工程管理上必要なロット識別のための
ロツ1へ識別カート(以下、ロット10カードという)
7か付属しているので、その弁葉という形でのロットI
Dカート7aをモニタウェハ識別のために作成し、その
[」ツl〜IDカード7aをモニタウェハ1に付属させ
てそのモニタウェハ1の測定を行ない、そのロットID
カート7aに記入された識別旬月(以F、ロツ1〜ID
という)と測定値とからなる測定値人ノjj−タ8を]
ンピ1−夕6へ入力している。
コンピュータ6は第2図(2)に示すように、測定値入
力データ8に基づき、ロットID単位で測定値を整理、
編集して測定値履歴ファイル9を作成し、測定値のデー
タ管理を行なっている。
力データ8に基づき、ロットID単位で測定値を整理、
編集して測定値履歴ファイル9を作成し、測定値のデー
タ管理を行なっている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、上記のデータ管理方法では、モニタウェ
ハ1に固有の識別マークがないため、そのモニタウェハ
1とロット10カード7aか離れてしまうと、モニタウ
ェハ1とロット2との対応関係が分らなくなってしまう
。特にモニタウェハ1をまとめて測定する場合には、多
数のモニタウェハ1か混在するため、それらの個々のモ
ニタウェハ1に対応するロット2との対応関係が不明確
になりやすく、データ管理が正確に行なえないという問
題点があった。
ハ1に固有の識別マークがないため、そのモニタウェハ
1とロット10カード7aか離れてしまうと、モニタウ
ェハ1とロット2との対応関係が分らなくなってしまう
。特にモニタウェハ1をまとめて測定する場合には、多
数のモニタウェハ1か混在するため、それらの個々のモ
ニタウェハ1に対応するロット2との対応関係が不明確
になりやすく、データ管理が正確に行なえないという問
題点があった。
本発明は前記従来技術が持っていた問題点として、モニ
タウェハとロットとの対応関係か不明確になってデータ
管理を正確に行なえないという点について解決したモニ
タウェハのデータ管理方法を提供するものである。
タウェハとロットとの対応関係か不明確になってデータ
管理を正確に行なえないという点について解決したモニ
タウェハのデータ管理方法を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は前記問題点を解決するために、ロットIDカー
ト等に識別符号が付されたロツ1〜にモニタウェハをセ
ットし、そのロットに所定の半導体製造処理を施した後
、前記モニタウェハに対する測定を行ない、その測定値
と前記ロットの識別符号とを対応さ一μた測定値履歴フ
ァイルをコンピュータ等のデータ処理装置を用いて作成
することにより、測定値のデータ管理を行なうモニタウ
ェハのデータ管理方法において、前記モニタウェハ上に
予め識別コードを付し、その識別コードと前記ロットの
識別符号とを対応づけた対応ファイルを前記データ処理
装置に記録しておく。そしてモニタウェハに対する測定
を行なってそのモニタウェハの識別]−ドに対応する測
定値を前記データ処理装置に入力し、そのデータ処理装
置により、前記対応ファイルを参照しつつ測定値履歴フ
ァイルを作成させるようにしたものである。
ト等に識別符号が付されたロツ1〜にモニタウェハをセ
ットし、そのロットに所定の半導体製造処理を施した後
、前記モニタウェハに対する測定を行ない、その測定値
と前記ロットの識別符号とを対応さ一μた測定値履歴フ
ァイルをコンピュータ等のデータ処理装置を用いて作成
することにより、測定値のデータ管理を行なうモニタウ
ェハのデータ管理方法において、前記モニタウェハ上に
予め識別コードを付し、その識別コードと前記ロットの
識別符号とを対応づけた対応ファイルを前記データ処理
装置に記録しておく。そしてモニタウェハに対する測定
を行なってそのモニタウェハの識別]−ドに対応する測
定値を前記データ処理装置に入力し、そのデータ処理装
置により、前記対応ファイルを参照しつつ測定値履歴フ
ァイルを作成させるようにしたものである。
(作 用)
本発明によれば、以上のようにモニタウェハのデータ管
理方法を構成したので、モニタウェハ上に付された識別
コードはモニタウェハと分離せず、−ρ − そのモニタウェハを他のモニタウェハと区別し、ロット
との対応関係を明らかにする勤ぎをする。
理方法を構成したので、モニタウェハ上に付された識別
コードはモニタウェハと分離せず、−ρ − そのモニタウェハを他のモニタウェハと区別し、ロット
との対応関係を明らかにする勤ぎをする。
モニタウェハの測定値とそのモニタウェハの識別]−ド
とかデータ処理装置に入力されると、このデータ処理装
置では対応ファイルに基づき、入力された識別コードに
対応するロットの識別符号を検索し、その識別符号毎に
測定値を整理、編集して測定値履歴ファイルを作成する
。これにより、多数のモニタウェハをまとめて測定した
としても、ロットとの対応関係か不明確にならず、簡易
、的確な測定値のデータ管理が行なえる。従って前記問
題点を除去できるのである。
とかデータ処理装置に入力されると、このデータ処理装
置では対応ファイルに基づき、入力された識別コードに
対応するロットの識別符号を検索し、その識別符号毎に
測定値を整理、編集して測定値履歴ファイルを作成する
。これにより、多数のモニタウェハをまとめて測定した
としても、ロットとの対応関係か不明確にならず、簡易
、的確な測定値のデータ管理が行なえる。従って前記問
題点を除去できるのである。
(実施例) ′
第1図(1) 、 (2)は本発明の実施例を示すモニ
タウェハのデータ管理方法を示す図であり、同図(1)
ではモニタウェハの処理工程、同図(2)では測定値の
処理方法かそれぞれ示されている。
タウェハのデータ管理方法を示す図であり、同図(1)
ではモニタウェハの処理工程、同図(2)では測定値の
処理方法かそれぞれ示されている。
第1図(1)に示すように、予めモニタウェハ20上に
印字、刻印等によって識別コード(以下、モニタIOと
いう) 20aを付しておき、このモニタウェハ20を
ロット21にセットする場合、そのロット21に付属し
ているロットIDカード22に記載されたロッ1〜ID
と該モニタIO20(lとをデータ処理装置、例えば」
ンピュータ23に人力しておく。コンピュータ23は中
央処理装置(以下、CPUという)、メモリ、及び入出
力装置を備え、その入出力装置から人力された前記ロッ
ト■0及びモニタID20aに基づき、第1図(2)に
示ずようにそれら両者の対応ファイル24を作成し、そ
の対応ファイル24をメ七りに格納する。
印字、刻印等によって識別コード(以下、モニタIOと
いう) 20aを付しておき、このモニタウェハ20を
ロット21にセットする場合、そのロット21に付属し
ているロットIDカード22に記載されたロッ1〜ID
と該モニタIO20(lとをデータ処理装置、例えば」
ンピュータ23に人力しておく。コンピュータ23は中
央処理装置(以下、CPUという)、メモリ、及び入出
力装置を備え、その入出力装置から人力された前記ロッ
ト■0及びモニタID20aに基づき、第1図(2)に
示ずようにそれら両者の対応ファイル24を作成し、そ
の対応ファイル24をメ七りに格納する。
モニタウェハ20をロット21にセットした後、そのロ
ット21を製造装置25内にセラ1へし、その製造装置
25により酸化膜被着等の所定の処理を施す。
ット21を製造装置25内にセラ1へし、その製造装置
25により酸化膜被着等の所定の処理を施す。
製造装置25による処理か終ると、ロット21を取出し
、そのロット21からモニタウェハ20を扱取り、その
モニタウェハ20を測定器26へ送ると共に、ロット2
1を次工程27へ送る。
、そのロット21からモニタウェハ20を扱取り、その
モニタウェハ20を測定器26へ送ると共に、ロット2
1を次工程27へ送る。
測定器26へ送られたモニタウェハ20は、その測定器
26で膜厚測定等の必要な測定が行なわれる。
26で膜厚測定等の必要な測定が行なわれる。
この際、作業者はモニタウェハ20かどの日ツ1〜21
と対応しているかを気にかける必要がない。測定器26
で必要な測定を行なった後、その測定値と七二夕ID2
0aとを対応させた第1図(2)に示すような測定値入
力データ28をコンピュータ23の入出力装置へ人力す
る。
と対応しているかを気にかける必要がない。測定器26
で必要な測定を行なった後、その測定値と七二夕ID2
0aとを対応させた第1図(2)に示すような測定値入
力データ28をコンピュータ23の入出力装置へ人力す
る。
第1図(2)に示すように、マイクロコンピュータ23
はロット処理前においてロットIDとモニタID20a
との対応関係を表わす対応ファイル24をメモリに格納
しているので、測定値入力データ28中のモニタIOに
対応するロット■0を対応ファイル24から検索し、そ
の検索したロット■0と測定値とを対応させて測定値履
歴ファイル29を編集、作成し、それをメモリに格納す
ることにより、測定値のデータ管理を行なう。
はロット処理前においてロットIDとモニタID20a
との対応関係を表わす対応ファイル24をメモリに格納
しているので、測定値入力データ28中のモニタIOに
対応するロット■0を対応ファイル24から検索し、そ
の検索したロット■0と測定値とを対応させて測定値履
歴ファイル29を編集、作成し、それをメモリに格納す
ることにより、測定値のデータ管理を行なう。
なお、ロットIDとモニタID20aとの対応付けは一
時的なものであり、測定値履歴ファイル29を作成した
後は、対応ファイル24か不要となる。そこでメモリか
ら対応ファイル24を消去した後、使用済のモニタウェ
ハ20を再び別のロットIDと対応付けることにより、
再度そのモニタウェハ20を他の処理の測定用に使用す
ることも可能である。
時的なものであり、測定値履歴ファイル29を作成した
後は、対応ファイル24か不要となる。そこでメモリか
ら対応ファイル24を消去した後、使用済のモニタウェ
ハ20を再び別のロットIDと対応付けることにより、
再度そのモニタウェハ20を他の処理の測定用に使用す
ることも可能である。
本実施例では、モニタウェハ20上にモニタID20a
を付したので、ロット21との対応付けをコンビコ−一
夕23に入力することか可能となる。モニタウェハ20
がロツ]〜21と離れても、そのモニタウェハ自体にモ
ニタIOか付されているために、容易にロット21との
対応付けか可能であり、モニタウェハ20か多数混在し
ても特別に対応付けのための10カード等を必要とせず
、対応付けを誤ることなく正確に測定値をコンピュータ
23に入力できる。
を付したので、ロット21との対応付けをコンビコ−一
夕23に入力することか可能となる。モニタウェハ20
がロツ]〜21と離れても、そのモニタウェハ自体にモ
ニタIOか付されているために、容易にロット21との
対応付けか可能であり、モニタウェハ20か多数混在し
ても特別に対応付けのための10カード等を必要とせず
、対応付けを誤ることなく正確に測定値をコンピュータ
23に入力できる。
ざらに、コンピュータ23に対してモニタID20aと
測定値だけの人力で、そのコンピュータ23の処理によ
り、ロット21に対応した測定値の履歴データの記録か
可能である。
測定値だけの人力で、そのコンピュータ23の処理によ
り、ロット21に対応した測定値の履歴データの記録か
可能である。
なお、本発明は図示の実施例に限定されず、例えばコン
ピュータ23の代りに他のデータ処理装置を使用する等
、種々の変形が可能である。
ピュータ23の代りに他のデータ処理装置を使用する等
、種々の変形が可能である。
(発明の効果)
以上詳細に説明したように、本発明によれば、モニタウ
ェハ上に識別コードを付し、その識別]−ドとロットの
識別符号とを対応付けた対応ファイルを用いてロットに
対応するモニタウェハ測定値の測定値履歴ファイルを作
成し、測定値のデータ管理を行なうようにしたので、多
数のモニタウェハが混在する場合でも、正確かつ迅速に
ロットとの対応関係を明らかにして測定値のデータ管理
が行なえる。
ェハ上に識別コードを付し、その識別]−ドとロットの
識別符号とを対応付けた対応ファイルを用いてロットに
対応するモニタウェハ測定値の測定値履歴ファイルを作
成し、測定値のデータ管理を行なうようにしたので、多
数のモニタウェハが混在する場合でも、正確かつ迅速に
ロットとの対応関係を明らかにして測定値のデータ管理
が行なえる。
第1図(1) 、 (2)は本発明の実施例を示すモニ
タウェハのデータ管理方法を示す図であり、同図(1)
はモニタウェハの処理工程図、同図(2)は測定値の処
理方法図、第2図は従来のモニタウェハのデータ管理方
法を示す図であり、同図(1)はモニタウェハの処理工
程図、同図(2)は測定値の処理方法図である。 20・・・・・・モニタウェハ、20a・・・・・・識
別コード(モニタID> 、21・・・・・・ロット、
22・・・・・・ロットIDカート、23・・・・・・
データ処理装置(コンピュータ)、24・・・・・・対
応ファイル、25・・・・・・製造装置、26・・・・
・・測定器、28・・・・・・測定値人力データ、29
・・・・・・測定値履歴ファイル。
タウェハのデータ管理方法を示す図であり、同図(1)
はモニタウェハの処理工程図、同図(2)は測定値の処
理方法図、第2図は従来のモニタウェハのデータ管理方
法を示す図であり、同図(1)はモニタウェハの処理工
程図、同図(2)は測定値の処理方法図である。 20・・・・・・モニタウェハ、20a・・・・・・識
別コード(モニタID> 、21・・・・・・ロット、
22・・・・・・ロットIDカート、23・・・・・・
データ処理装置(コンピュータ)、24・・・・・・対
応ファイル、25・・・・・・製造装置、26・・・・
・・測定器、28・・・・・・測定値人力データ、29
・・・・・・測定値履歴ファイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 複数のウェハの集合からなる識別符号付きのロットにモ
ニタウエハをセットし、そのロツトに所定の半導体製造
処理を施した後、前記モニタウェハに対する測定を行な
い、その測定値と前記ロットの識別符号とを対応させた
測定値履歴ファイルをデータ処理装置を用いて作成する
ことにより、測定値のデータ管理を行なうモニタウェハ
のデータ管理方法において、 前記モニタウェハ上に予め識別コードを付し、その識別
コードと前記ロットの識別符号とを対応付けた対応ファ
イルを前記データ処理装置に記録しておき、前記モニタ
ウェハに対する測定を行なってそのモニタウェハの識別
コードに対応する測定値を前記データ処理装置に入力し
、そのデータ処理装置により、前記対応ファイルを参照
しつつ前記測定値履歴ファイルを作成させることを特徴
とするモニタウェハのデータ管理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5338487A JPS63220513A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | モニタウエハのデ−タ管理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5338487A JPS63220513A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | モニタウエハのデ−タ管理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63220513A true JPS63220513A (ja) | 1988-09-13 |
Family
ID=12941328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5338487A Pending JPS63220513A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | モニタウエハのデ−タ管理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63220513A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0334441A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-14 | Fujitsu Ltd | 半導体基板の連続処理システム |
| JPH0344054A (ja) * | 1989-07-12 | 1991-02-25 | Hitachi Ltd | 検査システムおよび電子デバイスの製造方法 |
| JPH05121521A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | 半導体ウエハ製造装置および製造方法 |
| JPH05251547A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-28 | Nec Corp | プローバ |
| US6404911B2 (en) | 1989-07-12 | 2002-06-11 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor failure analysis system |
| JP2002190509A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-05 | Mitsubishi Electric Corp | 検査解析方法及び半導体装置 |
| JP2004207273A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
-
1987
- 1987-03-09 JP JP5338487A patent/JPS63220513A/ja active Pending
Cited By (12)
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|---|---|---|---|---|
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| US6185322B1 (en) | 1989-07-12 | 2001-02-06 | Hitachi, Ltd. | Inspection system and method using separate processors for processing different information regarding a workpiece such as an electronic device |
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