JPS6322382B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6322382B2
JPS6322382B2 JP58176907A JP17690783A JPS6322382B2 JP S6322382 B2 JPS6322382 B2 JP S6322382B2 JP 58176907 A JP58176907 A JP 58176907A JP 17690783 A JP17690783 A JP 17690783A JP S6322382 B2 JPS6322382 B2 JP S6322382B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bubble
propagation
propagation path
ion implantation
permalloy
Prior art date
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Expired
Application number
JP58176907A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6070577A (ja
Inventor
Seiichi Iwasa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS6070577A publication Critical patent/JPS6070577A/ja
Publication of JPS6322382B2 publication Critical patent/JPS6322382B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は電子計算装置の記憶装置として用いら
れる磁気バブルメモリ装置に関するものである。
従来技術と問題点 従来、磁気バブルメモリ素子の伝播路には第1
図a,bに示すパーマロイ薄膜により形成された
伝播路1と第2図a,bに示す如きイオン注入に
より形成された伝播路2が知られている。そして
何れもホトリソグラフイ技術を応用して形成され
る。ところが前者のパーマロイによる伝播路1は
バブル径の2/3以下のギヤツプgが必要であるた
め、1μm程度の微小バブルを用いた場合、0.7μm
以下のギヤツプが要求され、通常のホトリソグラ
フイ技術では実現できない欠点があつた。一方後
者のイオン注入伝播路2はイオン注入部と非イオ
ン注入部の境界に生ずるチヤージドウオールによ
つてバブルを伝播させるため、ギヤツプを必要と
せず1μm程度の最小寸法で1μm以下のバブルを伝
播させることができる。しかしこのイオン注入伝
播路でバブルを停止保持する場合、凹部(以下カ
スプと称す)4には極めて小さい保持磁界(以下
ホールド磁界と称す)で保持できるが凸部(以下
テイツプと称す)5に停止保持するためには極め
て大きなホールド磁界が必要になる。第3図に示
すようにホールド磁界方向6を90゜ずつ変化させ
ても必ず1個所以上はテイツプに停止するバブル
7があるため全体としてホールド磁界の大きさは
極めて大きくする必要があるという欠点があつ
た。なおパーマロイ伝播路においては小さなホー
ルド磁界でいずれの位置にも停止、保持すること
ができる。
発明の目的 本発明は上記従来の欠点に鑑み、通常のホトリ
ソグラフイ技術で微小バブルの伝播路を形成する
ことができ、しかも小さなホールド磁界でバブル
保持することができる磁気バブルメモリ素子を提
供することを目的とするものである。
発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、バブル結晶
の表面にイオン注入法によりバブル伝播路を形成
した磁気バブルメモリ素子において、前記イオン
注入バブル伝播路は該伝播路上でホールド磁界に
よりバブルが停止する凸部近傍に該イオン注入伝
播路に沿つてパーマロイ伝播素子を配置したこと
を特徴とする磁気バブルメモリ素子を提供すこと
によつて達成される。
発明の実施例 以下、本発明実施例を図面によつて詳述する。
第4図は本発明による磁気バブルメモリ素子を
説明するための図であり、aは構成図、bは作用
説明図である。同図において、10はイオン注入
部、11は非イオン注入部、12はイオン注入伝
播路、13はパーマロイ伝播素子をそれぞれ示し
ている。
本実施例は図に示す如くイオン注入伝播路12
のバブルがホールド磁界により停止するテイツプ
近傍に沿つてシエブロン形のパーマロイ伝播素子
13を配置したものである。
このように構成された本実施例はパーマロイ伝
播素子13間のギヤツプ部はイオン注入伝播路1
2のカスプ14が伝播を受け持つためパーマロイ
伝播素子13のギヤツプgをバブル径以上にする
ことができ、従つて通常のホトリソグラフイ技術
でも微小バブルの伝播路の作成が可能となる。
またバブルを停止保持する場合第4図bのよう
にホールド磁界15を矢印方向に印加しておけば
伝播路の上側ではパーマロイ伝播素子13の頂点
に、下側ではイオン注入伝播路のカスプ14にそ
れぞれバブル16,17が保持される。このとき
必要なホールド磁界の大きさはパーマロイ伝播素
子13の頂点にバブルを安定に保持する大きさで
よく、イオン注入伝播路のテイツプに保持する場
合に比較して1/3以下の大きさとなる。
第5図は他の実施例を説明するための図であ
り、aはダイヤモンド型、bは非ダイヤモンド型
を示す。同図において、第4図と同一部分は同一
符号を付して示した。
本実施例が前実施例と異なるところはa,bと
もパーマロイ伝播素子13が非対称シエブロンで
あることである。
このように構成された本実施例はパーマロイ伝
播素子13が矢印で示すバブルの進行方向に対し
て非対称であるので前実施例に比しバブルの伝播
がさらに安定化される。
発明の効果 以上、詳細に説明したように本発明の磁気バブ
ルメモリ素子は、イオン注入伝播路のテイツプ近
傍にパーマロイ伝播素子を配し、この部分のバブ
ル伝播をパーマロイ伝播素子が受け持ち、パーマ
ロイ伝播素子のギヤツプ部では伝播をイオン注入
伝播路が受け持つようにしたものであつて、通常
のホトリソグラフイ技術によつて微小バブルの伝
播路を形成でき、しかも小さなホールド磁界でバ
ブルを保持することができるといつた効果大なる
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のパーマロイによる伝播路を示す
図、第2図は従来のイオン注入による伝播路を示
す図、第3図は従来のイオン注入伝播路における
バブル停止位置の説明図、第4図は本発明による
磁気バブルメモリ素子を説明するための図、第5
図は他の実施例を説明するための図である。 図面において、10はイオン注入部、11は非
イオン注入部、12はイオン注入伝播路、13は
パーマロイ伝播素子をそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 バブル結晶の表面にイオン注入法によりバブ
    ル伝播路を形成した磁気バブルメモリ素子におい
    て、前記イオン注入バブル伝播路は該伝播路上で
    ホールド磁界によりバブルが停止する凸部近傍に
    該イオン注入伝播路に沿つてパーマロイ伝播素子
    を配置したことを特徴とする磁気バブルメモリ素
    子。 2 パーマロイ伝播素子間のギヤツプがバブル径
    以上であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の磁気バブルメモリ素子。 3 パーマロイ伝播素子がバブルの伝播方向に対
    して非対称であることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項又は第2項記載の磁気バブルメモリ素
    子。
JP58176907A 1983-09-27 1983-09-27 磁気バブルメモリ素子 Granted JPS6070577A (ja)

Priority Applications (1)

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JP58176907A JPS6070577A (ja) 1983-09-27 1983-09-27 磁気バブルメモリ素子

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JP58176907A JPS6070577A (ja) 1983-09-27 1983-09-27 磁気バブルメモリ素子

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JPS6070577A JPS6070577A (ja) 1985-04-22
JPS6322382B2 true JPS6322382B2 (ja) 1988-05-11

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ID=16021837

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JP58176907A Granted JPS6070577A (ja) 1983-09-27 1983-09-27 磁気バブルメモリ素子

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04114801U (ja) * 1991-03-20 1992-10-09 シユウ,ダー−ジエン 家具の自在回転脚輪

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5896705A (ja) * 1981-12-04 1983-06-08 Hitachi Ltd 磁気バブルメモリ素子
JPS58108085A (ja) * 1981-12-18 1983-06-28 Hitachi Ltd 磁気バブル素子
JPS6032197A (ja) * 1983-08-03 1985-02-19 Hitachi Ltd 磁気バブル素子

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JPS6070577A (ja) 1985-04-22

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