JPS63225459A - レ−ザイオン源装置 - Google Patents
レ−ザイオン源装置Info
- Publication number
- JPS63225459A JPS63225459A JP5959787A JP5959787A JPS63225459A JP S63225459 A JPS63225459 A JP S63225459A JP 5959787 A JP5959787 A JP 5959787A JP 5959787 A JP5959787 A JP 5959787A JP S63225459 A JPS63225459 A JP S63225459A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- ion beam
- laser light
- laser
- ion source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、イオン源材料にレーザ光を照射することによ
り発生するイオンを、加速管等により加速してイオンビ
ームを得る装置に関する。
り発生するイオンを、加速管等により加速してイオンビ
ームを得る装置に関する。
〈従来の技術〉
この種の装置においては、通常イオン源材料を収容する
イオン源チェンバが高電圧に設定されていることから、
従来、レーザ光源およびその電源等を高圧側に浮かす方
法、あるいは、第２図に示す従来の装置例のように、レ
ーザ光源２５およびその電源等を装置外部の接地側に配
設し、レーザ光源２５からのレーザビームを、レンズ、
ミラー等の光学的手段を介してイオン源チャンバ２９内
のイオン源材料２１に照射させる方法等が採用されてい
る。
イオン源チェンバが高電圧に設定されていることから、
従来、レーザ光源およびその電源等を高圧側に浮かす方
法、あるいは、第２図に示す従来の装置例のように、レ
ーザ光源２５およびその電源等を装置外部の接地側に配
設し、レーザ光源２５からのレーザビームを、レンズ、
ミラー等の光学的手段を介してイオン源チャンバ２９内
のイオン源材料２１に照射させる方法等が採用されてい
る。
〈発明が解決しようとする問題点〉
以上のような従来のレンズ光照射方法によれば、いずれ
も、イオン源チェンバが複雑な形状になり、その結果、
レーザ光源等の保守作業が困難になるという問題があっ
た。
も、イオン源チェンバが複雑な形状になり、その結果、
レーザ光源等の保守作業が困難になるという問題があっ
た。
本発明の目的は、イオン源チェンバを複雑な形状にする
ことなく、イオン源材料にレーザ光を照射でき、しかも
、レーザ光源等の保守作業が容易なレーザイオン源装置
を提供することにある。
ことなく、イオン源材料にレーザ光を照射でき、しかも
、レーザ光源等の保守作業が容易なレーザイオン源装置
を提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉
上記の目的を達成するための構成を、本発明の実施例に
対応する第１図を参照しつつ説明すると、本発明は、イ
オン源材料１にレーザ光導入部（レーザ光導入管）４か
らのレーザ光りを照射することによって発生するイオン
を、加速手段（加速管）２により所定方向に加速してイ
オンビームＢを得る装置において、レーザ光導入部４を
イオンビームＢの進行方向上に配設するとともに、この
レーザ光導入部４と加速手段２との間に少なくとも１つ
のイオンビーム偏向手段（イオンビーム偏向装置）３を
配設し、そのイオンビーム偏向手段３を経たイオンビー
ムＢをターゲットＭに照射するよう構成したことを特徴
としている。 ′く作用〉 レーザ光源５からのレーザ光りをレーザ光導入部４およ
び加速手段２を介してイオン源材料１に照射することに
よって発生したイオンが加速手段２によりイオンビーム
となり、このイオンビームがイオンビーム偏向手段３に
より偏向されてターゲラ）Ｍを照射するので、レーザ光
打ち込み用パスとイオン加速用バスを共用できることに
なり、イオン源チェンバにレーザ光打ち込み用パスを新
たに設ける必要がなくなる。
対応する第１図を参照しつつ説明すると、本発明は、イ
オン源材料１にレーザ光導入部（レーザ光導入管）４か
らのレーザ光りを照射することによって発生するイオン
を、加速手段（加速管）２により所定方向に加速してイ
オンビームＢを得る装置において、レーザ光導入部４を
イオンビームＢの進行方向上に配設するとともに、この
レーザ光導入部４と加速手段２との間に少なくとも１つ
のイオンビーム偏向手段（イオンビーム偏向装置）３を
配設し、そのイオンビーム偏向手段３を経たイオンビー
ムＢをターゲットＭに照射するよう構成したことを特徴
としている。 ′く作用〉 レーザ光源５からのレーザ光りをレーザ光導入部４およ
び加速手段２を介してイオン源材料１に照射することに
よって発生したイオンが加速手段２によりイオンビーム
となり、このイオンビームがイオンビーム偏向手段３に
より偏向されてターゲラ）Ｍを照射するので、レーザ光
打ち込み用パスとイオン加速用バスを共用できることに
なり、イオン源チェンバにレーザ光打ち込み用パスを新
たに設ける必要がなくなる。
〈実施例〉
本発明の実施例を以下図面に基づいて説明する。
第１図は本発明実施例の縦断面図である。
内部に引き出し電極７および加速電極６を備えた加速管
２の一端には、イオン源材料１を収容するイオン源チェ
ンバ９が接続されており、他端にはイオンビーム偏向装
置３が接続されている。このイオンビーム偏向装置３に
は、加速管２の延長線上に沿ってなり、かつ、レンズ８
を備えたレーザ光導入管４．およびイオンビーム偏向装
置３によりイオンビームが偏向される方向に配設された
イオンビーム導出管１０がそれぞれ接続されている。こ
のイオンビーム導出管１０は、ターゲットＭを収容する
ターゲットチェンバ１１に導かれている。また、レーザ
光導入管４の延長線上の任意位置にレーザ光源５が配設
されている。
２の一端には、イオン源材料１を収容するイオン源チェ
ンバ９が接続されており、他端にはイオンビーム偏向装
置３が接続されている。このイオンビーム偏向装置３に
は、加速管２の延長線上に沿ってなり、かつ、レンズ８
を備えたレーザ光導入管４．およびイオンビーム偏向装
置３によりイオンビームが偏向される方向に配設された
イオンビーム導出管１０がそれぞれ接続されている。こ
のイオンビーム導出管１０は、ターゲットＭを収容する
ターゲットチェンバ１１に導かれている。また、レーザ
光導入管４の延長線上の任意位置にレーザ光源５が配設
されている。
次に、作用について述べる。レーザ光源５からのレーザ
光りをレンズ８によりイオン源材料１上に収束させるこ
とによりζ収束点のイオン源材料１がプラズマ化され、
このプラズマ中のイオンが引き出し電極７により引き出
され、加速電極６により加速されてイオンビームＢとな
る。このようにして得られたイオンビームＢが、イオン
ビーム偏向装置３により偏向されてターゲットＭを照射
する。
光りをレンズ８によりイオン源材料１上に収束させるこ
とによりζ収束点のイオン源材料１がプラズマ化され、
このプラズマ中のイオンが引き出し電極７により引き出
され、加速電極６により加速されてイオンビームＢとな
る。このようにして得られたイオンビームＢが、イオン
ビーム偏向装置３により偏向されてターゲットＭを照射
する。
なお、本実施例では、１つのイオンビーム偏向装置３を
加速管に接続しているが、本発明は、これに限られるこ
とな（、任意複数のイオンビーム偏向装置を接続しても
よい。
加速管に接続しているが、本発明は、これに限られるこ
とな（、任意複数のイオンビーム偏向装置を接続しても
よい。
また、本実施例では、イオンビームＢを９０″方向に偏
向しているが、他の任意角度に偏向できることは言うま
でもない。
向しているが、他の任意角度に偏向できることは言うま
でもない。
さらに、本実施例では、レーザ光源５をレーザ光導入管
４の延長線上に配設し、レーザ光りをレンズ８により収
束させているが、本発明は、これに限られることなく、
レーザ光源５とレーザ光導入管４との間にレンズ、ミラ
ー等の光学的手段を配設することにより、レーザ光源５
を他の任意位置にも配設できるし、また、レーザ光導入
管４に備えられたレンズ８を石英等を用いた窓としても
よい。
４の延長線上に配設し、レーザ光りをレンズ８により収
束させているが、本発明は、これに限られることなく、
レーザ光源５とレーザ光導入管４との間にレンズ、ミラ
ー等の光学的手段を配設することにより、レーザ光源５
を他の任意位置にも配設できるし、また、レーザ光導入
管４に備えられたレンズ８を石英等を用いた窓としても
よい。
さらにまた、本発明はレーザ光によるイオン源装置とし
ているが、他の任意の光による援助効果を必要とするイ
オン源装置にも適用され得る。
ているが、他の任意の光による援助効果を必要とするイ
オン源装置にも適用され得る。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明によれば、レーザイオン源
装置において、レーザ光導入部を加速手段からのイオン
ビーム進行方向上に配設するとともに、このレーザ光導
入部と加速手段との間に少な（とも１つのイオンビーム
偏向手段を配設し、そのイオンビーム偏向手段を経たイ
オンビームをターゲットに照射するよう構成したから、
レーザ光源等を高圧に浮かす必要がなく、また、レーザ
光打ち込み用パスとイオン加速用バスを共用できること
になり、レーザ光源の設置場所に自由度が得られるとと
もに、イオン源チェンバが形状が簡単化され、その結果
、レーザ光源等の保守が容易となる。
装置において、レーザ光導入部を加速手段からのイオン
ビーム進行方向上に配設するとともに、このレーザ光導
入部と加速手段との間に少な（とも１つのイオンビーム
偏向手段を配設し、そのイオンビーム偏向手段を経たイ
オンビームをターゲットに照射するよう構成したから、
レーザ光源等を高圧に浮かす必要がなく、また、レーザ
光打ち込み用パスとイオン加速用バスを共用できること
になり、レーザ光源の設置場所に自由度が得られるとと
もに、イオン源チェンバが形状が簡単化され、その結果
、レーザ光源等の保守が容易となる。
第１図は本発明実施例の縦断面図、
第２図は従来のレーザイオン源装置例の縦断面図である
。 １・・・イオン源材料 ２・・・加速管 ３・・・イオンビーム偏向装置 ４・・・レーザ光導入管 ５・・・レーザ光源 Ｍ・・・ターゲット 特許出願人 株式会社島津製作所代 理 人
弁理士 西１）新 第１図 第２図
。 １・・・イオン源材料 ２・・・加速管 ３・・・イオンビーム偏向装置 ４・・・レーザ光導入管 ５・・・レーザ光源 Ｍ・・・ターゲット 特許出願人 株式会社島津製作所代 理 人
弁理士 西１）新 第１図 第２図
Claims (1)
- イオン源材料にレーザ光導入部からのレーザ光を照射す
ることによって発生するイオンを、加速手段により所定
方向に加速してイオンビームを得る装置において、上記
レーザ光導入部を上記イオンビームの進行方向上に配設
するとともに、このレーザ光導入部と上記加速手段との
間に少なくとも１つのイオンビーム偏向手段を配設し、
そのイオンビーム偏向手段を経たイオンビームをターゲ
ットに照射するよう構成したことを特徴とする、レーザ
イオン源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5959787A JPS63225459A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | レ−ザイオン源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5959787A JPS63225459A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | レ−ザイオン源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63225459A true JPS63225459A (ja) | 1988-09-20 |
Family
ID=13117811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5959787A Pending JPS63225459A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | レ−ザイオン源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63225459A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6169288B1 (en) | 1997-10-03 | 2001-01-02 | Agency Of Industrial Science & Technology, Ministry Of International Trade & Industry | Laser ablation type ion source |
| EP2161724A4 (en) * | 2007-05-21 | 2010-04-07 | Univ Kyoto | DEVICE AND METHOD FOR ION-IRON BEAM CONTROL |
| JP2014164818A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Toshiba Corp | レーザイオン源及び重粒子線治療装置 |
-
1987
- 1987-03-13 JP JP5959787A patent/JPS63225459A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6169288B1 (en) | 1997-10-03 | 2001-01-02 | Agency Of Industrial Science & Technology, Ministry Of International Trade & Industry | Laser ablation type ion source |
| EP2161724A4 (en) * | 2007-05-21 | 2010-04-07 | Univ Kyoto | DEVICE AND METHOD FOR ION-IRON BEAM CONTROL |
| US8106366B2 (en) | 2007-05-21 | 2012-01-31 | Kyoto University | Ion beam control apparatus and method |
| JP2014164818A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Toshiba Corp | レーザイオン源及び重粒子線治療装置 |
| DE102014001653B4 (de) | 2013-02-21 | 2023-05-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Laserionenquelle und Schwerteilchenstrahl-Therapiegerät |
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