JPS6323201B2 - - Google Patents

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JPS6323201B2
JPS6323201B2 JP54012851A JP1285179A JPS6323201B2 JP S6323201 B2 JPS6323201 B2 JP S6323201B2 JP 54012851 A JP54012851 A JP 54012851A JP 1285179 A JP1285179 A JP 1285179A JP S6323201 B2 JPS6323201 B2 JP S6323201B2
Authority
JP
Japan
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hydrogen
group
formula
polymer
alkyl
Prior art date
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Application number
JP54012851A
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English (en)
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JPS54117587A (en
Inventor
Tsuwaifueru Hansu
Berasu Danieru
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS54117587A publication Critical patent/JPS54117587A/ja
Publication of JPS6323201B2 publication Critical patent/JPS6323201B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/30Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08BPOLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B37/00Preparation of polysaccharides not provided for in groups C08B1/00 - C08B35/00; Derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G85/00General processes for preparing compounds provided for in this subclass
    • C08G85/004Modification of polymers by chemical after-treatment
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は三環状イミジル側基を有する新規な光
架橋性ポリマーに関するものである。 種々の置換イミド、なかでもマレイミドが架橋
性(硬化性)のポリマーの製造に適していること
は文献から知られている。特開昭50−5376、
5377、5378および5380号には、種々の、光架橋性
ポリマーの製造に適したα−アリールマレイミド
およびそのN−置換誘導体が記載されている。こ
れらの化合物はβ−位が、さらにハロゲン原子、
シアノ基または低級アルキル基で置換されてもよ
い。この際、該アルキル基はα−アリール基のオ
ルソ位の炭素原子と一緒に環を形成してもよい。
しかしながら、具体的開示はα−フエニルおよび
α−フエニル−β−シアノマレイミドおよびその
N−置換誘導体に限られている。特開昭49−
128991、128992および128993号並びに50−9682、
10884および77363号には光架橋性のポリマーの製
造、例えば、N−置換基にヒドロキシル基、アミ
ノ基、カルボン酸またはカルボン酸クロリド基を
有する前述のN−置換α−アリールマレイミドの
対応する官能基をもつポリマーとの反応による製
造が記載されている。ドイツ公開公報2031573、
2032037、および2626795号から、さらにイミジル
誘導体または末端にまたは側基としてイミジル
基、特にマレイミド、ジメチルマレイミド、ナデ
イツクイミドおよびテトラヒドロフタルイミド基
を有する光架橋性ポリマーが知られている。 これらの以前から知られたイミドまたはそれか
ら製造される架橋されうるポリマーは光化学的感
度が比較的小さいという欠点をもつている。その
ために、これらは高光感度な物質が必要とされる
多数の用途に適さないか、またはほとんど適さな
いか、あるいは、それらは知られた光増感剤、例
えばベンゾフエノン、チオキサントンなどを一緒
に用いることが必要とされる。 本発明の目的は、高い紫外線吸収を示し、か
つ、それ故に光増感剤の添加なしに高い架橋速度
を保証する新規な、光の作用により架橋しうるポ
リマーを提供することにある。 本発明によつて、光の作用により架橋しうる下
記のポリマーが提供される。 重量平均分子量が1000〜1500000であり、ポリ
マーの繰返し構造単位の数に基いて、少なくとも
5%の式()のイミジル側基を有し、 〔こゝで、RおよびR1は水素、Aは−CH2−、
−CH2−CH2−または芳香環に結合した酸素原子
を有する−OCH2−で、かつ、Eは水素、あるい
はAは−O−で、かつ、Eは−CH3である。〕 かつ、反応性C=C二重結合を含むモノマーか
ら誘導されたホモポリマーまたはコポリマーであ
る光架橋性ポリマーであつて、このポリマーは a ポリマー鎖中の繰返し構造単位の数を基礎に
して5−100%の、式()、()および()
からなる群より選ばれた分子鎖メンバー および 〔こゝで、“imidyl”は式()の基であり、 Yは炭素数1−30のアルキレン基で基Yは置換
されてもよい、 Q1は水素またはメチル基、 ZおよびZ2は−O−である。〕、 b ポリマー鎖中の繰返し構造単位の数に基いて
95−0%の、式()の構造単位 〔こゝで、X1およびX3はそれぞれ水素、 X2は水素またはメチル基、 X4は水素、ピリジル基、ピロリジル基、アル
キル部分の炭素数が1−12の−COO−アルキ
ル基、アルキルの炭素数が1−4の−OCO−
アルキル、炭素数1−6のアルコキシ基あるい
は X1およびX2はそれぞれ水素で X3およびX4は一緒に基
【式】また はそれぞれ−COOHである。〕 を含むことを特徴とする光架橋性ポリマー。 式()のイミジル基の割合はポリマーの繰返
し構造の数に基いて、好ましくは5−100%、特
に20−100%である。 本発明のポリマーの重量平均分子量は、好まし
くは少なくとも1000−1000000、特に1000−
200000が好ましい。 本発明のポリマーは光活性の側基をもつた高分
子を製造するためのそれ自体知られた方法により
製造される。原則的には次の経路を用いることが
できる。 (1) 存在するポリマー中に式の三環式イミジル
基を導入する。 (2) すでに光活性の三環式イミジル基を含むモノ
マーからポリマーのチエインを増成する。この
場合、ポリマーチエインは重合により増成され
る。 ある場合には、同一の生成物が方法1および2
によつて得られるので、これらの方法は所望によ
り使用され得る。この三環式イミジル基が存在す
るポリマーチエイン中に導入されるならば、これ
は、例えばジカルボン酸無水物基のような環の開
環を伴なつた縮合反応または附加反応により実施
される。 上記の増成法によつて、本発明のポリマーは式
の化合物を重合させることにより製造される。 imidyl−Y−X () 〔こゝで“imidyl”は式の基、Yは炭素数1
−30のアルキレン基で該基Yはまた置換されても
よい。また、Xは−CO−O−アルケニル、−O−
CO−アルケニルであり、上記の基においてアル
ケニル部分の炭素数は2−4である。〕 なお、所望によつて、式aのコモノマー 〔こゝで、X1およびX3はそれぞれ水素、X2
水素またはメチル基、 X4は水素、ピリジル基、ピロリジル基、アルキ
ル部分の炭素数が1−12の−COO−アルキル基、
アルキルの炭素数が1−4の−OCO−アルキル、
炭素数1−6のアルコキシ基あるいは X1およびX2はそれぞれ水素で X3およびX4は一緒に基
【式】または それぞれ−COOOHである。〕 の存在下に反応させる場合は、式の化合物のそ
のコモノマーに対するモル比は1:20−1:0、
好ましくは1:4−1:0である。 上記の導入法によつて、本発明のポリマーは例
えば式の化合物を imidyl−Y−X′ () 〔こゝで、“imidyl”は式の基であり、Yは
式において定義されたと同様であり、かつ、
X′は−OH、−COOHまたは−COClである。〕 反応性C=C二重結合を含有するモノマーから
誘導され、対応する官能基を有するポリマーと、
このポリマーの繰返し構造単位の数に基いて1:
20−1:1、好ましくは1:5−1:1の比率に
おいて反応させることにより製造することができ
る。 X′が−COOHまたは−COClである式の化合
物は、例えば遊離の−OH、−SH基を含むポリマ
ーと反応しうる。X′が−OHである式の化合物
は、例えば−COOHまたは無水物基を含むポリ
マーとの反応に適当である。 上記の定義により基Yがアルキレン基であつ
て、これらは置換されないか、または、例えばそ
れぞれ炭素数が1−4、特に炭素数1−2のアル
キルもしくはアルコキシ基、ニトロ基またはハロ
ゲン原子、例えば塩素、臭素またはフツ素により
置換されてもよい。 上記アルキレン基Yは直鎖または分枝されう
る。これは、また、1またはそれ以上のヘテロ原
子、特にSまたはO原子を含んでもよい。非置換
の直鎖または分枝アルキレン基は、好ましくは炭
素数2−10である。適当なアルキレン基Yは、例
えば、エチレン基、1,3−またはiso−プロピ
レン基、2,2−ジメチルプロピレン基、テトラ
メチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン
基およびデカメチレン基である。 前記の定義による置換基XまたはX′のアルキ
ルまたはアルケニル部分は直鎖または分枝であつ
てもよい。 前記定義によるアルキルおよびアルケニル基の
例はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、tert−ブチル、ビニル、アリルおよ
びイソプロペニル基である。 置換基Xがアルケニル基を含むならば、このア
ルケニル基は、特に
【式】基(Q1は水素ま たはメチル基)である。 式の三環式イミジル基および式またはの
化合物としてはRおよびR1がそれぞれ水素であ
り、Aが−CH2−、−CH2CH2−または芳香環に
結合された酸素原子をもつた−OCH2−であり、
かつ、Eが水素であるものが好ましい。 式の化合物と反応し得る出発ポリマーは、例
えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、これ
らの酸とその他のエチレン性不飽和モノマーの共
重合体、無水マレイン酸とエチレン性不飽和モノ
マー、例えばメチルビニルエーテル、エチレン、
スチレン、1−ヘキセン、1−デセン、1−テト
ラセンおよび1−オクタデセンとの共重合体、ヒ
ドロキシル基を有するポリマー、例えばポリビニ
ルアルコールである。 さらに、本発明の好ましいポリマーは、式、
およびの構成成分の1または2以上のほか
に、同時に式の構成成分を含有するものであ
る。 〔こゝで、X1およびX3はそれぞれ水素、X2
水素またはメチル基、X4は水素、ピリジル、ピ
ロリジル、アルキル部分の炭素数が1−12の−
COO−アルキル、アルキルの炭素数が1−4の
−OCO−アルキル、炭素数1−6のアルコキシ、
あるいはX1およびX2はそれぞれ水素でX3および
X4は一緒に
【式】またはそれぞれ− COOHである。〕 上記の型の共重合体の中で特に興味のあるもの
は式の構成成分を含むものである。ただし、
式においてX1およびX3はそれぞれ水素、X2
は水素またはメチル基で、X4は−OCOCH3、ま
たはアルキルの炭素数が1−8の−COO−アル
キルである。 式またはの繰返し構造単位の含有するポリ
マーは以下に述べる方法により調製することがで
きる。 (A) Yが定義したとおりで、X′が−COClもしく
は−COOHである式の化合物を式aの繰
返し構造単位を含むポリマーと反応させる。 または、 (B) Yが定義したとおりで、かつ、X′が−OHで
ある式の化合物を式aの繰返し構造単位を
含有するポリマーと反応させる。 特に好ましいポリマーは、式、、または
Xの繰返し構成成分を含有するものである。た
だし、式のイミジル基においてRおよびR1
はそれぞれ水素、Aは−CH2−、−CH2CH2
もしくは芳香環に結合された酸素原子を有する
−OCH2−であり、かつ、Eは水素であり、Y
は直鎖もしくは分枝した炭素数2−11のアルキ
レン基、ZおよびZ2は−O−で、かつ、Q1
メチル基もしくは特に水素である。 さらに好ましいポリマーは、式、、または
Xの繰返し構造単位を含み、かつ、式の繰返
し構造単位を含みうるものである。ただし、式
のイミジル基においてRおよびR1はそれぞれ水
素、Aは−CH2−、−CH2CH2−もしくは芳香環
に結合された酸素原子を有する−OCH2−で、か
つEは水素であり、Yは直鎖もしくは分枝した炭
素数2−11のアルキレン基、ZおよびZ2は−O
−、Q1はメチル基もしくは特に水素で、X1およ
びX3はそれぞれ水素、X2は水素もしくはメチル
基で、X4は−OCOCH3もしくは−COO−アルキ
ル(アルキルの炭素数は1−8)である。 本発明による三環式イミジル基の、縮合または
附加反応によるポリマーチエイン中への導入は、
それ自体知られた方法で、有利には約−50℃−+
150℃の温度において行なうことができる。反応
は、好ましくは不活性の有機溶剤または溶剤混合
物中で行なわれ、また縮合反応の場合には、好ま
しくは約−20℃−+100℃の温度において行なわ
れる。附加反応は、好ましくは高温において、一
般には約80−120℃の温度において、または還流
温度において行なわれる。 縮合または附加反応を行なうのに適当な溶剤の
例はつぎのとおりである。脂肪族もしくは環状ケ
トン例えばアセトン、メチルエチルケトン、イソ
プロピルメチルケトン、シクロヘキサノン、シク
ロペンタンおよびγ−ブチロラクトン、環状エー
テル、例えばテトラヒドロフラン、テトラヒドロ
ピランおよびジオキサン、環状アミド例えばN−
メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロ
リドンおよびN−メチル−ε−カプロラクタム、
酸部分の炭素数が1−3の脂肪族モノカルボン酸
のN,N−ジアルキルアミド例えばN,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジエチルアセトアミドおよびN,N
−ジメチルメトキシアセトアミド、ピリジンおよ
びピリジン塩基もしくは第3級アミン、特に、好
ましくはアルキル部分の炭素数が1−4のトリア
ルキルアミンおよびジアルキルベンジルアミン、
例えばトリエチルアミンおよびジエチルベンジル
アミン、およびジアルキルスルホキサイドおよび
ジエチルスルホキサイド。 縮合反応に好ましい溶剤は上記のタイプの環状
アミドおよびN,N−ジアルキルアミド、特にN
−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホ
ルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミド
である。附加反応には、環状エーテルおよび環状
ケトン、特にテトラヒドロフランおよびシクロヘ
キサノンであり、またピリジンも好ましい。 望ましい結合を促進する触媒を反応溶液に添加
してもよい。例えば、トリエチルアミンもしくは
ピリジン、第4級アンモニウム塩例えばテトラア
ルキルアンモニウムクロライド(各々の場合、ア
ルキル基の炭素数は1−4、好ましくは1もしく
は2)、p−トルエンスルホン酸または濃硫酸の
添加がエステル生成に有利である。 反応後、定義した三環式イミジル基により変性
されたポリマーは僅かに極性の溶剤の添加により
沈澱されうる。このような僅かに極性の溶剤とし
ては、例えば、いずれの場合もアルキル部分の炭
素数が2−4のジアルキルエーテル、例えばジエ
チルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、炭素
数2−6のアルコール例えばメタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノ
ール、および脂肪族、脂環式もしくは芳香族炭化
水素例えばn−ペンタン、n−ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ベンゼンおよびトルエンである。 Xが重合性の基であるか、または重合性の基を
含む式の化合物のホモ重合およびこれらの化合
物の、式aのその他のエチレン性不飽和モノ
マーとの共重合は、同様に、それ自体知られた、
例えば通例のカチオン性もしくはアニオン性開始
剤の存在下に行なわれうる。フリーラジカル重合
が好ましい。この場合、モノマーの全重量に基い
て約0.01−5%、好ましくは0.01−1.5%のそれ自
身知られた開始剤、例えば過酸化水素、パーオキ
シ二硫酸カリ、tert−ブチルヒドロパーオキシ
ド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド過酢酸、過
酸化ベンゾイル、ジアシルパーオキサイド、クメ
ンヒドロパーオキサイド、tert−ブチルパーベン
ゾエートおよびα,α′−アゾイソブチロニトリル
のような無機もしくは有機過酸化物またはアゾ化
合物を用いることが有利である。フリーラジカル
重合の反応温度は一般に30−100℃である。フリ
ーラジカル重合は、しかしながら、また冷時に行
ないうる。また、この目的には上記の濃度でレド
ツクス系、例えば過酸化水素のような過酸化物と
2価の鉄イオンのような還元剤との混合物を用い
ることが可能である。 重合は均一相、例えばバルクで(ブロツク重
合)もしくは溶液で、または不均一相で、すなわ
ち沈澱重合(precipitation polymerisation)乳
化重合もしくは懸濁重合で行ないうる。溶液重合
が好ましい。 適当な溶剤は縮合もしくは附加反応用として記
載されたタイプのものであり、例えば、塩素化芳
香族炭化水素例えばクロロベンゼンおよびジクロ
ロベンゼン、塩素化脂肪族炭化水素例えばメチレ
ンクロライド、クロロホルム、テトラクロロメタ
ン、全炭素数2−6の脂肪族モノカルボン酸のア
ルキルエステル例えばギ酸メチル、ギ酸エチルお
よびギ酸n−ブチルまたは酢酸メチル、酢酸エチ
ルおよび酢酸n−ブチル、およびアルキル部分の
炭素数が1−4のエチレングリコールジアルキル
エーテル例えばエチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテルおよ
びエチレングリコールジ−n−ブチルエーテルで
ある。 このような溶剤の混合物を用いてもよい。 反応終了後、ポリマーは反応混合物を適当な溶
剤例えば脂肪族炭化水素、アルコールもしくはジ
アルキルエーテル、例えばn−ペンタン、n−ヘ
キサン、メタノール、エタノールおよびジエチル
エーテル中に注入することにより沈澱される。 Aが−CH2−、−CH2CH2−もしくは芳香環に
結合された酸素原子を有する−OCH2−で、Eが
水素でY,XおよびX′は定義したとおりである
本発明のポリマーの製造に用いらるべき式およ
びの化合物は式の化合物を 〔こゝで、A′は−CH2−、−CH2CH2−もしく
は芳香環に結合された酸素原子を有する−OCH2
−で、RおよびR1は式において定義したとお
りである〕式の化合物と反応させ、 H2N−Y−X″ () 〔こゝでYは式で定義したとうりで、X″は
−OH、−COOH、−CO−O−アルケニル、−O−
CO−アルケニルで、上記の基においてアルケニ
ル部分の炭素数は2−4である。〕 必要ならば、中間物として生成したアミドカル
ボン酸を環化し、かつ、所望により、引続いてこ
のイミドをX″がXおよびX′とは異なる式およ
び式の化合物に転化することにより製造するこ
とができる。 Aが−O−でEが−CH3であり、かつ、R,
R1およびYが式もしくはにおいて定義され
たとおりである式およびの化合物は、Aが−
OCH2−である式およびの化合物をAが−O
−で、Eが−CH3である式およびの化合物
に、加熱によりまたは塩基触媒の存在下に、転位
させることによつて得ることができる。 式の化合物およびA′が−CH2−である
式の化合物が知られており、あるいはそれ自
体知られた方法により製造されうる。A′が−
CH2CH2−もしくは−OCH2−である式の化
合物は、例えば環置換されてもよい5−フエニル
吉草酸エステルもしくはフエノキシ酪酸エステル
をシユウ酸ジエステルと反応させて3−フエニル
プロピル−もしくは2−フエノキシエチル−オキ
サロ酢酸ジエステルを生成させ、ついで反応生成
物を強酸、例えば濃硫酸によつて処理することに
よつて製造されうる。 式のアミンの式の酸無水物との反応
は反応物を約250℃までの温度に加熱することに
より溶融物で行なわれうるか、または、水性、水
−有機もしくは有機媒体中で行なわれうる。有機
溶剤は特に非プロトン性有機溶剤、例えばハロゲ
ン化されてもよい脂肪族もしくは芳香族炭化水
素、環状エーテル、環状アミド、脂肪族モノカル
ボン酸のN,N−ジアルキルアミドまたは上記の
タイプのジアルキルスルホキシドである。 中間生成物として生成され得るアミドカルボン
酸はそれ自体知られた方法で、化学的に、または
加熱によつてイミドに環化されうる。 X″がXおよびX′と相違している式および
の化合物への転化は、同様にそれ自体知られた方
法で行なわれうる。 例えば、 X′=−COCl:遊離酸を塩化チオニル、塩化オ
キサリルもしくはホスゲンのような塩素
化剤で処理する。 X=−CO−O−アルケニル:対応する遊離酸
もしくは酸塩化物を不飽和エステルまた
はアルコールと共に酸もしくは塩基の存
在下に反応させる。 X=−O−CO−アルケニル:X′が−OHであ
る式の化合物を対応する不飽和酸、酸
塩化物またはエステルと反応させる。 本発明のポリマーは光架橋性であつて、例えば
オフセツト印刷工程の版面の製造、光オフセツト
ラツカーの製造および在来のものでない写真、例
えば露出と現像の後に見るのが困難なポリマーの
写像の着色(この着色は適当な染料、例えば油溶
性染料、または、もしポリマーがカルボン酸基も
しくはスルホン酸基のような酸基を含むならばカ
チオン染料で行なわれる)に適している。本発明
のポリマーは、特にそれ自体知られた方法による
プリント回路の製造に、いわゆるフオトレジスト
(photoresist)として用いられる。この場合、感
光層をもつた導体板が導体の写像を含む透明ネガ
を通して露出され、かつ、ついで現像され、その
後その層の未露出部分は現像液によつて除去され
る。露出は日光、炭素アーク燈またはキセノラン
プで行われる。有利には、露出は水銀高圧ランプ
で行われる。基材は感光ポリマーで、それ自体慣
用の方法、例えば浸漬法、スプレー塗、遠心機塗
(whirlercoating)、段階塗またはカーテイン塗あ
るいはいわゆる“ローラー塗”によつて被覆され
うる。 実施例 1 メチルビニルエーテルと無水マレイン酸との共
重合体(1:1、無水マレイン酸含量、0.64モ
ル、重量平均分子量740000)100g、N−(2′−ヒ
ドロキシエチル)−3,4−ジヒドロナフタレン
−1,2−カルボキシイミド77.8g(0.32モル)
およびピリジン10mlを乾燥テトラヒドロフラン
1820ml中に溶解する。反応混合物を撹拌下に72時
間、80℃に保つ、室温(20−25℃)に冷却後、透
明な溶液をジエチルエーテル5中で沈澱させ、
沈澱を真空で乾燥する。白色のポリマー141.0g
(理論値の79.3%)が得られる。元素分析用にポ
リマーの試料が0.1NHCl中で沈澱される。分子
量1316150。 元素分析値 C55.3% H5.9% N2.23% 実施例 2−6 実施例1と同様な方法で、表1中に示された成
分を用いて、ポリマーを製造した。 得られたポリマーのNの元素分析値および収率
はそれぞれ次表のようであり、重量平均分子量は
第1表に示した。 実施例 Nの元素分析値 収 率 (%) (%) 2 2.3 68 3 2.4 71 4 3.38 65 5 2.3 72 6 2.25 70
【表】 実施例 7 重量平均分子量が約13000、残留アセテート含
量12%のポリビニルアルコール4.1gを無水のピ
リジン36.6mlと15時間、100℃において加熱する。
ついで、さらに36.6mlの無水のピリジンを添加し
て溶液を50℃に急冷する。0.59gのジアザビシク
ロオクタンを3.7mlの無水のピリジンに溶解して
添加する。すぐに引続いて12.9g(0.038モル)
のN−(カプロン酸クロライド)−3,4−ジヒド
ロナフタレン−1,2−ジカルボキシイミドを少
しづつ添加して、4時間、50℃において撹拌す
る。室温に冷却してのち、90mlのアセトンを添加
する。沈澱したピリジニウム塩化水素塩を濾別
し、濾液は2の水中で沈澱される。P2O5上で
乾燥して褐色をおびたポリマー10g(理論値の
75.8%)が得られる。このポリマーの粘度、ηイ
ンヘレント(0.5重量%、N,N−ジメチルホル
ムアミド中、25℃において測定)は0.3dl/gを
示し、これは重量平均分子量85000に相当する。 実施例 8 N−(2′−メタクリロイロキシエチル)−3,4
−ジヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸イ
ミド31.1g(0.1モル)をα,α′−アゾイソブチロ
ニトリル0.31gとともに140mlのテトラヒドロフ
ラン中に溶解する。反応混合物を窒素雰囲気中
で、おだやかな還流下(約80℃)に断えず撹拌し
ながら6時間重合する。反応終了後、室温に冷却
される。ポリマーは反応液を2のn−ヘキサン
中に滴注することにより沈澱される。白色粉末
24.4g(理論値の78.5%)が得られる。インヘレ
ント粘度は0.15dl/g(0.5重量%、N,N−ジ
メチルホルムアミド中、20℃において測定)であ
り、これは重量平均分子量100000に相当する。 実施例 9−14 実施例8と同様な反応条件下に、さらに感光性
ポリマーが製造される。その製造およびクロロホ
ルム中での粘度は第表中に示される。
【表】 実施例 15 この例は本発明のポリマーの光架橋によりつく
り出され、かつ、着色によつてより明白にされる
写像ならびにこのようにして得られた写像の比感
度の測定に関する。真空卓から40cmの距離で400
ワツトの水銀蒸気高圧ランプに露出される。スト
ウフアーステツプウエツジ(Stauffer
stepwedge)が、W.S.De Forest著
“Photoresist,Material and Processes”110頁
(1975年ニユーヨークMcGraw−Hill Book
Company)に記載されているように、オリジナ
ルとして用いられる。 被覆加工:光架橋しうるポリマーは、1000回
転/分の遠心機により、5%N,N−ジメチルホ
ルムアミド溶液でアルミニウム板(約0.3mm)上
に塗布される。 現像:テトラヒドロフラン中で3秒、3%
NaHCO3・H2O中で30秒。 着色:絵のように架橋されたポリマーは、つい
でカチオン染料で軽く着色される。例え
ば、次式の染料の5%水溶液中で30秒着色
される。 第3表に、対応した露出時間において、ステツ
プウエツジ中の着色された階段の数が示されてい
る。
【表】 実施例 16 この例は、銅被覆加工した板上で本発明のポリ
マーの光架橋により、つくり出された写像に関す
る。用いられたオリジナルはストウフアーステツ
プウエツジであり、真空卓から40cmの距離で400
ワツトの水銀蒸気高圧燈に露出される。露出後、
画像はクロロホルム浴中で現像され、ブランクの
銅部分はFeCl3溶液中でのエツチングによつて、
より明瞭にされる。 被覆加工:ポリマーは1000回転/分の遠心機に
より、5%N,N−ジメチルホルムアミド溶液で
銅被覆加工したエポキシド板上に塗布される(乾
燥ポリマー層の厚さは約1−3nm) 第表に、対応する露出時間においてステツプ
ウエツジ中の写像されたストツプの数が示されて
いる。
【表】
【表】 光によつて架橋されうるポリマーの式または
の出発物質を製造するための実施例 実施例 (a) N−(2′−ヒドロキシエチル)−3,4−ジヒド
ロナフタレン−1,2−ジカルボキシイミド 3,4−ジヒドロナフタレン−1,2−ジカル
ボン酸無水物〔Organic syntheses,Col.,
Vol.2,194(1943)により製造〕70g(0.35モル)
およびエタノールアミン23.5g(0.385モル)の
氷酢酸1.7中への溶液を24時間還流下に保持す
る。ついで氷酢酸を留去する。残留物を2の無
水エタノール中に溶解し、50gのイオン交換体
(Fluka A.G.の“Dowex 50W”)を添加し、懸
濁液を24時間還流下に保持した。ついで、イオン
交換体を濾別し、エタノールを留去し、残留物を
ジエチルエーテル/エタノールから再結晶した。
N−(2′−ヒドロキシエチル)−3,4−ジヒドロ
ナフタレン−1,2−ジカルボキシイミド61.8g
(理論値の73%)が得られた。融点120.5−121℃。 実施例 (b) N−(2′−ヒドロキシエチル)−6,7−ジヒド
ロ−5H−ベンゾシクロヘプテン−8,9−ジ
カルボン酸イミド 1 6,7−ジヒドロ−5H−ベンゾシクロヘプ
テン−8,9−ジカルボン酸無水物15gのトル
エン150ml中への溶液に室温(20−25℃)でエ
タノールアミン4.5gが添加される。2時間、
還流下に加熱し、生成された水を連続的に水分
離器で除去する。ついでトルエンを留去し、残
留物をエタノールから再結晶する。融点115℃
の黄色結晶1.4g(理論値の82%)が得られる。 つぎの第2,3および4節中で6,7−ジヒ
ドロ−5H−ベンゾシクロヘプテン−8,9−
ジカルボン酸無水物の製造が記述される。 2 5−フエニル吉草酸エチルエステル 5−フエニル吉草酸250g(1.4モル)を無水
エタノール450ml中に溶解する。透明無色の溶
液に114mlの濃硫酸を添加し、反応混合物を48
時間、還流下に加熱する。最初2相の反応物は
大体均一となり、冷却すると再度2相に分離す
る。冷たい2相の反応物をジエチルエーテルと
約1Kgの氷の上に注ぐ。水相をさらに2回エー
テルで抽出する。エーテル相を、2度、2N−
炭酸ソーダ溶液で洗滌し、2度、食塩溶液で洗
滌する。一緒にされたエーテル相をMgSO4
で乾燥し、溶液を回転蒸発器で除去する。室温
で、高真空中において乾燥したのち、無色の油
状物281.7g(理論値の97.5%)が得られる。 この粗製品はさらに用いられる〔第4節参
照〕 3 3−フエニルプロピル−オキサロ酢酸エチル
エステル n−ペンタン中に55%濃度で存在する71.8gの
水素化ナトリウムの分散液を、窒素雰囲気中で
デカンテーシヨンし、二度ジエチルエーテルで
洗浄し、さらに純ジエチルエーテル3加えて
調製された、油を含まない水素化ナトリウムの
ジエチルエーテル懸濁液を還流状態とする。沸
とうしている懸濁液に281.7g(1.36モル)の
5−フエニル吉草酸エチルエステルと297g
(1.36モル+50%)のシユウ酸ジエチルエステ
ルとの混合物を約6時間で滴下する。反応物
を、ついで、総計66時間還流状態に保持する。
薄層クロマトグラム(CHCl3)中に、極めて僅
かな出発物質(RF約0.6)に並んでRF約0.5の主
斑点(main spot)が存在する。冷却後、反応
物を500gの氷と1.05当量のHCl(2N HCl530
ml)上に注ぐ。水相をジエチルエーテルで抽出
し、そのジエチルエーテル相をMgSO4上で乾
燥し、真空中でそのジエチルエーテルを除去す
る。真空乾燥後、シユウ酸エステルを含有する
赤味を帯びた油状物520gが得られる。この粗
製品は、さらに直接に用いられる。 4 6,7−ジヒドロ−5H−ベンゾシクロヘプ
テン−8,9−ジカルボン酸無水物 90%硫酸240mlを0−5℃に冷却する。この温
度においてエステルC30gを約15−20分以内に
滴下する。暗黄色から赤味を帯びた溶液が生成
する。反応物を室温まで解けるままにし、反応
の進行を薄層クロマトグラフイーにより追跡す
る。約3−4時間後、出発物質はもはや認めら
れない。薄層クロマトグラム(CHCl3)、出発
物質のRF約0.7、反応生成物のRF約0.8。 反応物を1.5の氷と生成する水相に飽和す
るのに十分なNaCl(約500g)上に注ぐ。激し
く撹拌すると白色の、結晶性の沈澱が分離す
る。これを吸収濾過し、濾斗上の沈澱を強く吸
引し、ジエチルエーテル中にとり、不溶成分か
ら分離する。エーテル溶液をMgSO4上で乾燥
し、回転蒸発器で濃縮し、高真空で乾燥する。 生成物Dの第1部分:水相はジエチルエーテ
ルで抽出し、そのジエチルエーテルをNaCl−
溶液で洗滌し、乾燥し、回転蒸発器でエーテル
を除去する。 生成物Dの第2の部分:薄層クロマトグラム
に基いて最初の部分と実際上同一である両方の
部分を一緒にしてイソプロパノールから再結晶
する。弱い帯黄色の結晶の形で化合物Dが10g
(理論値の47%)得られる。融点112−113℃。 実施例 (c) N−(2′−ヒドロキシエチル)−2−メチル−
2H−クロメン−3,4−ジカルボキシイミド
およびN−(2′−ヒドロキシエチル)−2,3−
ジヒドロ−1−ベンゾキセピン−4,5−ジカ
ルボキシミド
【式】および
【式】 48.65g(0.2モル)の2,3−ジヒドロ−1−
ベンゾキセピン−4,5−ジカルボン酸無水物お
よび13.4g(0.22モル)のエタノールアミンの1.5
の氷酢酸溶液を2日間還流下に保持する。つい
で氷酢酸を留去し、残留物を2の無水エタノー
ル中に溶解し、70gのイオン交換体(Fluka AG
の“Dowex50”)を添加し、懸濁液を2日間還流
下に保持する。ついでイオン交換体を濾別し、メ
タノールを留去し、残留物を珪酸ゲルカラム(溶
剤はトルエン/酢酸エチル容量比2:1)で分離
する。最初のフラクシヨン(RF約0.3)はN−
(2′−ヒドロキシエチル)−2−メチル−2H−ク
ロメン−3,4−ジカルボキシイミド(化合物
A)9.3g(理論値の18%)を黄色結晶として含
有する。融点124℃。 第2のフラクシヨン(RF約0.2)はN−(2′−ヒ
ドロキシエチル)−2,3−ジヒドロ−1−ベン
ゾキセピン−4,5−ジカルボキシイミド(化合
物B)を41.5g(理論値の80%)含有する。融点
136−137℃(CH2Cl2/n−ヘキサンから再結
晶)。 出発物質〔2,3−ジヒドロ−1−ベンゾキセ
ピン−4,5−ジカルボン酸無水物〕はつぎのよ
うにして製造され得る。 鉱油中の50%水素化ナトリウム分散液5gの50
mlジエチルエーテル中への懸濁液に、撹拌しなが
ら、15℃の温度において22g(0.15モル)シユウ
酸ジエチルエステルを100mlのジエチルエーテル
に溶解した溶液を滴下する。ついで2時間、室温
において撹拌する。これに、フエノキシ酪酸エチ
ルエステル(Powell and Adams,J.Amer.
Chem.Soc.,42,652(1920)によつて製造)21g
(0.10モル)のジエチルエーテル100ml中への溶液
に急速に添加し、ついで10時間、還流下に煮沸す
る。冷却後、エタノール1mlを添加し、ついで氷
100gと水150mlの混合物上に注ぐ。水相を2N塩
酸でPH3に対する。分液ロート中でこの層を分離
し、この水相をさらに250mlのジエチルエーテル
で抽出する。エーテル抽出液を一緒にして水100
mlで洗滌し、ついで硫酸マグネシウム上で乾燥
し、水流ポンプの真空下に蒸発濃縮する。残留物
として粗製の2−フエノキシエチルオキサロ酢酸
ジエチルエステル30.8g(理論値どおり)が弱い
帯赤色の油状物で得られる。 225mlの濃硫酸と25mlの水の氷冷された混合物
に、撹拌下に30.8g(0.10モル)の粗製の2−フ
エノキシエチルオキサロ酢酸ジエチルエステルを
15分以内5−10℃の温度において滴下する。つい
で反応温度を15℃に上昇させ、この温度で1時間
撹拌する。それから、反応混合物を撹拌下に氷
1000gと水1500mlの混合物に注ぐと、2,3−ジ
ヒドロ−1−ベンゾキセピン−4,5−ジカルボ
ン酸無水物が沈澱する。これを吸引濾過し、イソ
プロパノールから再結晶する。2,3−ジヒドロ
−1−ベンゾキセピン−4,5−ジカルボン酸無
水物14g(理論値の64.7%)が得られる。融点
142−143℃。 実施例 (d) N−(3′−ヒドロキシ−2′,2′−ジメチルプロピ
ル)−3,4−ジヒドロナフタレン−1,2−
ジカルボン酸イミド 200g(0.1モル)の3,4−ジヒドロナフタレ
ン−1,2−ジカルボン酸無水物および1.03g
(0.1モル)の2,2−ジメチル−3−アミノプロ
パノールを60mlのトルエン中に溶解し、2時間還
流下に煮沸する。この際生成する水は水分離器で
分離される。反応終了後、真空で60℃において乾
燥まで蒸発する。残留物をエタノールから再結晶
する。N−(3′−ヒドロキシ−2′,2′−ジメチルプ
ロピル)−3,4−ジヒドロナフタレン−1,2
−ジカルボン酸イミド25.1g(理論値の87.9%)
25.1gが得られる。融点87.5−88℃。 C17H19O3N(分子量285)としての元素分析 計算値 C71.56% H6.71% N4.91% 分析値 C70.74% H6.93% N4.75% 実施例 (e) N−(3′−ヒドロキシ−2′,2′−ジメチルプロピ
ル)−6,7−ジヒドロ−5H−ベンゾシクロヘ
プテン8,9−ジカルボン酸イミド 21.4g(0.1モル)の6,7−ジヒドロ−5H−
ベンゾシクロヘプテン−8,9−ジカルボン酸無
水物と10.3g(0.1モル)の2,2−ジメチル−
3−アミノプロパノールを60mlのトルエン中に溶
解し、1時間還硫下に煮沸する。この際生成する
水は反応器の下流に接続された水分離器により分
離される。室温に冷却後、沈澱した結晶を濾別す
る。N−(3′−ヒドロキシ−2′,2′−ジメチルプロ
ピル)−6,7−ジヒドロ−5H−ベンゾシクロヘ
プテン−8,9−ジカルボン酸イミド28.9g(理
論値の96.6%)が得られる。融点152−153℃。 C18H21O3N(分子量299)としての元素分析値 計算値 C72.22% H7.07% N4.68% 分析値 C72.07% H7.12% N4.73% 実施例 (f) N−(2′−メタクリロイロキシエチル)−3,4
−ジヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸
イミド 24.3g(0.1モル)のN−(2′−ヒドロキシエチ
ル)−3,4−ジヒドロナフタレン−1,2−ジ
カルボン酸イミド、12.9g(0.15モル)のメタク
リル酸、1.6mlの濃硫酸および1.0gの2,6−ジ
−tert−ブチル−p−クレゾールをトルエン中に
溶解し、2時間還流下に煮沸する。この際生成す
る水は反応器の下流に接続された水分離器により
分離される。ついで、室温まで冷却する。反応溶
液に5.52g(0.075モル)の水酸化カルシウムを
添加し、5分間撹拌する。濾過したのち、濾液を
60℃において真空で乾燥まで蒸発する。N−
(2′−メタアクリロイロキシエチル)−3,4−ジ
ヒドロナフタリン−1,2−ジカルボン酸イミド
28.8g(理論値の95.7%)が得られる。 NMRスペクトル:H2C=Cプロトン5.8および
6.05ppm(TMS=O) C18H17NO4(分子量311.33)としての元素分析 計算値 C69.45% H5.46% N4.50% 分析値 C68.65% H5.42% N4.67% 実施例 (g) 3,4−ジヒドロナフタレン−1,2−ジカル
ボン酸無水物20gと6−アミノカプロン酸13.1g
(0.1モル)との酢酸130ml中への溶液を6時間還
流下に煮沸する。反応溶液を蒸発濃縮する。融点
109−111℃の黄色、固体の生成物が100mlの四塩
化炭素から再結晶される。 収量:23.9(理論値の76.2%)、融点108−111℃
黄色結晶。 分析: 計算値 C69.00% H6.11% N4.47% 分析値 C68.78% H6.12% N4.69% NMR−スペクトル(DMSOCH6):7.9〔1H〕;
7.15〔3H〕;3.40〔2H,t〕;3.00〔2H,
t〕;2.60〔2H,t〕;2.20〔2H,t〕;
1.8−1.1〔6H,Mp〕 実施例 (h) 実施例(g)により得られたN−(カプロン酸)−
3,4−ジヒドロナフタレン−1,2−ジカルボ
キシミド2g(0.0062モル)およびチオニルクロ
ライド0.51ml(0.007モル)を10mlのジクロロメ
タンに溶解し、24時間室温において撹拌する。つ
いで3時間で還流まで加熱し、乾燥するまで蒸発
する。2g(理論値の94.4%)の油状生成物が得
られ、これは24時間後に結晶する。融点65−67
℃。 分析: 計算値 C65.16% H5.47% N4.22% Cl10.69% 分析値 C65.34% H5.54% N4.31% Cl9.51% 実施例 (i) N−(2′−ヒドロキシエチル)−3,4−ジヒド
ロナフタレン−1,2−ジカルボン酸イミド
60.82g、アクリル酸24.51g(0.34モル)および
化学的に純粋なH2SO45mlのトルエン240ml中へ
の溶液に1.2gの酢酸第2銅を添加して1.5時間還
流下に煮沸する。この際生成する水(4.5ml)は
水分離器により分離される。 室温に冷却された溶液を8%NaHCO3溶液300
mlで中和する。水相を400mlのトルエンで2度抽
出する。有機層を100mlの水で洗滌し、乾燥し蒸
発濃縮する。 収量:53.3g(理論値の71.65%)、融点86−89
℃。 分析: 計算値 C68.68% H5.09% N4.71% 分析値 C68.36% H5.1 % N4.74%

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重量平均分子量が1000〜1500000であり、ポ
    リマーの繰返し構造単位の数に基いて、少なくと
    も5%の式()のイミジル側基を有し、 〔こゝで、RおよびR1は水素、Aは−CH2−、
    −CH2−CH2−または芳香環に結合した酸素原子
    を有する−OCH2−で、かつ、Eは水素、あるい
    はAは−O−で、かつ、Eは−CH3である。〕 かつ、反応性C=C二重結合を含むモノマーか
    ら誘導されたホモポリマーまたはコポリマーであ
    る光架橋性ポリマーであつて、このポリマーは a ポリマー鎖中の繰返し構造単位の数に基いて
    5−100%の、式()、()および()か
    らなる群より選ばれた分子鎖メンバー および 〔こゝで、“imidyl”は式()の基であり、 Yは炭素数1−30のアルキレン基で基Yは置換
    されてもよい、 Q1は水素またはメチル基、 Zは−O−、 Z2は−O−である。〕、 および b ポリマー鎖中の繰返し構造単位の数に基いて
    95−0%の、式()の構造単位 〔こゝで、X1およびX3はそれぞれ水素、 X2は水素またはメチル基、 X4は水素、ピリジル基、ピロリジル基、アル
    キル部分の炭素数が1−12の−COO−アルキ
    ル基、アルキルの炭素数が1−4の−OCO−
    アルキル、炭素数1−6のアルコキシ基、ある
    いは X1およびX2はそれぞれ水素で X3およびX4は一緒に基【式】また はそれぞれ−COOHである。〕 を含むことを特徴とする光架橋性ポリマー。 2 式()のイミジル基の割合が、ポリマーの
    繰返し構造単位の数に基いて20−100%である特
    許請求の範囲第1項記載のポリマー。 3 式()の構造単位においてX1およびX3
    はそれぞれ水素、X2は水素またはメチル基で、
    X4は−OCOCH3、またはアルキルの炭素数が1
    −8の−COO−アルキルまたは−OCH3である特
    許請求の範囲第1項記載のポリマー。 4 式()のイミジル基において、Rおよび
    R1はそれぞれ水素、Aは−CH2−、−CH2CH2
    または芳香環に結合した酸素原子を有する−
    OCH2−で、かつEは水素であり、Yは炭素数2
    −11の直鎖または分枝鎖アルキレン基、Zおよび
    Z2は−O−、Q1は水素またはメチル基で、かつ
    X1およびX3はそれぞれ水素、X2は水素またはメ
    チル基である特許請求の範囲第1項に記載された
    ポリマー。
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