JPS6324057A - ドライプレ−テイング装置 - Google Patents
ドライプレ−テイング装置Info
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- JPS6324057A JPS6324057A JP16671686A JP16671686A JPS6324057A JP S6324057 A JPS6324057 A JP S6324057A JP 16671686 A JP16671686 A JP 16671686A JP 16671686 A JP16671686 A JP 16671686A JP S6324057 A JPS6324057 A JP S6324057A
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
ドライプレーティング装置に関しこの明細書では、被膜
の材質および膜厚の均一化を実現することについての開
発研究の成果を述べる。
の材質および膜厚の均一化を実現することについての開
発研究の成果を述べる。
最近、真空蒸着や、スパッタリング、イオンブレーティ
ング、さらには化学的気相蒸着（ＣＶＤ） などのドラ
イプレーティング技術が各分野で使用されている。
ング、さらには化学的気相蒸着（ＣＶＤ） などのドラ
イプレーティング技術が各分野で使用されている。
（従来の技術）
ドライプレーティング処理に用いるドライプレーティン
グ装置については、例えば大塚、金属表面技術、Ｖｏｌ
、３５、Ｎｏ、 ｌｐ、 ２５−３１ （１９８４）
！：開示がある。
グ装置については、例えば大塚、金属表面技術、Ｖｏｌ
、３５、Ｎｏ、 ｌｐ、 ２５−３１ （１９８４）
！：開示がある。
ところでドライフッ−ティング処理は、高真フ゛又は減
圧雲囲気に保たれた処理室内にガスを導入するとともに
、蒸発源から蒸発物を導入ガス中に蒸発させて両者を結
合してから被処理材に付着させるのが一般的であるが、
蒸発物と導入ガスとの関係にお°ハて次の点を一問題と
して指摘できる。
圧雲囲気に保たれた処理室内にガスを導入するとともに
、蒸発源から蒸発物を導入ガス中に蒸発させて両者を結
合してから被処理材に付着させるのが一般的であるが、
蒸発物と導入ガスとの関係にお°ハて次の点を一問題と
して指摘できる。
すなわち蒸発物と導入ガスとの適正な割合での結合が達
成されないと、膜質および膜厚が不均一となる。
成されないと、膜質および膜厚が不均一となる。
また従来のガス導入は処理室内にガスを供給する形式で
あるため、処理室内で導入ガス濃度が不均一となって蒸
発物との結合効率が低下して多量の無効ガスが発生する
ため、供給ガス量を増大しなくてはならない。
あるため、処理室内で導入ガス濃度が不均一となって蒸
発物との結合効率が低下して多量の無効ガスが発生する
ため、供給ガス量を増大しなくてはならない。
さらに処理室に導入ガスが充満すると、蒸発源付近にも
膜が生成し、長時間の安定した成膜を行うことが難しい
。
膜が生成し、長時間の安定した成膜を行うことが難しい
。
（発明が解決しようとする問題点）
そこで導入ガスの吹出しの改善によって導入ガスと蒸発
物との結合の適正化をはかり得るドライプレーティング
装置を提供することが、この発明の目的である。
物との結合の適正化をはかり得るドライプレーティング
装置を提供することが、この発明の目的である。
（問題点を解決するための手段）
この発明は、処理室内に導入したガスと蒸発源からの蒸
発物とを結合させて被処理材への蒸着を行うドライプレ
ーティング装置において、上記蒸発源からの蒸発流を対
称中心として蒸発流に沿って配した１対のガス吹出装置
につき、蒸発流に対するガス吹出方向を上向きに設定し
たことを特徴とするドライプレーティング装置、および
処理室内に導入したガスと蒸発源からの蒸発物とを結合
させて被処理材への蒸着を行うドライプレーティング装
置において、上記蒸発源からの蒸発流を対称中心として
蒸発流に沿って配°し、蒸発流に対するガス吹出方向を
上向きに設定した１対のガス吹出装置および、上記被処
理材の直下に、上記ガス吹出装置に対応して設け、余、
剰ガスを吸込む余剰ガス排出装置をそなえてなるドライ
プレーティング装置である。
発物とを結合させて被処理材への蒸着を行うドライプレ
ーティング装置において、上記蒸発源からの蒸発流を対
称中心として蒸発流に沿って配した１対のガス吹出装置
につき、蒸発流に対するガス吹出方向を上向きに設定し
たことを特徴とするドライプレーティング装置、および
処理室内に導入したガスと蒸発源からの蒸発物とを結合
させて被処理材への蒸着を行うドライプレーティング装
置において、上記蒸発源からの蒸発流を対称中心として
蒸発流に沿って配°し、蒸発流に対するガス吹出方向を
上向きに設定した１対のガス吹出装置および、上記被処
理材の直下に、上記ガス吹出装置に対応して設け、余、
剰ガスを吸込む余剰ガス排出装置をそなえてなるドライ
プレーティング装置である。
また実施に当り、蒸発流に対するガス吹出方向を、蒸発
流とガス吹出方向との交角が６０°以下の範囲に設定す
ることが有利に適合する。
流とガス吹出方向との交角が６０°以下の範囲に設定す
ることが有利に適合する。
さて第１図に、この発明に従うドライプレーティング装
置を示す。
置を示す。
図中１はＴｉ、 ＡＩなどの蒸発物２を収容した蒸発源
、３は図示しない加熱装置によって蒸発物２を蒸発させ
た蒸発パーティクル、４はガス吹出装置、５はガスパー
ティクノベ６は必要な場合に設けられるノ＼イアス電圧
を印加するグリッド、７は余剰ガス排出装置、８は金属
ストリップのような被処理材、９は被膜、１０は高真空
二囲気に保持される処理室、１１は排気ダクト、１２は
真空ポンプである。
、３は図示しない加熱装置によって蒸発物２を蒸発させ
た蒸発パーティクル、４はガス吹出装置、５はガスパー
ティクノベ６は必要な場合に設けられるノ＼イアス電圧
を印加するグリッド、７は余剰ガス排出装置、８は金属
ストリップのような被処理材、９は被膜、１０は高真空
二囲気に保持される処理室、１１は排気ダクト、１２は
真空ポンプである。
蒸発源１は第２図に示すように、少なくとも被処理材８
と同等の長さのスリット状開口１３をそなえ、図示しな
い加熱装置によりスリット状開口１３に沿って均一な加
熱が施される。
と同等の長さのスリット状開口１３をそなえ、図示しな
い加熱装置によりスリット状開口１３に沿って均一な加
熱が施される。
またガス吹出装置４は第３図に示すように、ガスインレ
ットの位置による被処理材８の幅方向ガス圧分布−を均
一にするための大断面をそなえるヘッダー前室１４と、
該ヘッダー前室１４と連通したヘッダー１５と、該ヘッ
ダー１５に適当ピッチで取付けた丸ノズル１６と、ガス
圧分布を均一にするよう各々幅径を調整したオリフィス
１７とからなる。
ットの位置による被処理材８の幅方向ガス圧分布−を均
一にするための大断面をそなえるヘッダー前室１４と、
該ヘッダー前室１４と連通したヘッダー１５と、該ヘッ
ダー１５に適当ピッチで取付けた丸ノズル１６と、ガス
圧分布を均一にするよう各々幅径を調整したオリフィス
１７とからなる。
第４図はガス吹出装置の変形例であり、丸ノズル１６に
替えてスリットノズル１８をそなえ、ヘッダー１５に固
定したブラケット１９にそれぞれ係合した２組のボルト
列２０によって、スリットノズル１８を上下から挟み、
ボルト列２０の締め付けによってノズル１８の開口径を
調節する。
替えてスリットノズル１８をそなえ、ヘッダー１５に固
定したブラケット１９にそれぞれ係合した２組のボルト
列２０によって、スリットノズル１８を上下から挟み、
ボルト列２０の締め付けによってノズル１８の開口径を
調節する。
さらに余剰ガス排出装置７は第５図に示すように、被処
理材８の底面に沿って二手に分流した導入ガスの吸込み
口となるスリットノズル２１と、導入ガスの吸込みを司
るヘッダー２２と、ヘッダー２２を収容したブラケット
２３とをそなえ、ブラケット２３に係合した２組のボル
ト列２４の締付けによってスリットノズル２１の開度を
調整する。
理材８の底面に沿って二手に分流した導入ガスの吸込み
口となるスリットノズル２１と、導入ガスの吸込みを司
るヘッダー２２と、ヘッダー２２を収容したブラケット
２３とをそなえ、ブラケット２３に係合した２組のボル
ト列２４の締付けによってスリットノズル２１の開度を
調整する。
なお上記したガス吹出装置４および余剰ガス排出装置７
の各スリットノズルは、その開度調整が容易なように、
自由に弾性変形できる材質からなる。
の各スリットノズルは、その開度調整が容易なように、
自由に弾性変形できる材質からなる。
次に蒸着処理の手順について説明する。
まず蒸発源１から蒸発物２を被処理材８につき、その幅
方向で均一にかつ底面に直角に当るように蒸発させる。
方向で均一にかつ底面に直角に当るように蒸発させる。
この蒸発流に対して、ガス吹出装置４からのガスが同−
流を形成するようにガスの吹出しを行う。
流を形成するようにガスの吹出しを行う。
すなわち第６図に示すように、蒸発源１の中心から被処
理材８の底面と垂直をなす面Ｐに対して、ガス吹出装置
４を対称位置に配するとともに、そのノズルからのガス
の吹出し方向を角度θとすることによって、蒸発パーテ
ィクル３の高濃度領域にガスパーティクル５を結合させ
るわけである。
理材８の底面と垂直をなす面Ｐに対して、ガス吹出装置
４を対称位置に配するとともに、そのノズルからのガス
の吹出し方向を角度θとすることによって、蒸発パーテ
ィクル３の高濃度領域にガスパーティクル５を結合させ
るわけである。
なお角度θは６０°以下とするのが好適である。
これは、角度θが６０ ’ ４こえると、蒸発流に対し
て直角方向の分力が大きくなって、蒸発流を乱してしま
い、膜質を不均一にするからである。なお角度θの下限
については、とくに規定しないが、０°では蒸発流とガ
ス噴出方向が平行となって蒸発パーティクルとガスパー
ティクルとの化合はほとんど望めないので、少なくとも
０°を超える角度とする。
て直角方向の分力が大きくなって、蒸発流を乱してしま
い、膜質を不均一にするからである。なお角度θの下限
については、とくに規定しないが、０°では蒸発流とガ
ス噴出方向が平行となって蒸発パーティクルとガスパー
ティクルとの化合はほとんど望めないので、少なくとも
０°を超える角度とする。
ついで被処理材８の底面に達した余剰ガスを、該底面直
下において上記した面Ｐを中心に対称に配した余剰ガス
排出装置７のスリットノズル２１から吸込む。
下において上記した面Ｐを中心に対称に配した余剰ガス
排出装置７のスリットノズル２１から吸込む。
したがって処理室１０内に導入するガスは、ガス吹出装
置４と余剰ガス排出装置７との間で理想的な上昇流を形
成することになり、蒸発パーティクル３とガスパーティ
クル５との均一な化合を実現できる。
置４と余剰ガス排出装置７との間で理想的な上昇流を形
成することになり、蒸発パーティクル３とガスパーティ
クル５との均一な化合を実現できる。
（発明の効果）
この発明装置を用いれば、蒸発物と導入ガスとの均一な
結合を実現でき、よって膜質および膜厚の均一化をはか
り得る。
結合を実現でき、よって膜質および膜厚の均一化をはか
り得る。
第１図はこの発明に従うドライプレーティング装置の説
明図、 第２図は蒸発源の斜視図、 第３図はガス吹出装置の説明図、 第４図は別のガス吹出装置を示す説明図、第５図は余剰
ガス排出装置の説明図、 第６図はガス吹出し方向を説明する模式図、である。 １・・・蒸発源 ２・・・蒸発物３・・・
蒸発パーティクル ４・・・ガス吹出装置５・・・ガ
スパーティクル ６・・・グリッド７・・・余剰ガス
排出装置 訃・・被処理材９・・・被膜
１０・・・処理室１１・・・排気ダクト１２・・・
真空ポンプ出 願 人 川崎製鉄株式会社 代理人弁理士 杉 村 暁 秀同弁理士 杉
村 興 作 第３図 断面口 ４１１面図！７オり肴又
明図、 第２図は蒸発源の斜視図、 第３図はガス吹出装置の説明図、 第４図は別のガス吹出装置を示す説明図、第５図は余剰
ガス排出装置の説明図、 第６図はガス吹出し方向を説明する模式図、である。 １・・・蒸発源 ２・・・蒸発物３・・・
蒸発パーティクル ４・・・ガス吹出装置５・・・ガ
スパーティクル ６・・・グリッド７・・・余剰ガス
排出装置 訃・・被処理材９・・・被膜
１０・・・処理室１１・・・排気ダクト１２・・・
真空ポンプ出 願 人 川崎製鉄株式会社 代理人弁理士 杉 村 暁 秀同弁理士 杉
村 興 作 第３図 断面口 ４１１面図！７オり肴又
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、処理室内に導入したガスと蒸発源からの蒸発物とを
結合させて被処理材への蒸着を行うドライプレーティン
グ装置において、 上記蒸発源からの蒸発流を対称中心として蒸発流に沿っ
て配した１対のガス吹出装置につき、蒸発流に対するガ
ス吹出方向を上向きに設定したことを特徴とするドライ
プレーティング装置。 ２、処理室内に導入したガスと蒸発源からの蒸発物とを
結合させて被処理材への蒸着を行うドライプレーティン
グ装置において、 上記蒸発源からの蒸発流を対称中心として蒸発流に沿っ
て配し、蒸発流に対するガス吹出方向を上向きに設定し
た１対のガス吹出装置および、 上記被処理材の直下に上記ガス吹出装置に対応して設け
、余剰ガスを吸込む余剰ガス排出装置をそなえてなるド
ライプレーティング装置。 ３、蒸発流に対するガス吹出方向を、蒸発流とガス吹出
方向との交角が６０℃以下の範囲に設定したことを特徴
とする特許請求の範囲第１又は２項に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61166716A JPH0742581B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | ドライプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61166716A JPH0742581B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | ドライプレ−テイング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6324057A true JPS6324057A (ja) | 1988-02-01 |
| JPH0742581B2 JPH0742581B2 (ja) | 1995-05-10 |
Family
ID=15836433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61166716A Expired - Lifetime JPH0742581B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | ドライプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0742581B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009235545A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Toray Ind Inc | 金属酸化物薄膜形成装置ならびに金属酸化物薄膜付きシートの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS637159U (ja) * | 1986-07-01 | 1988-01-18 |
-
1986
- 1986-07-17 JP JP61166716A patent/JPH0742581B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS637159U (ja) * | 1986-07-01 | 1988-01-18 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009235545A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Toray Ind Inc | 金属酸化物薄膜形成装置ならびに金属酸化物薄膜付きシートの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0742581B2 (ja) | 1995-05-10 |
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